| 意味 | 例文 |
Line Patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3472件
A semiconductor device in an embodiment comprises: a semiconductor substrate; an element region of a memory cell provided on the semiconductor substrate; and an active region and an element isolation region formed in a line-and-space pattern in the element region of the memory cell.例文帳に追加
本実施形態の半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられたメモリセルの素子領域と、前記メモリセルの素子領域にラインアンドスペースパターン状に形成された活性領域および素子分離領域とを備える。 - 特許庁
To prevent the generation of a deterioration of image quality caused by potential variation and the like of a common electrode line and a counter electrode to a hatch pattern wherein bright gradation and dark gradation are repeated with a fixed period when a capacitive coupling driving system is adopted.例文帳に追加
容量結合駆動方式を採用した場合に、一定の周期で明階調と暗階調とが繰り返されるハッチパターンに対して、共通電極線や対向電極の電位変動などに起因する画質劣化が発生することを防止する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加
高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加
本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁
The diagnosis processing device 3 includes a means 31 for receiving measurement data via the communication line 4, a means 32 for accumulating the received measurement data, a means 33 for characterizing the accumulated measurement data as a time-series fluctuation pattern, a means 34 for classifying power consumption conditions for each event, based on the time-series fluctuation pattern, and a means 35 for distributing the event information.例文帳に追加
診断処理装置3は、通信回線4を介して計測データを受信する手段31と、受信された計測データを蓄積する手段32と、蓄積された計測データを時系列変動パターンとして特徴化する手段33と、時系列変動パターンに基づいて電力消費状況を事象別に分類する手段34と、事象情報を配信する手段35とを含む。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加
露光後の加熱処理までの引き置き時間(PED)により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
Based on the field signals f1-f4, the ROM 300, 302, 304, 306 decode and output 4-line simultaneous selecting MLS operation results performed on the display patterns identified by the 1st to 4th bits of gradation data and the dummy display patterns corresponding thereto by using an orthogonal function specified by a combination of a scanning pattern and a dummy scanning pattern of a virtual electrode.例文帳に追加
ROM300、302、304、306は、走査パターンと仮想電極のダミーの走査パターンとの組み合わせにより規定される直交関数を用いて、階調データの第1〜第4ビットにより特定される表示パターンとこれに対応したダミーの表示パターンとに対して行った4ライン同時選択のMLS演算結果を、フィールド信号f1〜f4に基づき、デコード出力する。 - 特許庁
The data creation method for an electron beam projection photolithography machine is characterized by including a process of creating flat data by expanding the pattern data of a hierarchized mask, a process of performing profiling that extracts the profile line of the pattern on the flat data, and a process of extracting cells in which polygons have the same patterns and hierarchizing the cells.例文帳に追加
電子ビーム投影露光装置用のデータ作成方法において、階層化されたマスクのパターンデータを展開してフラットなデータを作成する工程と、このフラットなデータについてパターンの輪郭線を抽出する輪郭化処理を行う工程と、このフラットなデータから同一の形状のポリゴンを有するセルを抽出して階層化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.例文帳に追加
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンLoのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンHia〜Hieに分割されたハイビーム用配光パターンHiを形成可能な灯具ユニットと、前方車両400の存在に応じて各個別パターンHia〜Hieの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁
In the multi-wiring film forming step, a dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed in a region other than the dicing region in the scribe line region, and no dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed at least on an upper part of the interlayer insulating film in the dicing region.例文帳に追加
