「Line Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To shorten the time to be required for optical axis adjustment while securing a sufficient amount of irradiated light, in a lighting fixture for vehicles which forms a light distribution pattern having a cut off line on a top edge, by irradiation of light from a lighting fixture unit using light emitting elements as light sources.例文帳に追加

発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する配光パターンを形成する車両用照明灯具において、十分な照射光量を確保可能とした上で光軸調整に要する時間を短縮する。 - 特許庁

To provide an exposure device for exposing efficiently different kinds of color filter patterns with one exposure line, in the exposure device for pattern-exposing the color filter patterns for imposition on a treated substrate formed with a photosensitive layer, and to provide an exposure method for the different kinds of patterns.例文帳に追加

面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.例文帳に追加

移動ベクトル検出部２４では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部２５では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁

To provide an image evaluation device and an image forming method capable of quantitatively evaluating the void volume, that is, wormhole volume of color agent to be generated in the image of a character or thin line including a secondary color by automatically extracting an image pattern without being affected by the influence of color deviation.例文帳に追加

色ズレの影響を受けることなく、画像パターンを自動抽出して、２次色を含む文字や細線の画像に発生する色剤の抜け量、いわゆる虫食い量を定量的に評価できる画像評価装置および画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To detect automatically with high sensitivity a print defect of a phosphor formed on a glass substrate such as a plasma display panel without being influenced by a phosphor applied pattern, and to realize low-cost and high-speed defect inspection by being installed easily on a manufacture line of the panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

The pattern edge of a discharge inactive membrane 22 is formed at a position near the bus-bar portion b side or at the position at a distance of 50 μm or more from the electrode part fb, and the line width of the portion of the address electrode W facing the membrane 22 is narrower than the portion of the electrode YG facing the electrode part fp.例文帳に追加

放電不活性膜２２のパターンエッジは、母線部ｂ側に近い位置か、電極部ｆｐから５０μｍ以上の距離を隔てた位置に設けられ、アドレス電極Ｗの膜２２に対面する部分の線幅は、電極ＹＧの電極部ｆｐに対面する部分よりも細い。 - 特許庁

Before inspecting an inspection object 1, the light quantity of a test pattern 1a is measured with an accumulation type line sensor 7, whether the measurement results are within a predetermined reference value range is judged, calibration is conducted according to the judgment, and then the inspection object 1 is inspected.例文帳に追加

検査対象１を検査する前には、テストパターン１ａの光量を蓄積型ラインセンサ７で測定し、測定結果が予め定められている基準値範囲内に入っているかを判断し、それに応じてキャリブレーショウンを行い、その後に検査対象１を検査する。 - 特許庁

Data on the position, kind, size, and vertical and horizontal directions of the pattern and/or the character printed inside the marks are read from the marks 20 and 22; and the patterns and/or the characters printed inside the marks 20 and 22 are cut along the desired cut line 12, on the basis of the data.例文帳に追加

そして、それらのマーク２０、２２から、そのマーク内側にプリントされた絵図又は／及び文字の位置、種類、大きさ、上下左右方向のデータを読み取って、それらのデータに基づき、そのマーク２０、２２内側にプリントされた絵図又は／及び文字を所望のカット線１２に沿ってカットする。 - 特許庁

One end of the stub 4 is connected to the conductor pattern 3 constituting a power supply or a grounding line, the other end thereof is opened, and the length L of the stub 4 is equal to 1/4 or not more than 1/4 of the wavelength at the frequency of the electromagnetic noise produced by a semiconductor device 5 etc.例文帳に追加

スタブ４は、一端は電源または接地用ラインを構成する導体パターン３と接続していると共に、他端は開放しており、スタブ４の長さＬは、半導体素子５等により発生する電磁波ノイズの周波数の１／４波長、あるいは１／４波長以下の長さで構成される。 - 特許庁

The gate driving module is connected with gate driving signal input lines (253 etc.), and gate driving signal by-pass lines (254 etc.), and it is made possible to easily inspect whether or not the gate driving signals are effective by providing either or both of the lines with a pattern having a width larger than each line.例文帳に追加

