「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

A negative photosensitive conductive material 16 is applied on the inter-line insulating layer 14 and in the spiral groove 13 like a film, and exposed by using the same photomask 30, and the non-exposed part is removed so that a coil conductor pattern can be formed.例文帳に追加

ライン間絶縁層１４の上及びスパイラル溝１３内にネガ型感光性導電材料１６を膜状に付与して同じフォトマスク３０を用いて露光して未露光部分を除去し、コイル導体パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method if producing a matrix array substrate by which production of fatal defects in a substrate resulting in that the whole substrate can no be used is prevented even when some defects are present in a gate line pattern and by which the production yield can be improved.例文帳に追加

ゲート線パターンに欠陥があるような場合であっても、基板全体が使用不可となるような致命的な欠陥の発生を防止し、歩留まりの向上が可能なマトリクスアレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a remote terminal device for quickly performing frame communication between a communication unit and each I/O unit for reducing the substrate occupancy area of a conductor pattern for a communication line which is required for communication.例文帳に追加

通信ユニットと各Ｉ／Ｏユニットとの間において高速にフレーム通信を行うことができ、しかも通信に要する通信ライン用導体パターン等の基板占有面積が小さくて済むようにしたリモートターミナル装置を提供すること。 - 特許庁

The block dividing means changes a pattern by which the line sensor is divided into the plurality of photoelectric conversion element blocks so that an arrangement of the effective focus detection areas in the photographic image plane is switched in accordance with an operation by a user.例文帳に追加

ブロック分割手段は、使用者の操作に応じて撮影画面内における有効焦点検出領域の配置が切り替わるように、ラインセンサを複数の光電変換素子ブロックに分割するパターンを変更する。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.例文帳に追加

光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前を提供する。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.例文帳に追加

光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for vehicle of projector type having a light-emitting element as a light source in which appearance of spectral colors due to chromatic aberration in the vicinity of the upper part of a cut-off line in a low-beam light distribution pattern is effectively suppressed.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用照明灯具において、ロービーム用配光パターンにおけるカットオフラインの上方近傍に、色収差による分光色が現れてしまうのを効果的に抑制する。 - 特許庁

To provide a vehicular lamp capable of making clear a light-shade boundary line of a light-distribution pattern formed by superposing light projected from a plurality of lenses even if the positional relationship between the plurality of lenses and a plurality of light-emitting elements is not set up in high precision.例文帳に追加

複数のレンズ及び複数の発光素子の位置関係を高精度にしなくとも、複数のレンズから投射された光を重ね合わせて形成される配光パターンの明暗境界線が明りょうに現れるようにする。 - 特許庁

To display high-definition images with less distortions by precisely correcting the effect of load fluctuation in a lamp signal line caused by a pattern to be displayed, while maintaining the advantages such as the high linearity of the DA conversion system using lamp signals.例文帳に追加

ランプ信号を用いたＤＡ変換方式の直線性の良さなどのメリットを保持しつつ、表示する絵柄によるランプ信号線の負荷変動の影響を高精度に補正し、より歪の少ない映像を高画質に表示する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The coaxial connector connection part is provided with an end face through-hole which is connected to a ground pattern and has a land, and the end face through-hole is positioned in the vicinity of a signal line to suppress transmission loss.例文帳に追加

同軸コネクタ接続部に、グランドパターンと接続され、かつ、ランドを有する端面スルーホールを設け、かつ、この端面スルーホールを信号線路に近接して位置させることにより、伝送損失が抑制されることを手段とする。 - 特許庁

An aluminum wiring 2 having a meandering circuit pattern is formed just on a dicing line D on the semiconductor wafer 1, and a current is conducted via an electrode pad (not shown) connected to connection terminals 2a, 2b of the aluminum wiring 2.例文帳に追加

半導体ウェハ１におけるダイシングラインＤ上に直に、蛇行した回路パターンを有するアルミニウム配線２を形成し、このアルミニウム配線２の接続端子２ａ、２ｂに接続された電極パッド（図示せず）を介して電流を流す。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The nozzle plate 12 has a row of nozzles 5 consisting of a plurality of liquid drop discharge ports 5a-5c with different hole diameters and forms a line pattern on a substrate 25 by discharging ink 17-20 from each liquid drop discharge port 5a-5c.例文帳に追加

