「Mask Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ITS PRODUCTION AND MASK FOR TREATMENT OF ALIGNMENT FILM WITH LIGHT例文帳に追加

液晶表示装置、その製造方法及び液晶表示装置の配向膜光処理用マスク - 特許庁

With respect to positional deviation in a rotating direction, the photo-mask 4a is rotated for alignment.例文帳に追加

また、回転方向の位置のズレは、フォトマスク４ａを回転させることで、位置合わせを行う。 - 特許庁

To improve alignment accuracy of a deposition mask and a substrate by reducing the self-weight deflection of the substrate.例文帳に追加

基板の自重撓みを少なくして、蒸着マスクと基板とのアライメント精度を向上させる。 - 特許庁

After the whole surface of an alignment film 22 formed on a substrate 21 is subjected to first rubbing, a mask 51a and an alignment mark 20C are formed on the alignment film 22 by using a resist.例文帳に追加

基板２１上に形成された配向膜２２の全面に対して第１ラビングを行った後、配向膜２２上にレジストによるマスク５１ａとアライメントマーク２０Ｃとを形成する。 - 特許庁

In the mask 4, an alignment mark table 12 is joined with the both sides of the micro lens array 3, and an alignment mark 11 is formed in the surface opposite to the substrate 1 of the alignment mark table 12.例文帳に追加

マスク４には、マイクロレンズアレイ３の両側にアライメントマーク台１２が接合されており、このアライメントマーク台１２の基板１との対向面にアライメントマーク１１が形成されている。 - 特許庁

In a control part 70A, an alignment action operation allowance range is set where shift amounts of both alignment marks Ma and Wa fall within a desired alignment accuracy range in exposure transfer by drive of a mask position regulation mechanism 16, and when the shift amounts of the both alignment marks Ma and Wa are within the alignment action operation allowance range, alignment action by the mask position regulation mechanism 16 is carried out to complete the alignment action.例文帳に追加

制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 - 特許庁

To provide a method for bonding a shadow mask, which prevents a pattern from deforming after the mask has been bonded and enables the alignment to be previously confirmed, by making the shadow mask adjoin to a vertically arranged mask frame in a state of applying tensile force, and weld-bonding the mask frame to the mask frame while previously reflecting a sag of the mask in a vertical direction.例文帳に追加

鉛直配置されたマスクフレーム上にシャドウマスクを隣接させ、引張力を加えた状態で、マスクフレームに溶接をして付着することにより、鉛直方向への垂れを予め反映してマスク付着後のパターンの変形を防止し、整列可否を予め確認可能にしたシャドウマスクの付着方法を提供する。 - 特許庁

The substrate 1 is aligned with the mask 2 so that a middle point between the alignment marks 5a and 5b matches with the middle point between the alignment marks 6a and 6b.例文帳に追加

そして、アライメントマーク５ａ、５ｂの中点と、アライメントマーク６ａ、６ｂの中点とが一致するように、基板１とマスク２とのアライメントをとる。 - 特許庁

A coaxial reflection lighting device 22 and a transmission lighting device 31 are provided, respectively, for a mask-side alignment mark 17 and a substrate-side alignment mark 16.例文帳に追加

マスク側アライメントマーク１７と基板側アライメントマーク１６とに対して同軸反射照明装置２２と、透過照明装置３１とを設ける。 - 特許庁

To provide a position detector capable of performing rough alignment and high precision alignment of two members, e.g. a mask and a wafer, easily.例文帳に追加

マスクとウエハ等の２つの部材の粗い位置合わせ及び高精度の位置合わせを容易に行うことが可能な位置検出装置を提供する。 - 特許庁

Using the substrate side alignment marks 6 appearing to the outer part via the opening parts 7c, 8c, the alignment of a mask 21 for black is performed.例文帳に追加

これらの開口部７ｃ、８ｃを介して外方へ現れる基板側アライメントマーク６を用いて、ブラック用マスク２１の位置決めが行なわれる。 - 特許庁

Then, only the alignment mark forming region 22 is exposed by using a second nega-type exposure mask for forming the post electrode for alignment.例文帳に追加

次に、アライメント用ポスト電極形成用のネガ型の第２の露光マスクを用いて、アライメントマーク形成領域２２のみに対して露光を行なう。 - 特許庁

A belt-like work W is carried and moved, the work mark on the belt-like work W is detected by the alignment microscopes of two alignment units AU, the alignment of the mask M and the work W is performed, and a mask pattern is exposed on the work W.例文帳に追加

