「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

This rotary ring 3 to be used in a scale reading device is mounted on a rotary shaft 6, and has, on the circumferential surface, one scale 13 having a graduation line defining a periodic pattern and readable by a reading head of the scale reading device.例文帳に追加

スケール読み取り装置において使用するための回転リング３は、回転軸６に取り付けられ、さらに周期的なパターンを画成する目盛線を有すると共にスケール読み取り装置の読み取りヘッドによって読み取り可能な１本のスケール１３を外周面に持っている。 - 特許庁

An output pattern generating circuit 22 converts the binary image data from the line buffer 21 to multi-value image data and converts this image data to second resolving power higher than first resolving power and subsequently converts the second resolving power to binary image data to output this image data to a printer engine 10 through an engine I/F 8.例文帳に追加

出力パターン発生回路２２は、ラインバッファ２１からの２値のイメージデータを多値のイメージデータに変換し、それを第１の解像度よりも高い第２の解像度に変換した後、２値のイメージデータに変換し、エンジンＩ／Ｆ８を介してプリンタエンジン１０に出力する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of environmental conditions around a substrate to affect processing when a resist pattern is formed are extracted, function models using the above environmental conditions as parameters such as a line width model CD, a film thickness model T and the like are previously formed, and these models are stored in storages 64 and 65 respectively.例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす上記各処理における基板周囲の環境条件を複数抽出し、これらをパラメータとする関数モデル、例えば線幅モデルＣＤ、膜厚モデルＴ等を予め作成し、それぞれ格納部６４，６５に記憶しておく。 - 特許庁

A difference |L1-L2| between dimensions L1 and L2 on both sides by sandwiching the center line C of the dynamic pressure grooves 3a and 3b is set to 1% or less of the total length (L1+L2), so as to restrain generation of the shaft directional flow of the lubricating fluid caused by shaft directional asymmetry of herringbone pattern.例文帳に追加

動圧溝３ａ（３ｂ）の中心線Ｃを挟んでその両側の寸法Ｌ_1とＬ_2 の差｜Ｌ_1 −Ｌ_2 ｜を、その全長（Ｌ_1 ＋Ｌ_2 ）の１％以下とすることにより、ヘリングボーンパターンの軸方向への非対称性に起因する潤滑流体の軸方向への流れの発生を抑制する。 - 特許庁

The pattern length of a gate line GL formed in the upper layer of a diffusion layer RS of a wafer SI is grasped, and sub-field division is carried out by arranging connecting parts DP1 and DP3 in an NRS outside the region of the diffusion layer RS so that the number of sub-field connecting parts DP2 on the diffusion layer RS can be minimized.例文帳に追加

ウエーハＳＩの拡散層ＲＳの上層に形成されるゲートラインＧＬのパターン長さを把握し、例えば拡散層の領域外ＮＲＳに接続部ＤＰ１，ＤＰ３を配置し、拡散層ＲＳ上での接続数ＤＰ２を最小となるように配置したサブフィールド分割とする。 - 特許庁

In the game at the second stage executed after ending in failure at the first stage, a success appears even when a predetermined pattern is stopped and displayed at a position on the outer variable display portion 32 corresponding to the extension of a line where the game ends in failure via the reach state at the first stage.例文帳に追加

第１段階で外れになって実行された第２段階のゲームで、外枠可変表示部３２のうち第１段階でリーチ状態を経由して外れになったラインの延長上に該当する箇所に所定の図柄が停止表示されたときにも当たりが出現する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This building is at least two-storied or higher, the exterior walls of the building are divided into a plurality of regions 1, 2 and 3 from the upper to lower stories with the longitudinal direction as a boundary line, and each of the regions 1, 2 and 3 has a different color, pattern or both of them.例文帳に追加

少なくとも２階建て以上の建物であって、前記建物の外壁が上下階に亘って縦方向を境界線として複数の部位１、２、３に区画され、これら区画した部位１、２、３ごとに色もしくは模様、又はその両方が異なるようになされている。 - 特許庁

When the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of stop figures to be shown on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which large amounts of game balls are paid out together with prize balls from a game ball pay-out device for a short period of time.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量の遊技球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

And also, temperature/ stress/distortion are estimated from the inputted on-line measurement data by using temperature/stress distribution pattern matching, the lifetime is evaluated from the estimated temperature/stress/distortion and the characteristics of materials constituting the prime mover and the operation limit of the prime mover is judged/displayed on the basis of the evaluated lifetime.例文帳に追加

また、入力されたオンライン計測データから温度・応力分布パターンマッチングを用いて温度・応力・ひずみを推定し、これと原動機を構成する材料の特性とから寿命を評価し、これに基づき原動機の運転制限について判定・表示する。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

