「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

At the time of deciding a big bonus as the internal winning role, the CPU (31) decides the order of the stop operation for permitting arrangement along a valid line among a plurality of pattern combinations indicating the winning establishment of the big bonus, and does not hold the result of deciding an increase role as the internal winning role in the next and succeeding games.例文帳に追加

ＣＰＵ（３１）は、ビッグボーナスを内部当選役として決定したとき、ビッグボーナスの入賞成立を示す複数設けられた図柄組合せのうち、有効ラインに沿って並ぶことを許可する停止操作の順序を決定するとともに、増加役を内部当選役として決定した結果を次のゲーム以降に保持しない。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive photoresist composition for exposure to far UV rays and having a wide defocus latitude of an isolated line pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、孤立ラインパターンのデフォーカスラチチュードが広い、優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加

構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁

In a state where a surface 20a to be processed is irradiated with irradiation light 22 from an illumination lamp 32 while conveying an etched substrate 20 to be processed, a line sensor 33 captures image data of the surface 20a to be processed, and an etching pattern formed on the surface 20a to be processed is specified based on the image data.例文帳に追加

エッチング処理が施された被処理基板２０を搬送させながら、被処理面２０ａに照明ランプ３２による照射光２２を照射させた状態で、ラインセンサー３３により、被処理面２０ａの画像データを撮影し、該画像データに基づいて、被処理面２０ａに形成されたエッチングパターンを特定する。 - 特許庁

To provide a high frequency attenuator that can be manufactured by a designing method with extra capacity to manufacturing restriction in a process of manufacturing a resistive element or conductive pattern gap that is connected with high frequency transmission line without degrading accuracy in attenuation, and that furthermore attenuates high frequency energy by a minute amount.例文帳に追加

高周波伝送線路に接続された抵抗体すなわち導体パターンギャップ製作工程の製造限界に対して余裕を持つ設計手法により製作でき且つ減衰量の精度を劣化させずに製作可能であり、更に高周波エネルギを微小量だけ減衰させ得る高周波減衰器を提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The antenna comprises: a printed circuit board formed inside of the radome for protecting the antenna; at least one radiation part which is formed so as to be optimized as a Hilbert-type meander line of a single pattern on the printed circuit board, and generates multiple band resonance frequencies; and a power supply for applying signals to the radiation part.例文帳に追加

アンテナを保護するレードームの内部に形成されるプリント基板と、該プリント基板に単一パターンのヒルベルト型のメアンダーラインとして最適化するように形成されて多重帯域の共振周波数を発生する少なくとも一つの輻射部と、前記輻射部に信号を印加する給電部とが設けられる。 - 特許庁

The interlayer insulation films 47 are formed by screen printing in a fine line shape after forming a high surface free energy region on the wettability changing layer by irradiating a region where the interlayer insulation films 47 are formed in the terminal part 40 with DeepUV rays at a wavelength 254 nm through a photomask with a pattern drawn thereon.例文帳に追加

層間絶縁膜４７は、端子部４０の層間絶縁膜４７を形成する領域にパターンが描画されたフォトマスク越しに波長２５４ｎｍのＤｅｅｐＵＶ光を照射し、濡れ性変化層上に高表面自由エネルギー領域を形成した後、微細なライン形状でスクリーン印刷法によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an extremely low carbon steel plate for galvanizing having excellent surface property in which a bamboo grass leaf pattern on a surface of a galvanized steel plate is eliminated, very small scale flaws on the surface of a steel plate for plating are extinguished, and the productivity of a hot rolling line of the steel plate for plating is enhanced.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板の表面における笹の葉模様を解消し、めっき用鋼板の表面における微小スケール疵を消滅せしめ、かつ、めっき用鋼板の熱延ラインの生産性を高めることを可能とする、表面性状の優れた亜鉛めっき用極低炭素鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When an up-shift command is output, maximum wheel driving force F is obtained based on an engine load corresponding to present vehicle speed on the down-shift line in a high speed stage in a shifting pattern or the gear ratio of the high speed stage.例文帳に追加