孔径の異なる複数の液滴吐出口５ａ〜５ｃからなるノズル列５を有するノズルプレート１２において、前記各液滴吐出口５ａ〜５ｃからインク１７〜２０を吐出させて基板２５に対してラインパターンを形成する。 - 特許庁

This non-contact data carrier 120 has an insulation base material 29, an antenna coil 25 composed of a circulating line pattern 26 formed on the surface of the material 29 and an IC chip 28 connected to both ends 22A and 22B of the coil 25.例文帳に追加

非接触式データキャリア１２０は、絶縁基材２９と、絶縁基材２９の表面に形成された周回する線パターン２６からなるアンテナコイル２５と、アンテナコイル２５の両端２２Ａ，２２Ｂに接続されたＩＣチップ２８とを有する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

Especially, the object is considered as two knife edges disposed separately by distance δ in the optical axis direction, multiple fresnel diffraction is considered to occur in these knife edges, the light quantity distribution pattern detected by the line sensor is analyzed.例文帳に追加

特に物体を光軸方向に距離δを隔てて設けられた２枚のナイフエッジと看做し、これらのナイフエッジにおいてフレネル回折が多重に生じたとしてラインセンサにて検出された光量分布パターンを解析する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition which is useful in producing electrical/electronic materials, can be subjected to i-line exposure and can provide a relief pattern of polyimide resin, under a low-temperature heat-curing condition of 230-280°C.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能であり、２３０〜２８０℃の低温熱硬化条件においてポリイミド樹脂のレリーフパターンを与えうる感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

Stress from a squeegee of a seal plate is relaxed and physical twisting of meshes constituting the seal plate becomes extremely small to suppress the variation in print precision, especially the line width of the seal pattern 2, in the liquid crystal panel to an extremely small value.例文帳に追加

シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内のシールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

To provide an ink-jet head drive device and method capable of maintaining high-precision image recording for a long time by preventing defective discharge of ink even when the same image pattern is continuously formed by a full-line type ink-jet head.例文帳に追加

フルライン型のインクジェットヘッドにより同一の画像パターンを連続形成する場合でも、インクの吐出不良を防止して、高精度な画像記録を長期に渡って維持できるインクジェットヘッド駆動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

During the high beam irradiation, a part of the light from the reflector R1 which is irradiated to the lower half of the low beam light distribution pattern during the low beam irradiation is reflected by a reflecting plate E2 to irradiate the light to the upper side above a horizontal line.例文帳に追加

ハイビーム照射時には、ロービーム照射時にロービーム用配光パターンの下側半分に照射されるリフレクタＲ１からの光の一部を、反射板Ｅ２によって反射し、水平線よりも上側に照射する。 - 特許庁

To make it possible to suppress the breaking of the pattern C constituted by the coating liquid A3 by sufficiently flowing the coating liquid A3 coated in a line shape straddling a plurality of patterns F formed on the substrate W surface between the respective patterns F.例文帳に追加

基板Ｗ表面に形成された複数のパターンＦを跨いでライン状に塗布される塗布液Ａ3を各パターンＦ間に十分に流動させて、この塗布液Ａ3で構成されるパターンＣの断線を抑制可能とする。 - 特許庁

Also, an electrode pad 14 of a pattern for process monitoring or for evaluation of the reliability of the wiring and contacts is pulled out to the outside of the chip 11, by a lead wiring 15 for arranging it on a dicing line 12.例文帳に追加

また、前記ダミー配線１３によるプロセスモニタ用または配線及びコンタクトの信頼性評価用のパターンの電極パッド１４は、前記チップ１１外に引き出し配線１５を用いて引き出され、ダイシングライン１２上に配置されている。 - 特許庁

This reduces the size of an image of the light source 18a formed by reflected light from the region 20a1 close to the lower-end edge, thus a sufficient amount of light is secured for a part close to the cutoff line in the low-beam light distribution pattern P.例文帳に追加

これにより下端縁近傍領域２０ａ１からの反射光により形成される光源１８ａの像のサイズを小さなものとし、ロービーム配光パターンＰにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保する。 - 特許庁

