「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

Again combination wins the prize in a winning combination lottery, after this when Again image pattern was arranged in the winning prize effective line, and Again combination won a prize, in the next game, the history storage memory is referred to, and the same combination as that of the winning combination stored in this history storage memory wins the prize forcibly.例文帳に追加

当選役抽選でアゲイン役が当選し、この後にアゲイン図柄が入賞有効ラインに揃えられてアゲイン役が入賞したときには、次の遊技で、履歴記憶メモリが参照され、この履歴記憶メモリに記憶された当選役と同じ役が強制的に当選する。 - 特許庁

On a reference mark plate FM, four reference marks WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 for measuring the base line of an alignment system ALG are disposed in such a layout that the mean position of these marks aligns with the position of a measuring pattern ST for detecting a reticle alignment mark RM.例文帳に追加

基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。 - 特許庁

To enhance a reflection property with simple structure by strengthening connection between an outer conductor of a connector and a GND of a dielectric substrate by connecting, with a chassis, a strip line formed on the substrate and a GND pattern for forming a GSG fixing a conductor spring thereto, in a high frequency circuit module.例文帳に追加

高周波回路モジュールにおいて、基板上に形成されたストリップラインとＧＳＧを形成するＧＮＤパターンに、導体ばねを固定してシャーシと接続させることで、コネクタ外導体と誘電体基板のＧＮＤとの接続を強化することにより、簡単な構造で反射特性を改善する。 - 特許庁

To obtain an arch-like or ring-like irradiation beam by providing a scattering device, which checks diffusion of irradiation beam to a projection system with which the pattern image of a mask in a lithography projection system is irradiated on a substrate and forming a fan-like curved line by reflecting a fine collimated incident beam.例文帳に追加

リソグラフ投影装置におけるマスクのパターンイメージを基板に照射する投影システムに照射ビームの拡散を制御する散乱装置を設けて、細いコリメート入射ビームを反射させて扇曲線形とすることにより、アーチ状あるいはリング状の照射ビームを得る。 - 特許庁

A mascara brush 1 is formed by holding a brush part 4 which is formed by attaching brush bristles 2 to a core member 3 in a radial pattern to a shaft 5, and then, the brush part 4 is shaped roughly like a letter W by forming the core member 3 in a curved line shape composed of three circular arcs.例文帳に追加

ブラシ毛を芯部材に放射状に取り付けることにより形成されるブラシ部分を軸部に保持せしめたマスカラブラシにおいて、芯部材を三つの円弧で形成される曲線状とすることにより、ブラシ部分を大略Ｗ字型に形成せしめてなるマスカラブラシ。 - 特許庁

When each through-hole via 4 is arranged substantially in the center of a substrate portion 11 between both memories 3A and 3B, the wiring pattern of a conductive path 9 becomes line symmetric with respect to the through-hole via 4, and meander wiring can be reduced sharply because the length of the conductive path is set substantially equally.例文帳に追加

このため、各スルーホールビア４を、両メモリ３Ａ，３Ｂ間の基板部分１１の略中央に配置すれば、該スルーホールビア４を基準にして導電路９の配線パターンが線対称となって、その導電路長が略等しく設定されるため、ミアンダ配線が大幅に削減できる。 - 特許庁

A ribbon 1 for bonding is constituted, by arranging first ground wire patterns 4 in parallel at an interval of a gap G1 on both sides of a signal line pattern 3, and sticking an insulating resin tape 2 fast onto it, thus it is in such form that it can be wound on a spool 7 and supplied to a bonder.例文帳に追加

ボンディング用リボン１は、信号線パターン３の両側に第１のグランド線パターン４をギャップＧ１の間隔をおいて平行に配置し、その上に絶縁性樹脂テープ２を密着させて構成してあり、スプール７に巻き取ってリボンボンディング装置に供給できる形態としてある。 - 特許庁

Thus, when the character information suggests that the ready-to-win state is not to be stopped on the effective line, it is expressed as if all the variable display including the plurality of common decorative pattern columns is ended as the variable display of the single character information column is ended.例文帳に追加

したがって、文字情報が有効ライン上にリーチ状態が停止されない旨を示唆する場合には、単数の文字情報列の変動表示が終了するとともに複数の共通装飾図柄列が含まれた全ての変動表示が終了したかのように表現することができる。 - 特許庁