S11 では、変速パターンにおける高速段から現在の変速段へのダウンシフト線上での現在の車速に対応するスロットル開度TVO _DWN を検索し、S12 で、TVO _DWN およびN _t から、高速段での最大タービントルクＴ_t (2) を検索し、S13 で、Ｔ_t (2) と、高速段ギヤ比Ｇ_RTO (2) と、定数ｋとを掛けて高速段での最大車輪駆動力F2を算出する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

With this, a combination (RGBY) of light beams of each color reflected at the reflecting member is reversed as to a relative relation in a progressing direction line position of each color from a combination of light beams not reflected at the reflecting member to cancel color unevenness at end parts of an illumination pattern, so that color-mixing properties are improved with restraint of efficiency degradation.例文帳に追加

これにより、反射部材で反射された各色の光線の組（ＲＧＢＹ）は、各色の進行方向の相対関係が、反射部材で反射されない光線の組と比較して逆転し、照射パターン端部の色むらが打ち消されるため、効率低下を抑えて、混色性を向上することができる。 - 特許庁

The first rendering mode decision means 2958a determines a rendering pattern for a "ultra-big chance" rendering as a rendering which is executed to determine whether a ready-for-win state is formed in a valid line within the set frequency of a variation rendering at a prescribed ratio after the presentation of the set frequency of the variation rendering at the start of rendering.例文帳に追加

第一演出態様決定手段２９５８ａは、演出開始時に変動演出の設定回数を提示した後、この変動演出の設定回数内に有効ライン上にリーチ状態が形成されるか否かを実行する演出となる「ドデカチャンス」演出の演出パターンを所定割合で決定するものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

On a screen shown in Fig. 10 (A), three special patterns '7' are arranged on a big hit line inclined to the right side, but the color of spotlight applied onto the center special pattern is blue, while the color of spotlight applied onto two other special patterns is red, and since the colors are not coincident, it is a miss.例文帳に追加

図１０（Ａ）に示す画面では、右下がりの大当りラインには、３つの特別図柄「７」が揃っているが、中央の特別図柄の上に当てられているスポットライトの色彩が青色であり、他の２つの特別図柄の上に当てられているスポットライトの色彩が赤色であり、色彩が一致しないため、ハズレとなる。 - 特許庁

When the player presses a your technique level key 630 on a technique level guide image, this drum type game machine statistically processes the shift amount of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and displays the technique level 804 of the spot pushing of the player at a variable display device 609.例文帳に追加

回胴式遊技機は、遊技者が技術レベル案内画面であなたの技術レベルキー６３０を押すと、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量を統計処理し、遊技者の目押しの技術レベル８０４を可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of prize winning of a ball in a start prize winning hole 20, picture pattern fluctuation play is executed on a variable display device 30 and when reach display appears in the middle of that play, the reach display is transited to the great success display with a prescribed probability corresponding to the size of respective display parts arranged on a reach line.例文帳に追加

始動入賞口２０への球の入賞に基づき、可変表示装置３０で図柄変動遊技が実行され、その途中でリーチ表示が出現した場合には、リーチライン上に並ぶ各表示部３１の大きさに対応する所定確率で、リーチ表示から大当たり表示へと移行する。 - 特許庁

To provide a resin having a uniform composition distribution, to provide a production method for supplying the same in excellent reproducibility, to provide a positive type photosensitive composition having an improved resist performance (LER (line edge roughness), further exposure latitude) by a positive type photosensitive composition containing the resin and to provide a method for forming a pattern, using the same.例文帳に追加

組成分布が均一な樹脂、およびそれをを再現性良く供給できる製造方法を提供し、さらに、それを含有するポジ型感光性組成物によってレジスト性能（ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）・露光ラチチュード）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This pleated skirt for students is obtained by sewing a fabric cut along a paper pattern having at least one or more darts around left and right trunk parts of the hem part so that the circumferential width of the hem part of a front body and a back body is rather short than that of the hip part and making the silhouette line of the waist-hip-hem appear beautiful.例文帳に追加