そして、前記多層配線膜を形成する工程において、前記スクライブライン領域における前記ダイシング領域を除く領域には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成し、前記ダイシング領域における前記層間絶縁膜の少なくとも上部には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成しない。 - 特許庁
The substrate 10 for a power module is made by brazing a surface of a ceramic substrate 11 with a backside 12a of a conductor pattern member 12 formed by stamping a metal plate, a flange-like protrusion 15 projecting from a side 12c toward the direction along a surface 12b is provided in a edge line portion of the surface 12b and the side 12c of the conductor pattern member 12.例文帳に追加
セラミックス基板11の表面に、金属板の打ち抜き加工により形成された導体パターン部材12の裏面12aがろう付けされてなるパワーモジュール用基板10であって、導体パターン部材12の表面12bと側面12cとの稜線部に、側面12cから表面12bに沿う方向に突出するフランジ状突起15が設けられている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the change in a width of a line of a connecting part of a transferred pattern and effectively connecting a plurality of divided patterns in the case of forming the pattern of the semiconductor device, by transferring to a resist coating the wafer by using an electron beam exposure device by forming a plurality of the divided patterns on the mask.例文帳に追加
分割された複数のパターンをそれぞれのマスク上に形成し、ウエハ上に塗布したレジストに電子線露光装置を用いて転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、かつ、分割された複数のパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter by which a pattern can be formed with high definition, particularly, a black image with extremely little variance in line width can be efficiently formed by forming a desired imaging pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.例文帳に追加
光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うカラーフィルタの製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
A first wiring pattern 20 corresponding to the odd ink ejecting parts 16 among a plurality of ink ejecting parts 16 arranged in line at the end face part 14 of a head body 12 is arranged at one planar section 18 of the head body 12 and a second wiring pattern 24 corresponding to the even ink ejecting parts 16 is arranged at the other planar section 22 of the head body 12.例文帳に追加
ヘッド本体12の端面部14にライン状に配設されて構成された複数のインク吐出部16のうち、奇数番目にあたるインク吐出部16に対応する第1の配線パターン20をヘッド本体12の一方の平面部18に配設し、偶数番目にあたるインク吐出部16に対応する第2の配線パターン24をヘッド本体12の他方の平面部22に配設する。 - 特許庁
This automatic train operating device comprises a train characteristics learning means for collecting information of train resistance and line resistance during train running, and an automatic train operating means of calculating an operating pattern optimum to the train based on the train information collected by the train characteristics learning means and automatically operating the train based on the pattern.例文帳に追加
列車走行中に列車抵抗と路線抵抗の情報を収集する列車特性学習手段と、前記列車特性学習手段により採取された列車に関する情報基づき列車の最適な運転パターンを算出しこのパターンに基づき列車を自動運転する自動列車運転手段と、を備えることを特徴とする自動列車運転装置。 - 特許庁
Productivity is thereby enhanced while saving the cost by skipping the photographic step in a process for producing a semiconductor package being used for driving an LCD, reliability of a product is improved by preventing occurrence of a defect in the process for forming the circuit pattern 110 of metallic material and a circuit pattern having a fine line width is produced more efficiently.例文帳に追加
したがって、LCD駆動用として使われる半導体パッケージの配線基板を製造する過程で写真工程を省略してコスト節減及び生産性の向上効果が得られ、金属材質の回路パターン110を作る過程で発生する欠陥を防止して製品の信頼性を改善し、微細線幅を有する回路パターンをさらに効率的に作られる。 - 特許庁
To provide a micro-antenna which not only operates in multiple resonance frequency bands of an AM/FM band, a terrestrial DMB band, a PCS band, and a Wibro band by a single pattern in which a radiation part is optimized to a Hilbert-type meander line, but also greatly reduces the external design and size of a radome by a pattern structure of the optimized antenna.例文帳に追加