A focal position of each wavelength component due to the first lens 21 caused by an axial chromatic aberration of the first lens 21, is located in a line in the optical axial direction of the first branch light P_1, and images an interference pattern in a different optical axial direction position for every wavelength component in the image pick-up part 51.例文帳に追加

第１レンズ２１による各波長成分の焦点位置は第１レンズ２１の軸上色収差に起因して第１分岐光Ｐ_１の光軸方向に並んでおり、各波長成分毎に異なる光軸方向位置における干渉パターンを撮像部５１において撮像する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A light-shielding film 2 is formed on the surface of a substrate 1, and opening patterns 2a for light transmission each of the pattern consisting of two openings running in parallel with mutually fixed interval and substantially the same line width, are formed in the film 2, so as to be isolated with each other.例文帳に追加

基板１の表面に遮光膜２が形成されており、この遮光膜２には、２本組の光透過用開口パターン２ａが実質的に同一の線幅で互いに間隔を持って並走し、かつ他の光透過用開口パターン２ａから孤立するように形成されている。 - 特許庁

A transistor (see figure (a)) configuring a pulse delay circuit is compared with a transistor (see (b)) configuring a latch & encoder 12, and transistor length (pattern width of gate Gp, Gn) L is designed so as to be doubled (that is, the minimum line width of a design rule is doubled), and the transistor width is designed so as to be doubled.例文帳に追加

パルス遅延回路を構成するトランジスタ（図２（ａ）参照）は、ラッチ＆エンコーダ１２を構成するトランジスタ（図２（ｂ）参照）と比較して、トランジスタ長（ゲートＧｐ，Ｇｎのパターン幅）Ｌを２倍（設計ルールの最小線幅の２倍）、トランジスタ幅も約２倍に設計する。 - 特許庁

Then, when the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, the combination of figures stopped as displayed on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which a large number of game balls are put out together with prize balls for a short period of time from a game ball putout device.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量の遊技球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

When an exposure process is carried out, for instance the blur of the energy beam in the X direction is set smaller than that in the Y direction, the wafer is adjusted in position so as to make the direction of the gate line width coincident with the X direction in the exposure system and loaded into the exposure device, and a gate pattern is exposed.例文帳に追加

露光にあたり、例えばエネルギービームのぼけ量について、Ｘ方向のぼけ量を小さくＹ方向のぼけ量を大きく設定し、露光装置内でゲート線幅方向とＸ方向が合うようにウェハの向きを調整して搬入し、ゲートパターンを露光する。 - 特許庁

The transparent electromagnetic wave shield member employs the mesh conductive pattern with dimensions within a range of 5 to 30μm in the line width, 0.5 to 5.0μm in the average film thickness, and 72 to 95% in the aperture rate, and has an electromagnetic wave shield effect of 40 dB or over against electromagnetic waves with 10 to 200MHz or over.例文帳に追加

網目状の導電性パターンが、線幅５〜３０μｍ、平均膜厚０．５〜５．０μｍ、開口率７２〜９５％の範囲内にあり、１０〜２００ＭＨｚの電磁波に対して４０ｄＢ以上の電磁波シールド効果を有する透光性電磁波シールド部材。 - 特許庁

Using the corrected data which a corrected data forming part 47 calculates based on the density measured on every luster line, a density correction processing part 49 corrects the densities of the pixels of the pattern image for evaluation, and an image quality-determining part 46 evaluates a BRS corrected image PC after half tone processing is performed.例文帳に追加

補正データ生成部４７がラスタライン毎に測定した濃度を基に算出した補正データを用いて、濃度補正処理部４９は、評価用パターン画像の画素濃度を補正し、ハーフトーン処理後のＢＲＳ補正画像ＰＣを画質判定部４６が評価する。 - 特許庁

The position at which the ground line of the printed circuited board 120 is grounded to the base member 100 can be decided to an optimum arbitrary position, thereby increasing a latitude for designing the circuit pattern of the printed circuit board 120, the arrangement of respective components on the base member 100, or the like.例文帳に追加

プリント回路基板１２０のグランドラインをベース部材１００にグランドする位置を最適な任意の位置に決定することができるので、プリント回路基板１２０の回路パターンやベース部材１００上の各構成要素の配置などを設計する際の自由度が大きくなる。 - 特許庁