本発明は、裾部の左右胴部周辺にダーツを少なくとも１ケ以上設けた型紙に沿って裁断した生地を、前身頃及び後見頃裾部の円周幅がヒップ部より短めになるように逢着し、ウエスト−ヒップ−裾のシルエットラインが綺麗にでるようにした学生用のプリーツスカートに関するものである。 - 特許庁

The uppermost inspecting wiring pattern 7 is formed along a single continuous line, so that it crosses all inspecting wiring patterns 31-33, 51-53 lower than it, it passes through all regions 81-89 having different overlapping states of these lower inspecting wiring patterns, and electrode pads 76, 77 are formed at both ends thereof.例文帳に追加

最も上側の検査用配線パターン７を、これより下側の全ての検査用配線パターン３１〜３３，５１〜５３と交差するように、且つ、これら下側の検査用配線パターンの重なり状態が異なる全ての領域８１〜８９を通るように一筆書きで形成し、両端に電極パッド７６，７７を形成する。 - 特許庁

Each correlation between a normalized light quantity distribution acquired by normalizing an output from the line sensor and an approximate expression acquired by approximating a light quantity distribution pattern by Fresnel diffraction is calculated, respectively, by differentiating a reference position in the approximate expression, and a position where a correlation value is peaked is detected as the edge position of a detection object.例文帳に追加

ラインセンサの出力を正規化処理した正規化光量分布と、前記フレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式との相関を該近似式における基準位置を異ならせてそれぞれ計算し、相関値がピークとなる位置を前記被検出体のエッジ位置として検出する。 - 特許庁

The information transmission means 69 of the main control means 60a performs control so as not to transmit information relating to the drawing result of a symbol combination to the sub control means 60b in games after a game in which the special symbol combination is won until a pattern combination corresponding to the special symbol combination stops on an effective line.例文帳に追加

メイン制御手段６０ａの情報送信手段６９は、特別役に当選した遊技以降の遊技であって特別役に対応する図柄の組合せが有効ラインに停止するまでの遊技では、役の抽選結果に係る情報をサブ制御手段６０ｂに送信しないように制御する。 - 特許庁

A microcomputer 26 provided for a rear ECU 24 controls LED drivers (a scan driver 27 and a data driver 28) so as to turn on and display the LED plate 23 with a lamp pattern read from a data storage part 29 based on a lamp command signal inputted from a lamp system multiplex communication line or the like.例文帳に追加

そして、リアＥＣＵ２４に備えられるマイコン２６が、灯火系多重通信線などから入力される灯火指令信号に基づき、データ記憶部２９から読み出した灯火パターンでＬＥＤ板２３を灯火表示するように、ＬＥＤドライバ（走査ドライバ２７およびデータドライバ２８）を制御する。 - 特許庁

To provide a high-frequency printed board design support device capable of carrying out electric property design rule checking on-time in a pattern design of a high-frequency printed board having transmission line property, without design and analysis being divided, and without needing knowledge of electric property and an analysis technique.例文帳に追加

伝送線路特性を有する高周波プリント基板の設計支援装置において、高周波プリント基板のパターン設計で、設計と解析が分業されず、電気特性の知識や、解析テクニックを必要とせず、電気特性デザインルールチェックが、オンタイムで実施できる高周波プリント基板板設計支援装置を提供する。 - 特許庁

Since the output currents are outputted as the video signals by using signals having a frequency ϕVSn which is lower than that ϕHSm of signals given to a horizontal selection line 5, the influence of capacitive coupling can be reduced even when the ON-resistances of the MOS transistors T3 which cause the fixed-pattern noise are reduced.例文帳に追加