輻射部がヒルベルト型のメアンダーラインに最適化した単一パターンによって、AM/FM帯域、地上波DMB帯域、PCS帯域及びWibro帯域の多重共振周波数帯域で動作するだけでなく、最適化したアンテナのパターン構造によってレードームの外形的なデザインと大きさが大幅に減少した超小型アンテナを提供する。 - 特許庁
To finely control a light irradiation dose to a short distance region of the road surface in front of a vehicle as well, after enabling light irradiation with a light distribution pattern and an irradiation angle corresponding to a traveling situation of the vehicle in a vehicular head-light which forms the light distribution pattern having a cut-off line at the upper end part by a projector type lighting fixture unit.例文帳に追加
プロジェクタ型の灯具ユニットにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成する車両用前照灯において、車両走行状況に応じた配光パターンおよび照射角度で光照射を行えるようにした上で、車両前方路面の近距離領域への光照射量についても木目細かく制御できるようにする。 - 特許庁
This KANJI retrieving method adopts twenty-four reference patterns formed by combining one to four lines, while each reference pattern is composed of one type of a line or two types of lines among four types of lines which are horizontal, vertical, downward to the right or downward to the left, and retrieves KANJI by searching a similar reference pattern from the structure of KANJI strokes.例文帳に追加
1本乃至4本の線条を組合せてなる24個の基準パターンを採用し、各基準パターンが、水平、垂直、右下がり、左下がりの四種類の線条のうち一種類の線条或いは二つの種類の線条を以て組成され、漢字の字画の骨組より類似する基準パターンを探すことにより漢字を検索することを特徴とした漢字検索方法としている。 - 特許庁
The width of the first bonding pad in a first direction in which the first bonding pad and the second bonding pad are in-line with each other is the same as the width of the first land pattern in the first direction, and the width of the first bonding pad in a second direction orthogonal to the first direction is narrower than the width of the first land pattern in the second direction.例文帳に追加
そして、前記第1のボンディングパッドと前記第2のボンディングパッドと、が並ぶ第1の方向における前記第1のボンディングパッドの幅は、前記第1のランドパターンの前記第1の方向における幅と同じであり、前記第1の方向に直交する第2の方向における前記第1のボンディングパッドの幅は、前記第2の方向における第1のランドパターンの幅よりも狭い。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes gate lines 21 and data lines 60 defining pixel regions by a crossing structure, a pixel electrode 100 formed in the pixel region and having a diagonal side formed adjacent to a crossing portion of the gate line and the data line, and a light blocking pattern 23 preventing light leakage and formed parallel to the diagonal side of the pixel electrode.例文帳に追加
交差構造で画素領域を定義するゲートライン21及びデータライン60と、前記画素領域に形成され、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部と隣接する一辺が傾斜して形成された画素電極100と、前記画素電極の傾斜した一辺と並んで形成されて光漏れを遮蔽する光遮蔽パターン23とを含む液晶表示装置及びその製造方法。 - 特許庁
To draw at high speed a pattern having a mixed plurality of lines with directions and widths different from each other on the same base material for each line of the same direction line by relatively moving liquid droplet ejecting heads to the base material, by ejecting the liquid droplets while relatively moving the liquid droplet ejecting heads in the same direction in relation to the base material, respectively.例文帳に追加
液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うこと。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加
画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して4倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁
The flexible wiring substrate 5 is constituted by forming separately a head part substrate 51 provided with a circuit pattern in which various electrical parts mounted on the head apparatus 1 are placed or connected and a transmission line substrate 52 forming a transmission line coupling a circuit substrate 7 placed on the equipment main body and the head part substrate 51, and connecting the head part substrate and the transmission substrate 52 by joint.例文帳に追加
