「Isotropic」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The method is useful for producing the crystal-oriented ceramic which includes an isotropic perovskite-type compound as a main phase and in which a specific crystal surface A of each crystal grain constituting a polycrystalline body is oriented.例文帳に追加

等方性ペロブスカイト型化合物を主相とし、多結晶体を構成する結晶粒の特定の結晶面Ａが配向する結晶配向セラミックスの製造方法である。 - 特許庁

If the isotropic deposition and ion milling of the second material are repeated, a pattern structure having a high density pitch four times that of the pattern structure formed from the second material can be also obtained.例文帳に追加

第２の材料の等方堆積およびイオン・ミリングを反復すれば、第２の材料から形成されたものの４倍の高密度ピッチのパターン構造を得ることも可能である。 - 特許庁

In this method, the depth of a pattern can be controlled by the process performing anisotropic etching, and by the process performing isotropic etching, a curved surface structure can be produced.例文帳に追加

本発明の構成によれば、異方性エッチングを行う工程によりパターンの深さを制御することが出来、等方性エッチングを行う工程にり曲面構造にすることが出来る。 - 特許庁

Next, isotropic etching is performed to a region in which the first groove 9 is formed of the semiconductor substrate 1 using the gate electrode 3 and the sidewall 5 as the mask to form a second groove 10.例文帳に追加

次に、ゲート電極３およびサイドウォール５をマスクとして、半導体基板１の第１の溝９が形成された領域に等方性エッチングを行い第２の溝１０を形成する。 - 特許庁

A nitride silicon film formed on the main surface of a semiconductor substrate is removed by carrying out isotropic etching by plasma using the mixed gas of SF_6 gas, O_2 gas, He gas and N_2 gas.例文帳に追加

半導体基板の主面に形成された窒化シリコン膜をＳＦ_6ガスとＯ_2ガスとＨｅガスとＮ_2ガスとの混合ガスを用いたプラズマで等方性エッチングすることによって除去する。 - 特許庁

The bottom lens group arranged closest to the second object of the plurality of lens groups is formed of an isotropic crystal glass material with the refraction index of 1.6 or more and has a positive focal length.例文帳に追加

複数のレンズ群の中で第２物体に最も近い位置に配置されるボトムレンズ群は、屈折率が１.６以上の等方性結晶硝材で構成され正の焦点距離を持つ。 - 特許庁

In order to determine an optimum addition ratio of ethyl alcohol in an etching gas of a plasma etching apparatus, ethyl alcohol addition ratio is found so as to make zero an isotropic etching rate to an etching mask.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のエッチングガス中のエチルアルコールの最適添加比率の決定のために、エッチングマスクに対する等方性エッチングレートを零にするエチルアルコール添加比率が求められる。 - 特許庁

A wiring substrate is composed of an insulator mainly made of epoxy resin and ceramics with a thermal expansion coefficient of not larger than 2 ppm/°C and has an isotropic thermal expansion coefficient.例文帳に追加

主としてエポキシ樹脂と熱膨張係数２ｐｐｍ／℃以下のセラミックスとより形成された絶縁体からなり、熱膨張係数が等方的であることを特徴とする配線基板材である。 - 特許庁

The light scattering sheet optionally contains a phase separation structure composed of a plurality of resins with mutually different refractive indexes, for example an isotropic co-continuous phase structure formed with spinodal decomposition.例文帳に追加

光散乱シートは、屈折率の異なる複数の樹脂で構成された相分離構造、例えば、スピノーダル分解により形成された等方性の共連続相構造を有していてもよい。 - 特許庁

To produce a polarized light separating element with a periodic lattice in a good yield by patternwise exposing a polydiacetylene oriented film formed on an optically isotropic substrate with UV.例文帳に追加

光学的等方性基板に形成したポリジアセチレン配向膜に紫外線をパターン露光することにより周期格子が形成された偏光分離素子を歩留り良く製造すること。 - 特許庁

To provide an optically isotropic transparent crosslinked film having excellent surface hardness, and singly self-supporting properties, free from interference fringes and having excellent stainproof properties.例文帳に追加

本発明は、表面硬度に優れ、単独で自己支持性を有し、干渉縞がなく、さらには防汚性に優れ、光学的にも等方である透明架橋フィルムを提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a titanium-sheet, in which both of isotropic stretch formability and anisotropic stretch formability are excellent more than the formability of the conventional titanium-sheet, and to provide a method for manufacturing the titanium-sheet.例文帳に追加

等方的な張出成形性、非等方的な張出成形性のいずれもが従来のチタン板の成形性より優れたチタン板およびそのチタン板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the mixing process, the pulverized first anisotropic-shape powder is mixed with a fine powder forming the isotropic perovskite-type compound when it is sintered together with the first anisotropic-shape powder.例文帳に追加