To provide a variable rigidity type dynamic vibration absorbing device, capable of solving the problem of a pattern formation phenomenon if any generated due to vibration of a contact roll system, for example, to which there is no fundamental measure of prevention at site, giving fatal damage to the product, or causing a situation of setting an upper limit of line speed.例文帳に追加

例えば、接触ロール系の振動により発生するパターン形成現象に対する現場の根本的な対策方法はなく、このパターン形成現象が発生した場合、製品に致命的なダメージを与たり、ライン速度の上限を設定せざるを得ない状況に陥る。 - 特許庁

Then, when the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of figures stopped as displayed on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which a large number of Pachinko balls are put out together with prize balls for a short period of time from a game ball putout device.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量のパチンコ球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

To prevent disconnection of a coil pattern by increasing the line widths of conductor patterns by reducing the stains of the conductor patterns, which become larger when the connection between the end sections of the conductor patterns is extended in a direction perpendicular to the boundary (step) of an insulating layer and a squeegee is moved in parallel with the boundary (step) of the insulating layer.例文帳に追加

導体パターンの端部と導体パターンの端部との接続部が絶縁体層の境目（段差）と垂直な方向に延在すると共に、スキージを絶縁体層の境目（段差）と平行な方向に移動させるので、導体パターンの接続部の滲みが大きくなる。 - 特許庁

When closing of a power source switch 11 is detected by a power source-on detecting part 14-1 of a control means 14, a specific pattern display signal is sent to a drum unit 16, specific patterns are arranged on a prize-winning line and further, the time of that closing is judged by a closing time judging part 14-2.例文帳に追加

電源スイッチ１１の投入が、制御手段１４の電源投入検出部１４−１で検出されと、ドラムユニット１６へ特定図柄表示信号が送られて、特定図柄が入賞ライン上に並べられ、さらに、その投入時刻が投入時刻判断部１４−２で判断される。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.例文帳に追加

感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁

The method for manufacturing the electromagnetic wave shield film comprises the steps of: arranging the transparent conductive material L on the translucent substrate 2 in the line pattern shape; and baking the transparent conductive material L to form the transparent conductive material L on the translucent substrate 2.例文帳に追加

電磁波シールドフィルムの製造方法は、透光性基材２上に透明電導性材料Ｌをラインパターン状に配置する工程と、該透明導電材料Ｌを焼成して、前記透光性基材２上に透明導電性パターンＬを形成する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the density of a interested pixel G0 is within a specified range (tha to thb) and larger than those of two pixels G1 and G2, and G0 and G3 have density larger than (the minimum value of density among the four pixels), a line pattern having an arbitrary density is detected.例文帳に追加

注目画素Ｇ０がある所定の範囲内（ｔｈａ〜ｔｈｂ）の濃度を持ち、且つ、２つの画素Ｇ１、Ｇ２以上の濃度で、且つ、Ｇ０とＧ３とが（４画素の濃度の最小値）以上の濃度を持っている場合に、任意の濃度を保持する万線パターンの検出を行う。 - 特許庁

When an azobenzene polymer thin film is irradiated with a circular laser beam of linear polarization or a laser beam of an ellipse (or rectangular) having stripes of light and darkness, a surface relief pattern which is characterized in that k concave parts and (k+1) convex parts are arranged alternately on a straight line is obtained.例文帳に追加

アゾベンゼンポリマー薄膜に直線偏波した円形のレーザー光、もしくは明暗の縞を有する楕円（又は矩形）のレーザー光を照射すると、ｋ個の凹部と（ｋ＋１）個の凸部が交互に一直線上に配置されることによって特徴づけられる表面レリーフパターンが得られる。 - 特許庁

A forecast sales volume computing means 54 computes forecast sales volumes of unit periods between the end of the first given period and the end of the second given period, from the standard trends of the selected trend pattern and the cumulative forecast sales volume of the new line of merchandise through the end of the second given period.例文帳に追加

予測販売数計算手段５４は、選択された推移パターンの標準推移と、新規商品の第２所定期間経過時時点までの累積予測販売数から、第１所定期間経過時点から第２所定期間経過時点までの単位期間別の予測販売数を計算する。 - 特許庁

For the glass antenna device provided on the fixed window of a vehicle, a feeder line for connecting a receiver and an antenna and the power feeding pattern part of the antenna are connected electrically via a conductive stay part having no flexibility.例文帳に追加

車両の固定窓に設けられるガラスアンテナ装置であって、受信機とアンテナを接続するフィーダ線と前記アンテナの給電パターン部とは、導電性でかつ可撓性を有しない部材よりなるステー部を介して、電気的に接続されていることを特徴とするガラスアンテナ装置である。 - 特許庁