ヘッド装置1に搭載される各種電気部品が設置、あるいは接続される回路パターンを備えるヘッド部基板51と、機器本体に設置される回路基板7及び前記ヘッド部基板51間を結ぶ伝送路を形成する伝送路基板52とを分割して形成し、ヘッド部基板51と伝送路基板52とを接合により繋げてフレキシブル配線基板5を構成している。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that is excellent in fundamental properties of a resist, such as sensitivity and resolution, even if a thin film, is excellent in exposure latitude when a line pattern is formed, and can form a resist film for reducing residues after development.例文帳に追加
薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In a semiconductor wafer 11, reccessing is carried out in parallel line shape on an upper surface 11b where an adhesive tape 5 is attached, opposite to the lower surface 11a on which a pattern is formed, a plurality of U-shaped grooves 12 are formed as an air duct or an adhesives passage.例文帳に追加
半導体ウエハー11において、パターンの形成された下面11aとは反対側の粘着テープ5が貼着される上面11bに、平行線状に溝加工を施し、空気通路あるいは接着剤通路としての複数本の凹溝12を形成する。 - 特許庁
A plurality of patterns (rotation detection pattern 30) which consist of the repetition of straight line sections which have at least one side having a certain angle to the axis formed on an outer perimeter for one round, and attached to a transparent rotation roller 29 set up on a fingerprint reading section 20.例文帳に追加
指紋読み取り部20に設けられた透明回転ローラ29には、少なくとも一方が軸に対して一定の角度をもつ直線部の繰り返しからなる複数のパターン(回転検知用パターン30)が外周面の1周渡って付されている。 - 特許庁
To provide a copper foil with a carrier easy to handle, superior in workability of a laminating process, and of course realizing a high bonding strength with a board and a large Ef(etch factor) value even with a fine wiring pattern having a line breadth and a pitch between wires of about 30 μm.例文帳に追加
線幅や線間ピッチが30μm前後のファインな配線パターンの場合であっても大きいEf値と、基板との高い接合強度を実現できるのは勿論のこと、取扱も容易で、積層工程の作業性に優れるキャリヤー付き銅箔を提供する。 - 特許庁
To simplify the shapes of an element active region and a gate electrode, facilitate pattern formation in a lithography process, reduce registration deviation of resist patterns, and relieve design rule of a divided path of a word line while variation in storage characteristics of a semiconductor storage device is prevented.例文帳に追加
素子活性領域およびゲート電極の形状の単純化を図り、リソグラフィ工程におけるパターン形成を容易にし、レジストパターンの合わせずれを低減して、半導体メモリの記憶特性の変動を防止しつつ、ワード線の分路の設計ルールの緩和を図る。 - 特許庁
Therefore, even when a linear mark is formed on the surface of the protruding member 25 due to contact of the protruding member 25 with the case body 13 during the movement of the protruding member 25, the linear mark is formed in the same direction as the striped pattern 48 along one straight line.例文帳に追加
したがって、突片部材25の移動中に例えば突片部材25および筐体13の接触に基づき突片部材25の表面に線状痕が形成されても、線状痕は1直線に沿って縞模様48と同一の方向に形成される。 - 特許庁
A bottom water-collecting hole 6 is elongated to the upstream side along the valley line T of the hardly-permeable ground 2 from a lower side surface of the vertical shaft 4, and upper water-collecting holes 7 etc. are elongated from an upper side surface of the vertical shaft 4 in such a pattern as to be radial in a plan view.例文帳に追加
立坑4の下位部側面からは、難透水性地盤2の谷線Tに沿って底部集水孔6が上流側に延出するとともに、立坑4の上部側面からは、上部集水孔7…が平面視放射状に延出している。 - 特許庁
To provide a surge protective circuit and a surge absorbing element of an electronic equipment wherein energy of a surge voltage form commercial power source line is attenuated by being converted into heat, the remaining surge voltage is discharged by a pattern gap, and mounting can be carried out easily by patterning a resistor and the gap integrally with other circuit components on a printed circuit board.例文帳に追加
電子機器のサージ保護回路内に設けた、サージ吸収素子を抵抗とパターンギャップで構成しコノサージ吸収素子をプリント基板の他の回路の能動素子や受動素子と一緒に形成し、組み立て工数を減少させてコストダウンを計る。 - 特許庁