A silicon (110) substrate having the normal line to the substrate surface tilted by 0° to 20° angle from the {110} axis of the silicon is used to form an opening pattern by lithography, and then the substrate is subjected to anisotropic etching to form a groove.例文帳に追加

基板表面に対する法線軸がシリコン｛１１０｝軸に対して０°から２０°の範囲で傾いたシリコン（１１０）基板を用いて、リソグラフィーにより開口パターンを形成した後、異方性エッチングを行って、溝部を形成する。 - 特許庁

A printer provided with an automatic cutter cuts the cut position adjusting pattern 300, determines the quantity of slippage between a cut line as a base and the actually cut lines, and corrects the cut position slippage in the actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ラインと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

Then candidates having an enough width D for the dimension measurement are selected from the candidates [1] to [5], and further, a candidate closest as possible to the dimension measurement part (center line) designated in the pattern before the OPC process is selected.例文帳に追加

次いで、候補［１］〜［５］の中から寸法測定を行うのに十分な幅Ｄを備えた候補を選別し、更にＯＰＣ処理前のパターンで指定した寸法測定箇所（中心線）からなるべく近い位置の候補を選別する。 - 特許庁

The sliding contact includes a contact 14A which is made of a carbon fiber bundle and a side 14a of which is formed as a sliding part brought freely into line contact or surface contact with tracks 30, 31 of a conductive pattern 32.例文帳に追加

本発明は、カーボンファイバ集束体からなり、その側部１４ａを導電パターン３２のトラック３０、３１に対する線接触自在または面接触自在の摺動部とした接点部１４Ａを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The front sleeve parts have sleeve center line parts 4a which pre positioned and cut on extension lines of shoulder lines at which a front body part 2 and a rear body part 1 are sewed and one paper pattern is used for taking a cloth for sleeve attachment parts of the front body part to sleeve bottom parts.例文帳に追加

前袖部分は、袖中心線部４ａが前身頃２と後身頃１の縫い合わされる肩線の延長線上に取られて裁断され、且つ前身頃への袖付け部から袖口部まで１枚の型で生地取りされる。 - 特許庁

A straight line groove 2a, having a U-shaped transverse section is formed along each of the four sides of an upper face of a laminated sheet 1, and a dicing mark 3a is constituted of an array of a plurality of mark pattern ends exposed to an inner face of the groove 2a.例文帳に追加

積層シート１の上面の４辺それぞれに沿って横断面Ｕ字形の直線溝２ａを形成して、この溝２ａの内面に露出した複数のマークパターン端の列によりダイシングマーク３ａを構成している。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

A control device 24 brings about a special game state advantageous to a player under a necessary condition that the pattern of the display device 13 is put into a specific stop mode on an effective line and finally and deterministically displayed.例文帳に追加

制御装置２４は、表示装置１３における図柄が有効ラインにおいて特定の停止態様となって最終的に確定表示されることを必要条件に、遊技者に有利な特別遊技状態を発生させる。 - 特許庁

An area of a region free from the feature points composed of a branch point of a ridge composing a fingerprint pattern and an point of the end of the ridge, on a predetermined remarked point, is extracted as core line stability to be used in matching.例文帳に追加

所定の注目点を中心とした、指紋模様を構成する隆線が分岐する点や終端する点からなる特徴点が存在しない領域の面積を芯線安定度として抽出し、照合に用いる。 - 特許庁

Seven kinds of cherries A-G are determined as combinations to be won by the derivation of the pattern of "cherry" on a left reel on a winning combinations, and when they are won, two tokens are put out per winning line.例文帳に追加

入賞ライン上において左のリールに「チェリー」の図柄が導出されることで入賞となる役としてチェリーＡ〜Ｇの７種類が定められ、これらの入賞時には、いずれも１入賞ライン当たり２枚のメダルが払い出される。 - 特許庁

The inclination of a horizontal stripe pattern 50 projected on a screen 1 is calculated by using sensor data obtained from outputs of horizontal line sensors 31c and 31d, and a correction amount for correcting the trapezoid distortion is calculated from the calculated inclination.例文帳に追加