To shorten time required for optical axis adjustment while securing a sufficient amount of irradiated light, in a lighting fixture for vehicles which forms a light distribution pattern having a cut off line on a top edge, by irradiation of light from a lighting fixture unit using light-emitting elements as light sources.例文帳に追加

発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する配光パターンを形成する車両用照明灯具において、十分な照射光量を確保可能とした上で光軸調整に要する時間を短縮する。 - 特許庁

On a second layer B of the ceramic multilayer substrate 1, resonant circuits (constituted by a pattern 6 capacity-coupled with the main line 4 between layers and an open stub 7 connected thereto) are arranged while being shifted by a very small dimension on 1-to-1 basis with respect to the coplanar lines, and each circuit is set at a resonance frequency corresponding to the amount of displacement.例文帳に追加

セラミック多層基板１の第２層Ｂに、コプレーナ線路と１対１の関係で、共振回路（主線路４と層間で容量結合させるパターン６とそれに接続されるオープンスタブ７とで構成）を、微小寸法ずつずらして配置し、ずれ量に応じた共振周波数に設定。 - 特許庁

To obtain a polymer for a resist, having small line edge roughness and slightly forming microgel and defects when used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, etc., and a resist composition and to provide a method for pattern production using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、ラインエッジラフネスが小さく、マイクロゲル及びディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

A reception device B12 has a function of inputting the clock pattern from the data line 13, generating the best edge for the sampling of the data, and sampling the data by using the edge and then faster data transmission becomes possible, so the bus bandwidth can be increased.例文帳に追加

また、受信デバイスＢ１２はデータ線１３上からクロックパターンを入力して、データをサンプリングするための最適なエッジを生成し、そのエッジを用いてデータのサンプリングを行う機能を備えることにより、より高速なデータ伝送ができることからバス帯域を増やすことことが可能となる。 - 特許庁

Along the scribe line on a semiconductor wafer 360, a groove 363 is formed using a cutter blade 201 thicker than the width of a test pattern 362 on the semiconductor wafer and then the inside of the groove 363 is cut by means of a thinner cutter blade 202.例文帳に追加

半導体ウエハ３６０におけるスクライブラインに沿って、まず、半導体ウエハ上のテストパターン３６２の幅よりも厚い刃厚を有する切断刃２０１を用いて凹溝３６３を形成し、次に、この凹溝３６３内を、薄い刃厚を有する切断刃２０２によって切り込み、切断する。 - 特許庁

The L side line memory controlling part 121L similarly receives ambient pixel data necessary to pattern matching from the part 121F, forms the matrix of the processing object pixel and its ambient pixels and gives the matrix to an isolated point detecting 122L and a ruggedness detecting part 123L.例文帳に追加

Ｌ側ラインメモリ制御部１２１Ｌも同様に、パターンマッチングに必要な周辺画素データをＦ側ラインメモリ制御部１２１Ｆからけ取って処理対象画素およびその周辺画素のマトリクスを形成し、孤立点検出部１２２Ｌおよび凹凸検出部１２３Ｌへ渡す。 - 特許庁

A network configuration display panel 10 displays connection relation and inclusion of network components as a network configuration diagram, and a traffic display panel 20 displays the traffic pattern and the traffic amount between the network configuration components as a line segment tying points on a circle and its thickness.例文帳に追加

ネットワーク構成表示パネル１０はネットワーク構成要素の接続関係および包含関係をネットワーク構成図として表示し、トラフィック表示パネル２０はネットワーク構成要素間のトラフィックパターンおよびトラフィック量を円周上の点間を結ぶ直線およびその太さで表示する。 - 特許庁

In this measuring system, a control generalizing device 5 for controlling generally respective in-line measuring instruments 3a, 3b introduces image informations for a work required for recognition of the work from the measuring instruments 3a, 3b, to generate individual informations (work pattern, position, important dimension and the like) of the work based on the image informations.例文帳に追加

各インライン測定機３ａ，３ｂを統括的に制御する制御統括装置５が、インライン測定機３ａ，３ｂからワークの認識に必要なワークの画像情報を導入し、この画像情報に基づいてワークの個別情報（ワークパターン、位置、主要寸法等）を生成する。 - 特許庁

Before a communication body, a training part based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and the propagation of a transmission line is measured by the training part while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

This non-contact data carrier 42 has 1st and 2nd antenna coils composed of a circulating line pattern formed on one surface 39A of an insulating substrate 39 and an IC chip 38 connected to one end of the inner circumferential side of the 1st antenna coil and one end of the inner circumferential side of the 2nd antenna coil.例文帳に追加