To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.例文帳に追加
たとえばEUV光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁
Information light carrying and supporting the two-dimensional pattern information corresponding to data and reference light for recording modulated by phase modulation patterns are arranged on the hologram optical information recording medium in such a manner that the optical axes are aligned to the same line and the generated interference patterns are recorded.例文帳に追加
ホログラム光情報記録媒体に、データに対応する2次元パターン情報を担持した情報光と位相変調パターンで変調された記録用参照光を光軸が同一線上となるように配置し、発生する干渉パターンを記録される。 - 特許庁
A brightness and darkness boundary forming part 41C which cuts off a part of the reflection light from a reflector 34 for reflecting frontward the direct light from the light source 12a and forms a cut-off line CL of the light distribution pattern is formed at the front end part of the brightness and darkness boundary formation board 41.例文帳に追加
光源12aからの直接光を前方に反射するリフレクタ34からの反射光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインCLを形成する明暗境界形成部41Cが、明暗境界形成板41の前端部に形成される。 - 特許庁
To provide a full body cleaving method capable of a high speed cleaving, generating no stripe pattern on the cleaved surface, realizing a thermal stress cleaving high in speed and quality and having high smoothness, also capable of freely controlling the position of cleaving line and the cleaving speed.例文帳に追加
高速割断が可能であり、しかも割断面に縞模様がなく、高い平滑性を有する高速で高品質の熱応力割断を実現するとともに、割断線の位置および割断速度を自由に制御することができるフルボディ割断方法を提供する。 - 特許庁
The camera moving mechanism control part decides the change amounts of a distance from each of those line sensor cameras to the imaging medium for test from the point for correcting the synthesized image supplied from the pattern recognition part, and supplies a control signal to a camera moving mechanism 14.例文帳に追加
カメラ移動機構制御部は、パターン認識部より供給された合成画像補正のためのポイントとなる部分から、ラインセンサカメラそれぞれからのテスト用撮像媒体に対する距離の変化量を判断し、制御信号をカメラ移動機構14に供給する。 - 特許庁
To provide a winding temperature controller with which the pattern of the quantity of cooling water for a rolled stock is prevented from being affected by disturbance, by on-line deciding the quantity of cooling water in consideration of a variation in speed of the rolling stock and a variation in temperature on the inlet side of a cooling system.例文帳に追加
圧延材に対する冷却水量パターンを、圧延材の速度変化や冷却装置の入側温度変化を取り込んでオンラインで冷却水量を決めることによって、外乱の影響を低減することのできる巻取温度制御装置を提供する。 - 特許庁
When a reach state appears on the effective line set at the beginning, the remaining one end part showing an unstop portion of the effective lines reciprocates in the vertical direction, fluctuation of patterns and the effective lines are stopped soon and an execution result of the pattern matching game is established.例文帳に追加
また当初設定した有効ライン上にリーチ状態が出現すると、有効ラインのうち残る1つの未停止箇所を示す端部が上下等に往復動し、やがて図柄および有効ラインの変動が停止して図柄合わせゲームの実行結果が確定する。 - 特許庁
The image-forming optical system forms a light from a part on an extension of the read line of a position read pattern drawn on a position read board 11, and the CCD sensor 30 detects the light so as to detect deviations in the scanning position in the subscanning direction based thereon.例文帳に追加
位置読取用板11に描かれた位置読取用パターンの読み取りライン延長上の部分からの光も結像光学系により結像されCCDセンサ30により検出され、これに基づいて副走査方向の走査位置ずれが検出される。 - 特許庁
In this image forming apparatus, a header part 48 is provided with the head of each line of a tracking pattern, and a scan data generating part 27 is provided with a pre-scanning part 29 comprising a header reading part 38, a main scanning image start position register 39 and a main scanning image end position register 40.例文帳に追加
追跡パターンの各ライン先頭にヘッダ部48を設け、スキャンデータ生成部27に、ヘッダ読み取り部38、主走査画像開始位置レジスタ39及び主走査画像終了位置レジスタ40からなるプレスキャン部29を設けた画像形成装置。 - 特許庁