ゲート駆動モジュールにはゲート駆動信号入力線（２５３等）及びゲート駆動信号バイパス線（２５４等）が接続されており、これらの一方あるいは両方に各線より大きな幅寸法のパターンを設けゲート駆動信号の有効可否を容易に検査することができるようにした。 - 特許庁

A pattern of electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh is provided on one surface of the film base material to form the electromagnetic wave shielding member, and the intersections of the ink lines are each 1.2 to 3 times as thick as the ink line.例文帳に追加

電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚がライン部分の１. ２倍〜３倍である。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

Before the communication body, a training part, based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and propagation of a transmission line is measured by the training part, while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

The inclination of an LR camera is aligned with that of a reference line of a master plate, a focus of the LR camera is changed from a pattern formation plane of the master plate to a nozzle formation plane of the head, so that the inclinations of the heads are aligned to that of the LR camera to align the inclinations of a plurality of the heads.例文帳に追加

ＬＲカメラの傾きとマスタープレートの基準線の傾きとを一致させ、ＬＲカメラの焦点をマスタープレートのパターン形成面からヘッドのノズル形成面に切り替え、ヘッドの傾きをＬＲカメラの傾きと一致させて、複数のヘッドの傾きを一致させる。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.例文帳に追加

露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To prevent adverse effect on the product quality by preventing the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" from becoming thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太るのを防いで製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

A dielectric constant of the capping layer 21 or absorption layer 30 is adjusted so as to balance an electrostatic charging state near a surface of a line portion 31a of the pattern 31 where the absorption layer 30 remains with that near a surface of a space portion 21a where the capping layer 21 is exposed.例文帳に追加

パターン３１のうち吸収層３０が残存したライン部３１ａの表面近傍とキャッピング層２１が露出したスペース部２１ａの表面近傍の帯電状態のバランスを取るために、キャッピング層２１または吸収層３０の誘電率を調整する。 - 特許庁

The shade 40 has a bent edge 41 which is bent in a plane vertical to the optical axis Ax for forming a cutoff line of the low beam light distribution pattern, and is constituted rotatably in the plane vertical to the optical axis Ax, with a bent part 41a of the bent edge 41 as a center.例文帳に追加

シェード４０は、すれ違い配光パターンのカットオフラインを形成するための、光軸Ａｘに垂直な面内で屈曲された屈曲エッジ４１を有し、屈曲エッジ４１の屈曲部４１ａを中心に光軸Ａｘに垂直な面内で回動可能に構成されている。 - 特許庁

An opening 4 for making a connector 3 face the outside is formed on a case 2 storing a printed circuit board 1 where control circuit components are mounted, and a conductive pattern 5 connected to a ground line of a power source is arranged on a section corresponding to the opening 4 of the printed circuit board 1.例文帳に追加

制御回路部品を実装したプリント基板１を収納するケース２にコネクタ３を外部に臨ませるための開口部４を形成し、前記プリント基板１の開口部４と対応する部位には電源のグランドラインへ接続された導電性パターン５を設けたものである。 - 特許庁

The bevel indicator 11 is a painted line which is at least a part of a hub 3 and has a color, a texture or a pattern contrasted with that of the surface of the hub 3 and, when the injection of the needle 6 into the patient is ready, a user can linearly place it at the substantial top of the hub.例文帳に追加

傾斜指示器１１は、ハブ３の表面のそれと対比される色，外観，又は模様の少なくとも一部である塗られた線であり、使用者は、患者への注射針６の注射の準備が整った時にハブの実質的な頂にそれを直線状に配置することが出来る。 - 特許庁

The freeze performance control means 140 starts the freeze performance when determined that the stop switch 34 is operated within the range in which the symbols corresponding to the internal winning pattern can be stopped on the effective winning line during the execution of the specified performance, and ends the freeze performance after the end of the specified performance.例文帳に追加

