「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

A series of key inputs are monitored in real time and when the series of key inputs exceed a preset value or when a key input matched with a preset pattern is detected, help information corresponding to user's operation is previously downloaded from a help server before user's help request information, so that on-line help can be performed.例文帳に追加

一連のキー入力操作をリアルタイムに監視し、予め設定した設定値を超えた時点、および予め設定したあるパターンに一致するようなキー入力操作を検出した時点で、予めユーザの操作に対応するヘルプ情報をユーザのヘルプ要求操作に先立ち、事前にヘルプ情報をヘルプサーバ装置からダウンロードしておき、オンラインヘルプの操作支援を行う。 - 特許庁

When a camera 10 picks up an image of a card 100 on a storage 30 and the image pickup data are inputted to a pattern recognition processing part 40, a preprocessing part 12 corrects brightness, a binarization processing part 14 binarizes the image pickup data, a boundary tracing processing part 16 subsequently extracts a boundary line and a vertex detecting part 18 detects a vertex.例文帳に追加

カメラ１０によってステージ３０上のカード１００が撮像され、撮像データがパターン認識処理部４０に入力されると、前処理部１２によって明るさの補正が行われ、二値化処理部１４によってこの撮像データを二値化した後に、境界追跡処理部１６による境界線抽出、頂点検出部１８による頂点検出が行われる。 - 特許庁

The TEM resonator type RF coil is provided with a first conductive pattern 302 connected to a line element 118, symmetrical second conductive patterns 304, capacitors 502 for connecting them and a connecting means 602 for connecting the second conductive patterns over adjacent partial annulus rings concerning the plurality of partial annulus rings which are obtained by division by the slits 116 of orifice parts.例文帳に追加

ＴＥＭレゾネータ型のＲＦコイルであって、オリフィス部のスリット１１６によって分割されてできる複数の部分円環を、ラインエレメント１１８が接続される第１の導電パターン３０２と、左右対称的な第２の導電パターン３０４と、それらを接続するキャパシタ５０２と、隣り合う部分円環にまたがって第２の導電パターン同士を接続する接続手段６０２とを設ける。 - 特許庁

A laser beam generating device 210 irradiates a first laser beam 130 with which the cut route 200 set on the non-metallic substrate is heated and a scribe line 210 is formed on the cut route 200, and a second laser beam 150 with which a beam pattern is formed along the irradiation route of the first laser beam 130 separated by a predetermined distance from the first laser beam 130.例文帳に追加

レーザビーム発生装置２１０は非メタル基板に設定された切断経路２００を加熱して切断経路２００上にスクライブライン２１０を形成する第１レーザビーム１３０を照射し、第１レーザビーム１３０と所定距離離隔されて第１レーザビーム１３０の照射経路に沿って一つのビームパターンを形成する第２レーザビーム１５０を照射する。 - 特許庁

To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the technical problem in microfabrication of a photomask and semiconductor element, especially providing a chemically amplified positive resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution (for instance, high resolution power), excellent exposure latitude (EL) and excellent line edge roughness (LER) simultaneously, and a resist film, a resist-coated mask blank and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加

第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

When the plurality of light emitting elements are driven in time series as the light emission pattern of information to be displayed is decided according to the shake speed detected by an acceleration sensor 12, while the plurality of light emitting elements configuring a light emitting unit 10 are arranged in a diagonal line, a control unit 1 changes the ways of driving according to a shaking state detected by the acceleration sensor 12.例文帳に追加

制御部１は、発光部１０を構成する複数の発光素子が斜め一列に配置されている状態で、加速度センサ１２によって検出された振る速度に合わせて表示対象情報の発光パターンを切り出しながら複数の発光素子を時系列に駆動させる際に、加速度センサ１２によって検出された振りの状態に応じてその切り出し駆動の仕方を変更する。 - 特許庁

A monitoring system 1 includes a measuring sensor 4 installed near a drop line of a consumer 2 for measuring time series data regarding the power consumption, a spectral analysis conducting means 5 for spectrally analyzing the time series data measured by the sensor 4, and an estimating means 6 for the operating state of the electric device based on a pattern of a spectrum obtained by the means 5.例文帳に追加

モニタリングシステム１は、電力需要家２の給電線引込口付近に設置されて消費電力に関する時系列データを測定する測定センサー４と、測定センサー４で測定された時系列データに対してスペクトル解析を行うスペクトル解析実行手段５と、スペクトル解析実行手段５により得られたスペクトルのパターンに基づいて対象電気機器の動作状態を推定する推定手段６とを備える。 - 特許庁