The bulkheads 30 are arranged in line in the direction parallel to the planar face of a dye-sensitized solar cell 1, wherein the bulkheads 30 are formed in such a pattern that a wide portion 35 with larger interval width and a narrow portion 37 with smaller interval width are alternately repeated.例文帳に追加

隔壁３０は、色素増感型太陽電池１の平面と平行な方向に複数本並べて配置され、前記隔壁は、その互いの間隔の幅が広い部分である幅広部３５と、幅が狭い部分である幅狭部３７とが交互に繰り返し形成されている。 - 特許庁

To provide a game machine sufficiently enhancing expectation of a player by easily grasping the approach to a presence position of a final stop pattern forming a big win symbol combination and an effective line through a visual performance and an acoustic performance in a formation of a ready-to-win.例文帳に追加

リーチ形成時における視覚的演出及び聴覚的演出を通じて、大当りの図柄組み合わせを形成し得る最終停止図柄の存在位置及び有効ラインへの接近を容易に把握でき、遊技者の期待感を十分に高めることができる遊技機の提供。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of reducing the number of line memories, making a time required for enlargement smoothing processing constant irrespective of an enlargement ratio, and preventing deterioration in image quality in the image processing apparatus for performing enlargement smoothing processing by pattern matching for image data.例文帳に追加

画像データに対してパターンマッチングによる拡大スムージング処理を行う画像処理装置において、ラインメモリを減少させるとともに、拡大倍率に関らず拡大スムージング処理にかかる時間を一定にし、画質の劣化を防止することができる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a translucent electromagnetic wave shielding film that forms a thin line pattern of an electromagnetic wave shielding material exhibiting high EMI shieldability and high transparency simultaneously, and can be employed in inexpensive mass production of translucent electromagnetic wave shielding film.例文帳に追加

高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド材料を細線のパターンに形成可能であり、かつ安価に大量生産できる透光性電磁波シールド膜の製造方法及びその製造方法により得られたモアレの問題のない透光性電磁波シールド膜の提供。 - 特許庁

The drum type game machine such as a slot machine is provided with a CB game role for imparting a CB game in which the range of patterns stoppable after a stop operation until reel stoppage is narrowed and opportunities to stop the pattern relating to a winning role on an effective line are made more than usual to the next game.例文帳に追加

スロットマシン等の回胴式遊技機であって、ストップ操作されてからリールを停止するまでに停止可能な図柄の範囲を狭くし、通常よりも入賞役に係る図柄を有効ラインに停止させる機会が増加するＣＢ遊技を次回の遊技に付与するＣＢ遊技役を備える。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Second index faces S2.S2, each of which comprises a line pattern where lines in parallel with the main scanning direction are formed with intervals providing roughness and fineness, are provided to areas P2.P2 at both outsides of the area P1 on the upper side of the 2nd reference white board 68 in the main scanning direction.例文帳に追加

第２基準白板６８の上面の領域Ｐ１より主走査方向両外側の領域Ｐ２・Ｐ２に、ライン同士が主走査方向に平行となるラインパターンをライン同士の間隔に疎密を持たせた状態で形成した第２指標面Ｓ２・Ｓ２を設ける。 - 特許庁

That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加

すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁

To estimate the amount of frequency offset precisely even if the number of repetition fixed patterns in a preamble section is small and CNR is small, when estimating the amount of frequency offset using the repetition fixed pattern under the multipath fading in the radio propagation line of a radio communication system.例文帳に追加

無線通信システムの無線伝搬路のマルチパスフェージング下において繰返し固定パタンを用いて周波数オフセット量の推定を行う際に、プリアンブル区間の繰返し固定パタンの数が少なく、ＣＮＲが小さい場合においても、周波数オフセット量を精度良く推定可能にする。 - 特許庁

The transmitter, having an array antenna first uses a beam- forming network to estimate a transmission line space gain pattern, estimates the number of transmission beams and an angle of each beam, applies the beam space - time block coding processing to an input signal, and transmits the coded signal.例文帳に追加

アレイアンテナを有する送信機において、まずビームフォーミングネットワークを用いて、伝送路空間利得パターンを推定し、そして送信用ビーム数及び各ビームの角度を推定し、入力信号に対してビーム空間−時間ブロック符号化処理を行い、符号化した信号を送信する。 - 特許庁