To prevent the formation of a mark in the vicinity of a corner part from being adversely influenced by preventing the overexposure of photosensitive agent on a wafer in an area corresponding to four corner parts of a chip area out of a scribed line area in the case of performing pattern exposure to the photosensitive agent on the wafer.例文帳に追加
ウエハー上の感光剤に対してパターン露光する際、スクライブライン領域のうちでチップ領域の四隅部に対応する領域におけるウエハー上の感光剤の露光オーバーを防止し、隅部の近傍でのマーク形成に悪影響を及ぼさない。 - 特許庁
In a symbol combination game, the display mode of a pattern display device (a visual display part H) is controlled so that the physical decoration D is added to patterns on a prescribed line to execute the notice presentation for previously notifying the player of the development of the symbol combination game.例文帳に追加
図柄組み合わせゲーム中、所定列の図柄に対して有形装飾Dが付加されるように、図柄表示装置(可視表示部H)の表示態様を制御し、図柄組み合わせゲームの展開を遊技者に予め告げるための予告演出を行う。 - 特許庁
In the liquid crystal display device and the method for fabricating the liquid crystal display device, the number of mask further can be reduced by forming an active pattern and a storage electrode with a single mask process and also by patterning a pixel electrode, too simultaneously upon the patterning of a gate line.例文帳に追加
アクティブパターンとストレージ電極を1回のマスク工程で形成することによって、また、ゲート配線のパターニング時に画素電極をも同時にパターニングすることによって、マスク数をさらに減少させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The processing device 33 compares original data with the inspection data by pattern matching or the like by using line data obtained from drawing data as the original data, to determine whether the installation work of the block B is in the prescribed finish state shown by the drawing or not.例文帳に追加
一方、処理装置33は、図面データから得られた線画データを元データとし、この元データと前記検査データとをパターンマッチング等により比較して、ブロックBにおける艤装作業が、図面により示された所定の完成状態になっているかどうか、判定する。 - 特許庁
A toner ejection pattern P, formed on a photoreceptor drum 14 when performing the refresh process, is obtained by repeating development of a line image L, which has a predetermined inclination to a main scan direction, at predetermined intervals over a width H of a development region of a developing roller 35.例文帳に追加
リフレッシュ工程の実行時に感光体ドラム14上に形成するトナー吐出パターンPを、主走査方向に所定の傾きを有するライン画像Lを現像ローラ35の現像領域の幅Hに亘って所定の間隔で繰り返し現像した構成とする。 - 特許庁
Next, the method obtains second correlation of an energization time and a temerature increase of the joint when energizing a second direct current having the same energization pattern as the first direct current to a second superconductive cable line being a target of evaluating the integrity of the joint.例文帳に追加
次に、接続部の健全性を評価する対象である第2超電導ケーブル線路に第1直流電流と同様の通電パターンを有する第2直流電流を通電したときの通電時間と接続部の温度上昇との第2相関関係を求める。 - 特許庁
To compose a noise eliminator capable of eliminating noise even in animation photography to the fixed pattern noise of a solid-stage imaging device that appears as a vertical line in the video output of a video camera, or the like, has a fixed position on a screen, and is easily conspicuous.例文帳に追加
ビデオカメラ等の映像出力に縦すじとして現れ、画面上で位置が固定されており目立ちやすい固定撮像素子の固定パターンノイズに対して、動画撮影においてもノイズ除去が可能となるノイズ除去装置を構成することを目的とする。 - 特許庁
To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加
本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁
To provide a conductor temperature estimation method which can highly precisely and easily estimate a conductor temperature at an arbitrary time or a peak value of a conductor temperature when a load current having a daily load pattern is applied to an installed power cable line.例文帳に追加
布設された電力ケーブル線路において日負荷パターンを有する負荷電流が繰り返し流れる場合の任意の時刻における導体温度あるいは導体温度のピーク値を精度良く、しかも簡便に推定できる導体温度推定方法を提供する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|