フリーズ演出制御手段140は、特定演出の実行中に、当選した役に対応する図柄を有効入賞ライン上に停止可能な範囲内でストップスイッチ34が操作されたと判定されると、フリーズ演出を開始し、特定演出の終了後に、フリーズ演出を終了する。 - 特許庁

To avoid an adverse influence on product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by a draw-out primer intaglio printing method becomes thick when its printing speed is made extremely high in order to make the electromagnetic wave shielding performance highly compatible with light permeability of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

When an angle formed by a straight line connecting a central position in the radial direction of the magnet and a central position in the radial direction of the FG pattern with respect to a central axis of a driving shaft is taken as θ, and an angle formed by a direction of the FG magnetization with respect to the central axis of the driving shaft is taken as A, 0 degree<A≤θ is satisfied.例文帳に追加

磁石の半径方向中央位置とＦＧパターンの半径方向中央位置とを結ぶ直線が駆動軸の中心に対してなす角度θ、ＦＧ着磁の方向が駆動軸の中心に対してなす角度Ａが、０度＜Ａ≦θを満足する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method that reduces variance in line widths of resist patterns between substrates without increasing a processing time when the resist pattern is formed on each substrate having a resist film formed by performing exposure a plurality of times and also carrying out heating processing and developing processing.例文帳に追加

レジスト膜が形成された各基板に、露光を複数回行い、加熱処理及び現像処理を行うことによってレジストパターンを形成する際に、処理時間を増大させず、基板間のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Further, each manufacturing-error correcting pattern has such a deformed shape that its conductive line portion has adjacent portions to each other, and the spaces between the adjacent portions are so varied gradually that the rate of the adjacent portions being contacted with each other is controlled correspondingly to the manufacturing accuracy of the element.例文帳に追加

そして製造誤差補正パターンの形状は、導電ライン部が隣り合う部分を有するように変形したパターンであって、その隣り合う部分の間隔が暫時変化しており、製造精度に応じて隣り合う部分の接触割合が制御されるようにしている。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

Further, for every pattern of the operation time zone, the operation time zone of the production line excluding the non operation time from the predetermined reference time and the absolute time is registered for every absolute time as the relative time of the absolute time to the reference time in a relative time table storing device 24.例文帳に追加

また、稼働時間帯パターンごとに、所定の基準時刻からその絶対時刻までの間の生産ラインの非稼働時間を除いた時間を、前記基準時刻に対するその絶対時刻の相対時刻として各絶対時刻ごとに、相対時刻テーブル記憶装置２４にデータ登録する。 - 特許庁

When inspecting, the two virtual lines the same as that have been set are set on the binarized image of the linear pattern of an object to be inspected, and whether, while the contour tracing with an edge point on one virtual line as the starting point is performing, a detected edge point is contained in the route allowable range.例文帳に追加

検査では、検査対象の線状パターンの２値画像に設定時と同一の２本の仮想ラインを設定し、一方の仮想ライン上のエッジ点を起点にした輪郭追跡を行いながら、検出されたエッジ点が経路許容範囲に含まれるかを判別する。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加

電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.例文帳に追加

車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

To provide a pleated skirt performing the most natural and stable pleats while comprising straight line pleats not causing a decline in a mass production property, and designed in view of the lady's body shape; to provide a method for making the skirt; and to provide a paper pattern of the pleated skirt suitable for making the pleated skirt.例文帳に追加

女性の体型の特徴に着目し、量産性を低下させることがない直線プリーツでありながら、最も自然で安定したプリーツを得ることができるプリーツスカート、及び、その製造方法、並びに、同プリーツスカートの製造に適するプリーツスカート用型紙の提供を図る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming the refractive index pattern, a hybrid material comprising a polysilane compound and an inorganic compound is irradiated with an active energy line via a mask, a polysilane decomposition product of the irradiated part is removed, and then the whole hybrid material is hardened by heating.例文帳に追加

ポリシラン化合物と無機化合物からなるハイブリッド材料にマスクを介して活性エネルギー線を照射し、この照射部分のポリシラン分解物を除去した後に、ハイブリッド材料全体を加熱して硬化させることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。 - 特許庁