In a CMOS image sensor wherein an imaging section 10A includes a valid pixel part 1 and invalid pixel parts 2-5 and signal processing is performed by reading signals of pixels for the unit of a pixel line, an optical black part (OB part) 2 for fixed pattern noise correction is provided in a part of the invalid pixel parts 2-4.例文帳に追加

撮像部１０Ａに有効画素部１と無効画素部２〜５を有し、各画素の信号を画素列単位で読み出して信号処理を行うＣＭＯＳイメージセンサにおいて、無効画素部２〜４の一部に固定パターン雑音補正用のオプティカルブラック部（ＯＢ部）２を設ける。 - 特許庁

In the game at the second stage executed after ending in failure at the first stage, a success appears even when a predetermined pattern is stopped and displayed at a position on the outer frame variable display portion 32 corresponding to the extension of a line where the game ends in failure via the reach state at the first stage.例文帳に追加

第１段階で外れになって実行された第２段階のゲームで、外枠可変表示部３２のうち第１段階でリーチ状態を経由して外れになったラインの延長上に該当する箇所に所定の図柄が停止表示されたときにも当たりが出現する。 - 特許庁

Consequently, the capacitor microphone 11 can ensure steady conduction by a ground-side conductive line formed by electrically connecting the calking portion 47 and the ground pattern 63 on the side of the circuit board 62 even if the calking force of the calking portion 47 decreases, and therefore the generation of hum noise can be avoided.例文帳に追加

これにより、コンデンサマイクロホン１１は、かしめ部４７のかしめ力が緩和しても、かしめ部４７と回路基板６２側のグランドパターン６３とを導通接続させて形成したグランド側導電路が強固な導通を確保できるので、ハム雑音の発生を回避させることができる。 - 特許庁

The tool 3 or the substrate 1 is rotatively controlled so that the blade surface direction defined by the projection line of the normal of the cutting surface of the tool 3 to the surface of the substrate 1 and the optical axis direction of the optical waveguide pattern 2 conform each other at all times and, at the same time, the recessed groove is cut.例文帳に追加

工具３の切削すくい面の法線を、基板１の表面に射影した線で定義される刃面方向と、光導波路パターン２の光軸方向とが、常に一致するように工具３又は基板１を回転制御しつつ、凹溝が切削加工される。 - 特許庁

The fashion article selection and coordinate proposal are repeatedly performed, a fashion article sale is carried out, when the selection of all fashion articles is finished (step S106), thereby a general on-line commerce is implemented, and the data of a customer DB 306 are updated based on this behavior pattern of the customer.例文帳に追加

服飾品選択、コーディネート提案は繰り返し実行され、総ての服飾品の選択を終了したとき服飾品販売（ステップＳ１０６）を実行し、一般的なオンライン商取引の実行と、今回の顧客の行動パターンに基づいた顧客ＤＢ３０６のデータ更新とを行う。 - 特許庁

A zero-order moment computing unit and a first-order moment computing unit find a zero-order moment and a first-order moment in a direction perpendicular to a direction in which the line pattern light is extended in respective positions in the direction, in such a way that digital signals corresponding to the output signals obtained in nearly the same time by the photodetector array are integrated.例文帳に追加

０次モーメント演算器と１次モーメント演算器とが、ラインパターン光が延びる方向における各位置での該方向に対して垂直の方向での０次、１次モーメントを、受光素子アレイにて略同時刻に得られた出力信号に相当するデジタル信号を積分して求める。 - 特許庁

Further, the angle of inclination (precise angle) in a straight line connecting the temporary center and the point at the position of the edge part separated by the integer multiple of the unit element to an x axis from the temporary center is obtained, and the inclination is corrected with the precise angle, thus the inclination of the repeated pattern is perfectly compensated.例文帳に追加

さらに、仮中心と、仮中心からｘ軸方向に単位要素の整数倍離れた端部位置の点とを結ぶ直線の傾き角度（精密角度）を求め、精密角度で傾きを補正することで繰り返しパターンの傾きが完全にうち消される。 - 特許庁

Figures are front views showing a conductor pattern 1d1 in a conductor film 1d, Figure (A) shows a front face (contacting face, namely, an outer face when the conductor film is folded along the center line defined in the vertical direction), and the figure (B) shows a back face (non-contacting face, namely the inner face).例文帳に追加