混合工程においては、第１異方形状粉末と共に焼結することにより等方性ペロブスカイト型化合物を生成する微細粉末と、第１異方形状粉末とを混合する。 - 特許庁

To provide a method for analyzing molecular motion of the whole or some of molecules in a crystal, by using isotropic temperature factors and atomic coordinates obtained by a crystal structure analysis.例文帳に追加

結晶構造解析により得られる原子座標と等方性温度因子を用いて結晶内の分子全体又その一部の分子の分子運動を解析するための手段の提供。 - 特許庁

Consequently, isotropic etching is carried out on the cut surface 21d to remove the reformed region K, so the reformed region K is prevented from scattering as a fine fragment.例文帳に追加

これにより、割断面２１ｄにおいて等方性エッチングが行われ、改質領域Ｋが除去されるため、改質領域Ｋが微小片として飛散することを防止することができる。 - 特許庁

To provide a hot isotropic pressurizing device of a simple structure capable of reducing a temperature distribution in a treatment chamber, in particular, increasing a cooling speed in a cooling process.例文帳に追加

処理室内の温度分布を低減させるとともに特に冷却工程において冷却速度を速めることができかつ構造が単純な熱間等方圧プレス装置を提供する。 - 特許庁

Thermal influence to the adjacent chips may not be considered as a plurality of chips are simultaneously heated, and lateral projection of the film 14 can be prevented as the application of pressure is isotropic.例文帳に追加

複数のチップの同時加熱により隣接チップに関する熱影響を考慮しなくて良く、また等方加圧により、異方性導電膜１４の側方へのはみ出しを防止できる。 - 特許庁

A CPU performs gray scale value gradient calculation processing for R signals for instance in a step S10, performs isotropic change feature amount calculation processing from the calculated gray scale value gradient in a step S11, and performs polyp candidate detection processing of generating a polyp candidate image 26 at the existing position of a polyp from the calculated isotropic change feature amount in a step S12 further.例文帳に追加

ＣＰＵは、ステップＳ１０にて例えばＲ信号について濃淡値勾配算出処理を実行し、ステップＳ１１にて算出した濃淡値勾配より等方性変化特徴量算出処理を実行し、さらにステップＳ１２にて算出した等方性変化特徴量よりポリープの存在する位置にポリープ候補画像２６を生成するポリープ候補検出処理を実行する。 - 特許庁

The monolayer color liquid crystal display is produced using microcapsules containing a liquid crystal, a dichroic dye and isotropic dyes of the three primary colors forming complementary colors in three groups, or using liquid crystal microcapsules containing black dichroic dyes and isotropic dyes of the three primary colors sealed in separated capsules or dispersed in separate binders.例文帳に追加

単層カラー液晶ディスプレイは、液晶と２色性染料と３グループで補色の形になっている３原色の等方性染料とを含むマイクロカプセルを使用するか、あるいは別々のカプセルに封入されているか別のバインダー内に分散されている黒色２色性染料と３原色等方性染料とを含む液晶マイクロカプセルを使用して製造される。 - 特許庁

The method enabling the defect to be displayed includes adding the core-shell type branched polymer to the liquid crystal, heating the dispersion to the temperature higher than the isotropic phase temperature of the liquid crystal, and cooling the dispersion to the temperature at which the liquid crystal phase is formed, so that the branched polymer dispersed in the isotropic phase is preferentially concentrated in the defect of the liquid crystal.例文帳に追加

また、本発明の前記欠陥部位を表示可能とする方法は、前記コア-シェル型分岐状高分子を液晶に添加し、これを該液晶の等方相温度以上の温度に加熱し、次いで液晶相を形成する温度まで冷却することによって、等方相中に分散した前記分岐状高分子を該液晶の欠陥部位に優先的に濃縮することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a novel pressure-medium gas purifier for hot isotropic pressure applying apparatuses which can remove impurities such as oxygen in a pressure-medium gas, and is suitable for practical applications, and a pressure-medium gas supply/recovery apparatus for hot isotropic pressure applying apparatuses which is equipped with the purifier and can reduce substantially the amount of the pressure-medium gas disposed of, compared with current counterparts.例文帳に追加

圧媒ガス中の酸素等の不純物を除去することができ、しかも実用に供することのできる新規な熱間等方圧加圧装置用の圧媒ガス浄化装置、及び、該圧媒ガス浄化装置を備え、従来に比べて圧媒ガスの廃棄量を大幅に低減することができる熱間等方圧加圧装置用の圧媒ガス供給回収装置を提供すること。 - 特許庁

Then, after anisotropically etching the Al film 5 by using a fluoric-nitric-acid, the triggering portions 5a are so advanced largely in the interfacial direction and are so made taper-form as to subject them again to an isotropic etching to a final depth.例文帳に追加