よって、水平選択線５に与えられる信号φＨＳｍよりも低周波の信号φＶＳｎによって出力電流が映像信号として出力されため、固定パターンノイズの原因となるＭＯＳトランジスタＴ３のＯＮ抵抗を小さくしても、容量結合による影響を小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a vehicular head light configured to form a predetermined light distribution pattern having a cutoff line on its upper edge by the light irradiation from a plurality of lighting fixture units, optical axes of which units are adapted to be collectively adjusted while the thickness reduction of the lighting fixtures are achieved without complicating the lighting fixture structure.例文帳に追加

複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁

Information area read while directing the longitudinal direction of lines (92) on a measuring line pattern including a plurality of lines (92) formed of dot rows corresponding to recording elements respectively to a sub-scanning direction of an image reading apparatus, and reducing the read resolution of the sub-scanning direction of the image reading apparatus as compared to the reading resolution of a main scanning direction.例文帳に追加

各記録素子に対応したドット列による複数のライン（92）を含んだ測定用ラインパターン上のライン（92）の長手方向を画像読取装置の副走査方向に向け、当該画像読取装置の副走査方向の読取解像度を主走査方向の読取解像度に比べて低解像度として読み取りを行う。 - 特許庁

The developing device is provided with an atmospheric pressure measuring part 101, and a control part 106 controls the projection pressure of a developing solution 105 projected from a nozzle 103 by a developing solution projection part 104 on the basis of correlation information between dimensional errors in the line width of a pattern which are generated under a plurality of atmospheric pressures and the measured atmospheric pressures.例文帳に追加

現像装置に気圧計測部１０１を設け、制御部１０６が複数の気圧下において生じるパターンの線幅の寸法との誤差を計測した気圧との相関関係情報を基に、現像液射出部１０４がノズル１０３から射出する現像液１０５の射出圧を気圧に応じて制御する。 - 特許庁

When a third reel 9c is stopped with predetermined timing at this time, the symbol '7' when a BB winning flag is released by conducting realized bonus distributing drawing or a pattern 'BAR' otherwise stops on the prize line 45 in the center and the BB shifting bonus or the RB shifting bonus is won.例文帳に追加

このときに、所定のタイミングで第３リール９ｃを停止させると、放出役振り分け抽選を行ってＢＢ当選フラグを放出させる場合には絵柄「７」が、それ以外の場合には絵柄「ＢＡＲ」が中央の入賞有効ライン４５上に停止して、ＢＢ移行役又はＲＢ移行役が入賞する。 - 特許庁

In the Japanese kana syllabary key arrayed part 10 where keys are arrayed in 5 steps of 10 columns, the Japanese kana syllabary arrayed part 10 is put into an array configuration that both the column directions and the step directions are arranged in tile pattern, and the keys allocated with each line of the Japanese kana syllabary by each column are provided in a keyboard main body 1 of a keyboard 100.例文帳に追加

１０列５段にキーが配列される、かなキー配列部１０において、そのかなキー配列部１０を列方向、段方向ともに整列した升目状の配列形態とするとともに、各列毎に、かな五十音の各行を割り付けたキーをキーボード１００のキーボード本体１に備える構成にした。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures good pattern profile and line edge roughness, and produces little residue on development (scum).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣（スカム）の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method includes: (a) making a molding material 10 get in line contact with an open molding mold 16 and stamping a microfluid treatment structure pattern on the molding material 10 to mold a molding; and (b) separating the molding from the molding surface.例文帳に追加

（ａ）成形可能材料（１０）と成形面を有する開放成形型（１６）とを互いに線接触させて、ミクロ流体処理構造パターンを成形可能材料（１０）上に捺印することにより、成形品を形成することと、（ｂ）成形品を成形面から分離することとを含む成形品を作製する方法。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness).例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When detection signals outputted from each photodetector of the line sensor of an image reading unit 28 are corrected as the inspection chart has been completely read, the correction data corresponding to the combination of the photodetector and the color of a read pattern are read out from the filter correction table 32, and a correction process is carried out by use of the correction data.例文帳に追加