The plural number of polyhedron patterns are positioned on each of the plural number of lines arbitrary formed in vertical direction, horizontal direction and diagonal direction and when the identification pattern display is stopped at the predetermined combination on one of the line the winning of a special game is announced.例文帳に追加

複数の多面体図柄は、縦方向、横方向及び斜め方向のうちの任意の方向に形成される複数のライン上に夫々複数配置され、ライン上の何れかにおいて識別図柄が所定の組合せで停止表示した場合、特別遊技への当選が報知される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist polymer capable of obtaining a resist composition which excels in a pattern shape, resistance to dry etching, line width stability against the change in heating temperature after exposure and the like and has sufficient sensitivity and an excellent image resolving degree, and a resist monomer for obtaining the polymer.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。 - 特許庁

After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.例文帳に追加

基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁

The water-repelling fabric, water-repelling products and their production method is a fabric including at least synthetic fiber multifilament having a water-repellency of ≥3 according to JIS L1092 method after 20 times washing and fine line design pattern is engraved on the surface of the fabric.例文帳に追加

合成繊維のマルチフィラメントを少なくとも含む布帛であって、該布帛は洗濯２０回後のＪＩＳ Ｌ１０９２法の撥水度が３以上であり、かつ、布帛の表面に細線の柄模様が印刻されていることを特徴とする撥水布帛、撥水製品およびその製造方法。 - 特許庁

A special picture-controlling substrate 32d transmits variation pattern information corresponding to variation patterns of special pictures, left determined picture information, central determined picture information and right determined picture information from an external terminal substrate 57 for the panel to a hall computer HC through a line 57a.例文帳に追加

特別図柄制御基板３２ｄは、特別図柄の変動パターンに対応する変動パターン情報、左確定図柄情報、中確定図柄情報および右確定図柄情報を盤用外部端子基板５７からライン５７ａを通じてホールコンピュータＨＣへ送信する。 - 特許庁

A plurality of specific patterns 22 constituted by adding the marks to those squares connected in specific shapes with a predetermined pattern for showing their positions in the recording face 20 are arranged in parallel with predetermined intervals in their line directions and column directions in the information recording area 23.例文帳に追加

記録面２０内での位置を示すように特定の形状に連結した複数の枡目に上記マークを所定のパターンで付してなる特定パターン２２を、情報記録領域２３内に行方向および列方向に所定の間隔を持たせて複数平行に配置する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, having a structure for connecting a plug or a line onto a metal pattern embedded in an insulation film containing fluorine, in which good connection is kept between a metal film filling the trench in the insulation film containing fluorine and other metal films which are connected therewith.例文帳に追加

フッ素含有絶縁膜に埋め込まれた金属パターンの上にプラグ又は配線を接続する構造を有する半導体装置に関し、フッ素含有絶縁膜の溝に埋め込まれた金属膜とこれに接続される別の金属膜との接続を良好に保つこと。 - 特許庁

The compressed encoded data of a sprite image designated as display target are sequentially read from the sprite pattern memory per data block, and whether the compressed encoded data contain a line boundary is determined based on the value of the flag read together with the compressed encoded data.例文帳に追加

このスプライトパターンメモリから表示対象として指定されたスプライト画像の圧縮符号化データをデータブロック単位で順次読み出し、その圧縮符号化データにライン境界が含まれているか否かをその圧縮符号化データとともに読み出したフラグの値に基づいて判定する。 - 特許庁

The element 20 is provided with an electrode 22 connected to the transmission line section, a connection pad 25 which connects the electrode 22 to the terminating resistance section, and a conductor pattern 24 which is arranged between the electrode 22 and pad 25 and has a predetermined inductance value.例文帳に追加

光半導体素子２０は、伝送線路部に接続された電極２２と、電極２２を終端抵抗部に接続するための接続用パッド２５と、電極２２と接続用パッド２５との間に配置された、予め定められたインダクタンス値を有する導体パターン２４とを備えている。 - 特許庁