次に、Ａｌ膜５をフッ硝酸を用いて異方性エッチングして、トリガ部５ａを界面方向に大きく進行させてテーパ状にし再び等方性エッチングして最終深さまで食刻する。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, the second metal layer 45 is patterned so as to have a width (W2) narrower by about 1-4 μm than the photosensitive film width (W1) by an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).例文帳に追加

感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁

To provide an illumination optical system with a light source which emits luminous flux having a flat cross section, and obtaining illuminating luminous flux having isotropic NA distribution in spite of compact configuration.例文帳に追加

扁平な光束断面を持つ光束を出射する光源を備え、かつ、コンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an isotropic carbon material by which the carbon material having a density higher than that of the conventional one, ≥1.85 g/cc bulk density can be produced without causing crack in high yield.例文帳に追加

等方性炭素材の製造方法について、従来よりも一層高密度で、かさ密度が１．８５ｇ／ｃｃ以上の炭素材をクラックの発生を防止し、得率良く製造できる方法を提供する。 - 特許庁

Next, the exposed oxide film 10 is removed while making a support portion 10b near the center under the silicon layer 11 remain, and an oxide film 10 on the side of the support portion 10b is removed by, for example, isotropic etching.例文帳に追加

次に、露出した酸化膜１０をシリコン層１１の下の中央寄りの支持部１０ｂを残留させながら支持部１０ｂ脇の酸化膜１０を例えば等方性エッチングにより除去する。 - 特許庁

The isotropic etching (third process) is performed again and this needle-like body 31 constituted of a conical tip part 31a having a desired tapered shape and a column part 31b continued from it is manufactured (d).例文帳に追加

再び等方性エッチング（第３工程）を行って、所望のテーパ形状を有する円錐状の先端部３１ａとそれに連なる円柱部３１ｂとで構成される針状体３１を作製する（ｄ）。 - 特許庁

A group of minute projections, with the height of unevenness equal to or longer than the wavelength of the light from a light source, are formed on the back side of an isotropic light diffusing sheet, disposed between a lens sheet such as a lenticular one and the light guide plate.例文帳に追加

レンチキュラー等のレンズシートと導光体の間に配置される光等方拡散性シートの裏面に凹凸の高さが光源光の波長以上の微小突起群を形成する。 - 特許庁

The filter membrane is an isotropic, skinless porous polyvinylidene fluoride membrane which exhibits KUF of at least about 15 psi (103 kPa) when the membrane is subjected to the test using a liquid couple having an interfacial tension of about 4 dyne/cm (4 mN/m).例文帳に追加

約４ｄｙｎｅ／ｃｍ（４ｍＮ／ｍ）の界面張力を有する液体対を用いて試験した場合、少なくとも約１５ｐｓｉ（１０３ｋＰａ）のＫ_UFを有する、等方性、スキンレス、多孔質ポリフッ化ビニリデン膜。 - 特許庁

The multiple layers and/or multiple processing steps can relate to manufacturing lines, grooves, vias, spacers, contacts, and gate structures to be manufactured by utilizing isotropic and/or anisotropic etching processes.例文帳に追加

前記多数の層及び/又は多数の処理工程は、等方性及び/又は異方性エッチング処理を用いて作製可能なライン、溝、ビア、スペーサ、コンタクト、及びゲート構造の作製に関連づけられて良い。 - 特許庁

A gate etching method for a high voltage FET comprises a step for penetrating first and second openings of a mask layer, etching first and second dielectric regions by a virtually isotropic method, and generating first and second trenches.例文帳に追加

マスク層の第１及び第２の開口部を貫通して実質的に等方的な方法で第１及び第２の誘電領域をエッチングして第１及び第２のトレンチを生成する段階を含む。 - 特許庁

The amplitude adjustment amount and the phase shift amount of the beam formation unit 3 are set by the amplitude phase control circuit 8, so that all equivalent isotropic radiation energy of a plurality of beams are identical.例文帳に追加

ビーム形成ユニット３の振幅調整量及び移相量は、複数のビームの全ての等価等方放射電力が同一となるように、振幅位相制御回路８によって設定されている。 - 特許庁

As the liquid crystal material is heated (the temperature is increased), the nematic phase is shown after the smectic A phase without other phases in between, and the isotropic phase is shown after the nematic phase without other phases in between.例文帳に追加

この液晶材料を加熱（昇温）させていくと、スメクチック層Ａの次に他の相を介さずにネマチック相が現れると共に、そのネマチック層の次に他の相を介さずに等方相が現れる。 - 特許庁