検査チャートを読み取った時に画像読取部２８のラインセンサの各光検出器が出力する検出信号を補正する際、当該光検出器とそのとき読み取っているパターンの色との組合せに対応する補正データをフィルタ補正テーブル３２から読み出し、これを用いて補正を行う。 - 特許庁

The vertical drive circuit YD in particular sets a selection pattern, in which the selection period for writing the picture signal with respect to the pixel PX of each line does not coincide with the selection period for writing the non-picture signal to the pixel PX of the other lines, based on enable signals OE1-OE3 provided from the controller 5.例文帳に追加

特に、垂直駆動回路ＹＤは各行の画素ＰＸに対する映像信号書込用の選択期間と他の行の画素ＰＸに対する非映像信号書込用の選択期間とを重複させない選択パターンをコントローラ５から供給されるイネーブル信号ＯＥ１〜ＯＥ３に基いて設定する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern for alignment of a read line is formed outside an effective area part, with respect to an optical element having had a high rotational eccentricity sensitivity with respect to an optical axis and high eccentricity sensitivity in a subscanning direction because the optical element has a power asymmetric with respect to the optical axis, to thereby facilitate the alignment adjustment.例文帳に追加

そこで、本発明では、光軸非対称なパワーを有することが原因で、光軸に対して回転の偏心敏感度や副走査方向の偏心敏感度の高かった光学素子に対して、読み取りラインのアライメント用のパターンを有効領域部外に形成し、アライメント調整を容易に行えるようにした。 - 特許庁

Various elements (44) of light scattering or optical absorption performance are installed on the surface (42), thereby, the intensity of light which reflects to a region (214) upper than the light-shade boundary line (206) of the light distribution pattern (202) is made smaller than the case wherein the light scattering or optical absorption elements (44) are not installed.例文帳に追加

表面（４２）に、光散乱性または光吸収性の諸要素（４４）を設け、これによって、配光パターン（２０２）の明暗境界線（２０６）より上の領域（２１４）へ反射する光の強度を、光散乱性または光吸収性諸要素（４４）が設けられなかった場合よりも小さくする。 - 特許庁

To provide a method of subjecting a substrate to development processing by discharging a developer from a nozzle disposed above in a substrate conveying direction, the method being such that even if there is a difference in progresses of developments in the conveying directions of the substrate, a problem of variations in line widths of a color filter pattern in the front and rear portions of the substrate is solved.例文帳に追加

基板搬送方向の上部に配設されたノズルから現像液を吐出し、前記基板を現像処理する方法において、前記基板の搬送方向で現像の進み具合に差があって、前記基板の前後でカラーフィルタパターンの線幅がばらつくというという問題を解決する手段の提供である。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In a photograph vending machine, a plurality of image regions "B", "O", "N" are set for a pattern image "BON" to be inputted and edited into a photographed image, and control information for controlling to display the image while changing the image according to a reference line based on the locus of a touch pen is set for each image region.例文帳に追加

写真自動販売機においては、撮影画像に編集入力される模様画像「ＢＯＮ」に対して複数の画像領域「Ｂ」，「Ｏ」，「Ｎ」が設定され、各画像領域に対して、タッチペンの軌跡に基づいた基準線に応じて変化させて表示する制御を行なうための制御情報が設定される。 - 特許庁

To effectively use the interiors of trench regions for a wiring, to contrive reduction in a chip size, to reduce the size of a cell pattern in the direction intersecting orthogonally a word line in the case where a semiconductor device is applied to the memory cell of a CMOS STRAM, and to enable the speedup of the STRAM in the device using a trench element isolation structure.例文帳に追加

トレンチ型素子分離構造を用いた半導体装置において、トレンチ領域の内部を配線のために有効に活用し、チップサイズの縮小化を図り、ＣＭＯＳ型のＳＲＡＭのメモリセルに適用した場合には、ワード線に直交する方向のセルパターン寸法を縮小化し、ＳＲＡＭの高速化を実現する。 - 特許庁