図は、導体フィルム１ｄにおける導体パターン１ｄ１を示す正面図であり、（Ａ）は、表面（接触面、すなわち、上下方向に引かれた中央線により導体フィルムが２つ折りされたときの外面）を示し、（Ｂ）は、裏面（反接触面、すなわち内面）を示す。 - 特許庁

When symbols designated for display on an LCD 3 by a command 52 for designating stopped symbols coincide with a preset pattern of a small win (in the present embodiment, symbols '7' appear or three losing symbols appear on one line), a predetermined number of prize balls are dispensed from a dispensing control board H.例文帳に追加

停止図柄指定コマンド５２により指定されてＬＣＤ３に表示される図柄が、予め定められた小役のパターンと一致する場合（本実施例では「７」の図柄の現出、又は、１ライン上に３つのはずれ図柄の現出）に、払出制御基板Ｈから所定数の賞球が払い出される。 - 特許庁

This vehicular headlamp is so structured as to be provided, between a projection lens 28 and a reflector 24, with a first shade 32 for forming the cut-off line as a shade for shading a part of reflected light from a reflector 24, and a second shade 34 for forming a dark part at a lower end center part of the light distribution pattern.例文帳に追加

投影レンズ２８とリフレクタ２４との間に、該リフレクタ２４からの反射光の一部を遮蔽するシェードとして、カットオフラインを形成するための第１シェード３２と、配光パターンの下端中央部に暗部を形成するための第２シェード３４とを備えた構成とする。 - 特許庁

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This drum type game machine displays the shift amount 801 of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and the technique level 802 of the spot pushing of the player at a variable display device 609 immediately, after a small role is missed.例文帳に追加

回胴式遊技機は、小役の取りこぼしが発生した直後に、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量８０１、および遊技者の目押しの技術レベル８０２を、可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

An OLT (optical line termination) is provided with a frame scrutinization unit 16 which detects an idle signal which repeats periodical fixed bit pattern from a down signal to an ONU (optical network unit) and a dummy frame producer 17 which inserts the dummy frame filled with scramble data with respect to the idle signal detected by the frame scrutinization unit 16.例文帳に追加

ＯＬＴが、ＯＮＵへの下り信号から周期的な固定ビットパターンを繰り返すアイドル信号を検出するフレーム精査部１６と、フレーム精査部１６により検出されたアイドル信号に対してスクランブルデータを充填したダミーフレームを挿入するダミーフレーム生成部１７とを備える。 - 特許庁

The optical system is simplified because a glass-base substrate 100 is cut by making use of a beam pattern after the ejection of the cooling liquid beam 170, and a large tensile force is applied on the scribe line 210, thus a thick non-metallic substrate is completely cut.例文帳に追加

冷却流体ビーム１７０の噴射後、一つのビームパターンを使用してガラス母基板１００を切断するので光学系を単純化させることができ、スクライブライン２１０に大きい引張力を発生させるので、厚い非メタル基板の完全切断を達成することができる。 - 特許庁

To provide a method for shift control in an automatic transmission for a vehicle improving driveability by separating a shift line by a change in a vehicle speed and that by a change in the amount of throttle opening for shift control, and changing speed in an optimum shift pattern according to operation conditions.例文帳に追加

車速変化によるシフトライン及びスロットル開度量変化によるシフトラインを分離して変速制御を行い、また、運行条件によって最適な変速パターンで変速を行って、運転性を向上させた車両用自動変速機の変速制御方法を提供する。 - 特許庁

A couple of hole lines 157a holding the wiring pattern 52 are formed with a plurality of sprocket holes 157 and the plurality of sprocket holes 157 included in the same hole line 157a are extending in the longitudinal direction of the base material 151 and are surrounded with a reinforcement layer 153 formed of copper.例文帳に追加

複数のスプロケット孔１５７によって、配線パターン５２を挟む２つの孔列１５７ａが形成されており、同一の孔列１５７ａに含まれる複数のスプロケット孔１５７は、ベース材１５１の長手方向に延在しており、銅からなる補強層１５３によって取り囲まれている。 - 特許庁

A clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm, and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加

透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by which a pixel pattern of a color filter can be formed with high definition, in particular, a black image can be efficiently formed with extremely little variance of the line width by improving exposure performance without causing an increase in the cost of an apparatus or decrease in an exposure speed.例文帳に追加

装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