非接触式データキャリア４２は、絶縁基材３９の一方の面３９Ａに形成された周回する線パターンからなる第１および第２のアンテナコイルと、第１のアンテナコイルの内周側の一端と第２のアンテナコイルの内周側の一端とに接続されたＩＣチップ３８とを有する。 - 特許庁

This pattern 3 has current introducing pads 4 and 4 for receiving the supply of a current on its left and right end parts and at the same time, bonding pads 5 are respectively projected between the laser diode arrays corresponding to the laser diodes 1 and the bonding pads 5 are wire-bonded with a package side power supply line 9 formed in the vicinity of the substrate 2.例文帳に追加

この電源パターン３は左右端部に電流の供給を受ける電流導入パッド４、４を有すると共に、各レーザダイオード１に対応するレーザダイオード列の各間にボンディングパッド５を突設し、基板近傍に形成したパッケージ側電源ライン９にワイヤボンディング接続した。 - 特許庁

A first mark M1 and a second mark M2 are formed on the surface of a wafer W, as a mark M measured by scatterometry, so that they are a line and space pattern in which they are repeated on the surface of the wafer W in the direction orthogonal to each other at a different pitch.例文帳に追加

スキャッタロメトリによって計測されるマークＭとして、第１マークＭ１と第２マークＭ２とのそれぞれを、ウエハＷの面において互いに直交する方向であって互いに異なったピッチで繰り返されたライン・アンド・スペース・パターンになるように、ウエハＷの面に形成する。 - 特許庁

A digital display parts 31-36 are arranged in a matrix pattern of 3×3 in which passing type initial prize ports 21-23 arranged in one vertical row is made to form a second line and pseudo display locations in a matrix of 3×3 corresponding thereto are disposed on a liquid crystal display part 60.例文帳に追加

縦一列に並べた通過型始動入賞口２１〜２３を第２列とした縦３列横３行の行列形式にデジタル表示部３１〜３６を配置し、これに対応した３×３の行列状の疑似表示箇所を液晶表示部６０上に設ける。 - 特許庁

A binarizing part 2 binarizes a video signal VD1 to be inputted from an A/D converter 12 and a video signal VD2 to be outputted from a line memory 1, by using a mean luminance value LU to be applied from an in- detecting window video signal processing part 5 as a threshold value, and outputs a binary pattern BI.例文帳に追加

２値化部２はＡ／Ｄコンバータ１２より入力される映像信号ＶＤ１およびラインメモリ１から出力される映像信号ＶＤ２を検出ウィンドウ内映像信号処理部５から与えられる平均輝度値ＬＵをしきい値として２値化し、２値化パターンＢＩを出力する。 - 特許庁

The clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加

透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁

There are provided a plurality of connection lines 32 for electrically connecting a line 35 of a display region side to an external connection terminal in which a signal for driving a sub-pixel of the display region is input from the outside, and a wiring area 36 including a dummy pattern 33, which is formed between the connection lines 32 and 32.例文帳に追加

表示領域の副画素を駆動するための信号を外部から入力する外部接続端子と表示領域側の配線35とを電気的に接続する複数の接続配線32と、接続配線32，32間に形成したダミーパターン33とを有する配線領域36を備える。 - 特許庁

To solve the problem that display irregularity such as a stripped pattern appears on a screen and the picture quality is deteriorated when the driving order of a bundled up data lines DL is fixed in the constitution where the number of output signal lines from a data line driving circuit is made smaller than the number of the data lines by bundling up a plurality of the data lines.例文帳に追加

複数本のデータ線を束ねることで、データ線駆動回路からの出力信号線の本数を、データ線の本数より減らした構成では、束ねたデータ線ＤＬの駆動順序が固定されていると、縞模様の表示ムラが画面に現れ、画質が低下する。 - 特許庁

When one is entitled to a plum and does not operate stop buttons 19a to 19c following a prescribed operation procedure, a control section 30a controls first to third reels 14a to 14c so as to prevent a plum pattern from stopping on an effective winning line and operates an AT (assist time) mode transition lottery section 41.例文帳に追加

プラムに当選し、特定の操作順序でストップボタン１９ａ〜１９ｃが操作しなかった場合、制御部３０ａはプラム絵柄が入賞有効ライン上に停止しないように第１〜第３リール１４ａ〜１４ｃの停止制御を行い、ＡＴモード移行抽選部４１を作動させる。 - 特許庁

To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.例文帳に追加

基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, a photosensitive film pattern is formed including a first portion positioned in a channel area between the source electrode and the drain electrode and having a first thickness, and a second portion having a larger thickness than the first thickness and positioned in a wire area corresponding to the data line and a drain electrode.例文帳に追加

これにより、ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置して第１の厚さを有する第１部分と、第１の厚さよりも厚い厚さを有してデータ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第２部分とを有する感光膜パターンを形成する。 - 特許庁