Through switching between a frequency, at which the isotropic etching is performed, and a frequency at which the anisotropic etching is performed, it becomes possible to form a pattern having a uniform inner diameter by suppressing enlargement and reduction of the pattern.例文帳に追加

エッチングが等方的となる周波数とエッチングが異方的となる周波数を切り替えることにより、パターンの拡張と縮小を抑え、内径が均一なパターンを形成することが可能となる。 - 特許庁

A surface voxcel is determined from the isotropic data, a perpendicular vector for the surface in a center voxcel is determined by using a value of the adjacent voxcel and the surface is determined by repeating this process.例文帳に追加

この等方性データから表面ボクセルを決定し、その隣接のボクセルの値を用いて中央ボクセルでの表面に対する垂直ベクトルを決定し、このプロセスを繰り返して表面を決定する。 - 特許庁

The silicon nitride film 20 is then processed to the lens shape by subjecting the silicon nitride film to isotropic etching under such etching conditions under which the etching rates of a plasma nitride film 20 of a base and the resist patterns 21 are equaled (c).例文帳に追加

次に、下地のプラズマナイトライド膜２０とレジストパターン２１とのエッチング速度が等しくなるようなエッチング条件にて等方性エッチングを行い、シリコンナイトライド膜２０をレンズ形状に加工する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a material exhibiting (BH)max higher than that of a magnetically isotropic bonded magnet by fixing an Nd_2Fe_14B based aggregated polycrystalline rare earth magnet powder of pulverized melt span ribbon with resin.例文帳に追加

メルトスパンリボンを粉砕したＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ系多結晶集合型希土類磁石粉体を樹脂で固定した磁気的に等方性のボンド磁石よりも高（ＢＨ）ｍａｘ化された材料の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a vibration sensor which can form a through hole whose expansion on the back side is small in substrate etching from the back side by a combination of crystal anisotropic etching and isotropic etching.例文帳に追加

結晶異方性エッチングと等方性エッチングの組み合わにより、裏面側からの基板エッチングで裏面側での広がりの小さな貫通孔を形成できる振動センサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture an isotropic magnet with high residual flux density B_r with relatively low hot molding pressure by using magnet powder in which composition ratio of a rare earth element is less than stoichiometric composition of R_2Fe_14B .例文帳に追加

希土類元素の組成比率がＲ_2Ｆｅ_14Ｂの化学量論組成より少ない磁石粉末を用いて比較的低い熱間成形圧力で残留磁束密度Ｂ_rの高い等方性磁石を製造する。 - 特許庁

A cylindrical through hole is formed by giving an isotropic half etching treatment in a previous stage and an anisotropic full etching treatment in a latter stage to the nozzle substrate 11 in forming the nozzle hole 16.例文帳に追加

ノズル孔１６の形成に際してはノズル基材１１に、前段で等方性ハーフエッチングを、後段では異方性フルエッチングをそれぞれ施すことにより、円筒状の貫通孔を形成する。 - 特許庁

The non-isotropic diffusion filter 104 then performs strong smoothing in a direction parallel with an edge, and performs weak smoothing in a direction vertical to an edge in intra-frame proximate pixels.例文帳に追加

さらに非等方拡散フィルタ１０４は、フレーム内近接画素との間で、エッジと平行な方向に対しては強い平滑化を行い、エッジと垂直な方向に対しては弱い平滑化を行う。 - 特許庁

To provide an illumination optical system which obtains illuminating luminous flux having isotropic NA distribution though it has compact constitution including a light source which emits illuminating luminous flux having a flat cross section.例文帳に追加

扁平な断面の照明光束を出射する光源を備えたコンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a reversible recording medium adapted so that the objective reflected light may be fixed simply by merely controlling the rate of cooling from an isotropic phase and to provide a process for reversibly recording therewith.例文帳に追加

等方相からの冷却速度をコントロールするのみで、簡便に目的の反射光を固定できる可逆記録媒体、および可逆記録媒体を使用した可逆的記録方法の提供。 - 特許庁

To avoid such a phenomenon that the lower surface of a sensor and a semiconductor substrate are not separated during cleaning and drying steps after a film between the sensor and the semiconductor substrate is removed by isotropic etching.例文帳に追加

センサ部と半導体基板との間の膜を等方的にエッチング除去した後の洗浄及び乾燥工程の際にセンサ部下面と半導体基板が固着して離れなくなる現象を回避する。 - 特許庁

The circuit board includes the support substrate 21 made of ceramic and a circuit member 51, wherein a thermally conductive member 41 containing as a principal component an isotropic graphite is arranged between the support substrate 21 and circuit member 51.例文帳に追加

セラミックスからなる支持基板21と、回路部材51とを備えており、支持基板21と回路部材51との間に等方性黒鉛を主成分とする熱伝導部材41が配置されている回路基板１である。 - 特許庁