帯状ワークＷを搬送移動して、帯状ワーク上のワークマークＷＡＭを、２台のアライメントユニットＡＵのアライメント顕微鏡により検出しマスクＭとワークＷの位置合わせを行ってマスクパターンをワークＷ上に露光する。 - 特許庁

To provide a position detection method by which a relative positional relationship with an alignment mask and a substrate can be detected accurately in proximity exposure where the alignment mask is arranged close to the substrate.例文帳に追加

基板に対して露光マスクが近接して配置される近接露光において、露光マスクと基板との相対的な位置関係をより正確に検出することが可能な位置検出方法を提供する。 - 特許庁

To carry out alignment in high precision by preventing contact of a transparent substrate and a mask plate due to bending of a transparent substrate when making alignment of the transparent substrate and the mask plate constituting an EL panel.例文帳に追加

ＥＬパネルを構成する透明基板とマスク板とをアライメントするときに、透明基板の撓みによって透明基板とマスク板とを接触することを防止し、高精度にアライメントを行う。 - 特許庁

After etching the surface of the substrate 30 by using resist mask 35 thus formed, a resist mask 35 and the alignment mark 33 are removed and the region occupied by the alignment mark 33 is flattened.例文帳に追加

こうして形成したレジストマスク３５を用いて基板３０の表面をエッチングした後、レジストマスク３５とアライメントマーク３３を除去し、アライメントマーク３３が存在していた領域を平坦にする。 - 特許庁

To enable an aligner to easily align a plurality of kinds of mask substrates having alignment marks at different positions when the aligner uses the mask substrates.例文帳に追加

露光装置において、異なる位置にアライメントマークを有する複数種類のマスク基板を使用する際に、マスク基板のアライメントを容易にすること。 - 特許庁

The techniques include: moving a process substrate with respect to a mask by using an alignment mark; aligning the mask to the process substrate; and exposing the substrate.例文帳に追加

アライメントマークを使用してマスクに対し処理基板を移動させて当該マスクと処理基板との位置合わせをして露光を行う技術である。 - 特許庁

The alignment apparatus has a shadow mask having a through-hole for alignment and an alignment part having an alignment optical system and a control part.例文帳に追加

または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for producing a liquid crystal alignment layer that does not need highly accurate positioning for the exposure mask, attains high throughput with a wide dose margin of the radiation to be used for the alignment treatment to produce the alignment-divided liquid crystal alignment layer.例文帳に追加

露光マスクの厳密な位置あわせを必要とせず、高スループットであり、かつ、配向処理に用いる放射線の照射量マージンが広い、配向分割処理された液晶配向膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

An exposure device has a mask stage 9, a pre-alignment device 7 pre-aligning a mask 1, to be covered on the stage 9 and a mask-manipulating mechanism 10 for carrying the original edition between the stage 9 and the pre-alignment device 7 or exchanging the two original editions.例文帳に追加

露光装置は、マスクステージ９と、ステージ９に渡たすべきマスク１をプリアライメントするプリアライメント装置７と、ステージ９とプリアライメント装置７との間で原版を搬送し又は２枚の原版を交換するマスク操作機構１０とを有する。 - 特許庁

In the device 10 for forming the alignment layer, the shape of an edge 32a of a mask 12 forming a slit 14 is determined based on the alignment layer direction of a liquid crystal.例文帳に追加

配向層形成装置１０は、スリット１４を形成するマスク１２のエッジ３２ａの形状を、液晶の配向方向を基に決定される。 - 特許庁

To provide alignment equipment which can perform alignment with high precision, even when observation of wafer marks through a mask membrane is difficult.例文帳に追加

マスクメンブレンを通してウエハマークを観測することが困難な場合であっても、高精度に位置合わせを行うことができる位置合わせ装置を提供する。 - 特許庁

Then, a base line is corrected by measuring reference marks formed on an off-axis scope 12 for wafer alignment and a mask alignment scope formed on the wafer stage 31.例文帳に追加

更に、ウエハアライメント用オフアクシススコープ１２とウエハステージ３１上のマスクアライメントスコープに形成された基準マークを計測することによってベースライン補正を行う。 - 特許庁

To provide an alignment method in a substrate exposure device for aligning without using an alignment mark, and a manufacturing method for a mask using this method.例文帳に追加

アライメントマークを用いずに位置合わせを行なう基板露光装置における位置合わせ方法及びこの方法を用いたマスクの製作方法を提供する。 - 特許庁

To specify a region usable as an alignment mark as a pattern region from the design data of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの設計データから、アライメントマークとして使用可能な領域をパターン領域として特定する。 - 特許庁