A horizontal processing unit 31 performs horizontal closing-up for horizontally closing up pixels of first and second thinned-out images which are obtained by thinning respective pixels of a first image and a second image different from the first image every other diagonal line and in which the pixels are arranged in a checkerboard pattern as horizontal processing for manipulating the horizontal arrangements of the respective pixels of the first and second thinned-out images.例文帳に追加

水平処理部３１は、第１の画像、及び、第１の画像とは異なる第２の画像それぞれの画素を、斜め方向の１ラインおきに間引くことにより得られる、チェック模様状に画素が配置された第１の間引き画像、及び、第２の間引き画像それぞれの画素の水平方向の配置を操作する水平処理として、第１及び第２の間引き画像の画素を、水平方向に詰める横詰めを行う。 - 特許庁

To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc.例文帳に追加

酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal printer, a conduction control method and an information recording medium arranged such that the conduction timing and the conduction driving time of a plurality of heating elements constituting a logic block can be controlled by previously determining a pattern for dividing a plurality of heating elements constituting a physical block into simultaneously conductible logical blocks based on one or a plurality of physical block data of one dot line data.例文帳に追加

１ドットラインデータの１個または複数個の物理ブロックデータに基づいて、物理ブロックを構成する複数個の発熱素子に同時通電可能な論理ブロックに分割した分割パターンを予め決定することによって、論理ブロックを構成する複数個の発熱素子への通電タイミングおよび通電駆動時間を制御することを特徴とするラインサーマルプリンタ、通電制御方法および情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

In the mold 50 for molding the light guide plate 100 to which a pattern is transferred by the stamper 20, the stamper 20 attached to one mold member 10 by a positioning means is pressed by a press means 42 having a stroke wherein the top dead point provided to other opposed mold member 40 is positioned in front of a PL line.例文帳に追加

本発明の導光板成形用の金型５０は、スタンパー２０によりパターンが転写される導光板１００を成形する導光板成形用の金型５０において、一方の金型部材１０に位置決め手段により取着されたスタンパー２０を、対向する他方の金型部材４０に設けられた上死点がＰＬ線より前方に位置するストロークを有する押圧手段４２により押圧することを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A test print in which a lateral stripe test pattern comprising a lateral line group is formed with test input gray level values belonging to the black area is output.例文帳に追加

横ライン群からなる横縞テストパターンが黒領域に属するテスト入力階調値で形成されているテストプリントを出力し、横縞テストパターンの測定濃度値と当該横縞テストパターンに対応するテスト入力階調値とに基づいて導出されたテスト入力階調値−濃度値関係から、各テスト入力階調値における測定濃度値が最小となる色成分の当該最小測定濃度値を特定し、最小測定濃度値と略同一の濃度値を有する修正入力階調値を色成分毎に算出する。 - 特許庁

A ruled line pattern comprised of a combination of a plurality of ruled lines almost directed to the first direction is printed to a plurality of points on the printing medium spaced by an interval in a second direction orthogonal to the first direction, by delivering the ink from predetermined nozzle arrays.例文帳に追加

複数のノズルを第一の方向に並べたノズル列を複数並列させたインク吐出部を備える印刷装置を用いて、当該インク吐出部のノズルから印刷媒体に対してインクを吐出することにより所定のパターンを印刷する印刷方法であって、所定のノズル列からインクを吐出することにより、上記第一の方向を略向いた複数の罫線の組み合わせからなる罫線パターンを、上記第一の方向に直交する第二の方向において間隔を空けた印刷媒体上の複数箇所に印刷することを特徴とする。 - 特許庁

A ruled line pattern comprised of a combination of a plurality of ruled lines which are expressed in the ink delivered from nozzles by delivering the ink from the nozzles that belong to different nozzle arrays and which are nearly directed to a second direction orthogonal to the first direction is printed onto a plurality of points on the printing medium.例文帳に追加

複数のノズルを第一の方向に並べたノズル列を複数並列させたインク吐出部を備える印刷装置を用いて、当該インク吐出部のノズルから印刷媒体に対してインクを吐出することにより所定のパターンを印刷する印刷方法であって、異なるノズル列に属する各ノズルからインクを吐出することにより、当該各ノズルから吐出されるインクで表される複数の罫線であって上記第一の方向に直交する第二の方向を略向いた複数の罫線の組み合わせからなる罫線パターンを、印刷媒体上の複数箇所に印刷することを特徴とする。 - 特許庁