スクリーン１に投影された横縞パターン５０の傾きを水平方向ラインセンサ３１ｃ，３１ｄの出力から得られるセンサデータを利用して求め、求めた傾きから台形歪みを補正する補正量を求めている。 - 特許庁

On the drawing lines in the neighborhood of the contact holes, a pattern 12 of a semiconductor film which shuts off ongoing to the drawing line surface of residual moisture in the anisotropic conductive resin via a first inter-layer insulator film is formed.例文帳に追加

該コンタクトホール近傍の引き出し配線上に第１の層間絶縁膜を介して異方導電性樹脂中の残存水分の引き出し配線表面への進行を遮断する半導体膜のパターン１２が形成される。 - 特許庁

In the flexible substrate 22, a wiring line 26 (an independent stripe pattern) which is not connected to an electrode of the panel is provided outside of wiring lines 23 and 24 and in the neighbor of the metal plate 21 to which at least the flexible substrate 22 is attached.例文帳に追加

フレキシブル基板２２において、配線（２３，２４）の外側に、パネルの電極と接続されない配線（独立した線状のパターン）２６を、少なくともフレキシブル基板２２を取り付ける金属板２１の端部近傍に設ける。 - 特許庁

Line widths of photoresist pattern are compared in a light shielding region and a light transmitting region by executing the photolithography process using a mask including the light shielding region and light transmitting region having a plurality of light transmitting patterns (S2, S5).例文帳に追加

複数の光透過パターンを有する光遮断領域及び光透過領域を有するマスクを利用し、フォトリソグラフィ工程を実行して（Ｓ２、Ｓ５）、光遮断領域及び光透過領域でフォトレジストパターンの線幅を比較する。 - 特許庁

In order to plot the pattern of an oblique line of 45°, coordinates of a field are inclined by 45°, and a deflection signal applied to each electrode of a positioning deflector 10 of eight electrodes is applied to an adjacent electrode arranged at intervals of 45°.例文帳に追加

４５°の斜線のパターンを描画するには、フィールドの座標を４５°傾け、８極の位置決め偏向器１０の各電極に印加する偏向信号を、４５°の間隔で配置されている隣の電極に印加するように制御する。 - 特許庁

By folding the folded part 33 of the insulating sheet 30 along the folding line A so that the fixed contact point 34 and the movable contact point 36 are opposed to each other, a gap 42 is formed for the conductor pattern 40 to be positioned inside the folding of the folded part 33.例文帳に追加

絶縁シート30の折り返し部33を、固定接点34と可動接点36とが互いに対向し合うように折り返し線Aに沿って折り返すことで、折り返し部33の曲げ内側に導体パターン40が位置する隙間42が形成される。 - 特許庁

A reference signal of the pattern same to that of a signal applied with a frequency band limitation equivalent to that of the signal of the M line signal generator 10 received in a propagation route is output from a reference signal generator 11'.例文帳に追加

参照信号発生器１１’からは、Ｍ系列信号発生器１０の信号が、その伝播経路において受けたものと同等の周波数帯域制限を施した信号と同じパターンの参照信号が出力されている。 - 特許庁

In the printed circuit board, the pad portion 10, in which a terminal portion 9 of the electronic component 3 is electrically connected to a part of the interconnect line pattern 11, and substrate exposing portion 12, exposing a substrate 14 forming a substrate 5 near the pad portion 10, are formed.例文帳に追加

配線パターン１１の一部に電子部品３の端子部９が電気的に接続されるパッド部１０及び該パッド部１０近傍に基板５を形成する基材１４を露出させた基材露出部１２が形成されている。 - 特許庁

The line thermal printer is arranged such that chopping control information (chopper pattern and chopper end period) is determined based on the print density and the temperature of a thermal head 12 and used in a drive control circuit 23 for controlling the heating time of a heating element 24.例文帳に追加

印字密度及びサーマルヘッド１２のヘッド温度に基づいてチョッピング制御情報（チョッパパターン及びチョッパ終了期間）が決定され、駆動制御回路２３による発熱素子２４の発熱時間の制御に供される。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition containing a new salt and a resin composition, having a good resist performance suitable for an excimer laser lithography, giving an improved line edge roughness and having a good pattern profile.例文帳に追加

新規な塩と樹脂成分を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した、レジスト性能が良好であるとともに、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