Using alignment information obtd. during exposing, the positioning is executed for exposing a mask pattern on the substrate.例文帳に追加

露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁

To shorten a time required for alignment and transfer easily and accurately a mask pattern to each die of wafers.例文帳に追加

アライメントに要する時間を短縮し、マスクパターンを簡単にかつ精度よくウエハの各ダイに転写する。 - 特許庁

To efficiently detect objects such as an alignment mask from the wide region on a magnified screen.例文帳に追加

拡大画面で広範囲の領域から無駄なく効率的にアライメントマーク等の目的物を検出する。 - 特許庁

To enable a fine memory cell to be designed by eliminating mask shift (alignment shift) to a field oxide film.例文帳に追加

フィールド酸化膜に対するマスクズレ（アライメントズレ）をなくすことにより微細なメモリセルの設計を可能にする。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor having such a structure as alignment of a shadow mask for electrode is facilitated.例文帳に追加

電極用のシャドウマスクの位置合わせが容易な構造からなる有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

To maintain the alignment accuracy between a mask and a glass substrate of an exposure device until exposure.例文帳に追加

露光装置において、マスクとガラス基板との間の位置合わせ精度を露光時まで維持できるようにする。 - 特許庁

To provide a method and jig for simple mask alignment by which a resist pattern can be formed at a low cost.例文帳に追加

低コストでレジストパターン形成を行うことができる簡易マスクアライメント方法及び治具を提供する。 - 特許庁

To manufacture a field emission cold-cathode device entirely in self-alignment without the use of an exposure mask.例文帳に追加

露光マスクを使用することなく，すべてセルフアラインで，電界放出型冷陰極装置を製造する。 - 特許庁

To provide a position detection apparatus capable of easily performing the rough alignment of a mask and a wafer.例文帳に追加

マスクとウエハとの粗い位置合わせを容易に行うことが可能な位置検出装置を提供する。 - 特許庁

To realize highly accurate alignment between mask and wafer using a microscope imaging apparatus.例文帳に追加

１つの顕微鏡撮像装置によってマスクとウエハとの高精度の位置合わせを実現できるようにする。 - 特許庁

The alignment direction of the liquid crystal can be made uniform by the shape and layout of the reflective face of the mask.例文帳に追加

マスクの反射面の形状、配置により、液晶の配向方向を均一にすることができる。 - 特許庁

In this case, the opening 22a is formed with sizes LX, LY based on an error in alignment between the substrate and the mask.例文帳に追加

基板とマスクとの位置合わせ誤差に基づく大きさＬＸ、ＬＹで開口部２２ａを形成する。 - 特許庁

An exposure device 1 uses at least one alignment mark 45 formed on a mask M and comprises: a reference bar 51 having a plurality of reference marks 55 corresponding to the alignment mark 45 of each mask M; and at least one camera 59 for imaging the reference marks 55 of the reference bar 51, and the alignment mark 45 of the mask M.例文帳に追加

露光装置１は、マスクＭに少なくとも１つのアライメントマーク４５が形成されており、各マスクＭのアライメントマーク４５にそれぞれ対応する複数の基準マーク５５が設けられた基準バー５１と、基準バー５１の基準マーク５５とマスクＭのアライメントマーク４５とを撮像する少なくとも１つのカメラ５９と、を有する。 - 特許庁

To provide, for example, a fixture which can fix an aligned honeycomb structure and a mask and hardly hinders the alignment of the mask.例文帳に追加

位置合わせをしたハニカム構造体及びマスクを固定でき、かつ、マスクの位置合わせの邪魔になり難い固定治具等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure mask retaining device with a compact size in the horizontal direction and enabling highly accurate alignment and to provide an exposure device using the exposure mask retaining device.例文帳に追加

水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic mask film aligning device for a printed board which can easily execute an alignment coupling of the photosensitive ink-coated printed board with a mask film.例文帳に追加

感光性インク塗布のプリント基板とマスクフィルムとの位置合わせ結合を容易に実行できるプリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置を提供する。 - 特許庁

While the fine tensile force is thus applied to the material to be exposed, the top mask and reverse mask are brought into contact with the material to be exposed for the alignment.例文帳に追加

このように被露光材に微小の張力を加えた状態で、アライメントを行うために表マスク及び裏マスクを被露光材に密着させていく。 - 特許庁

To provide an alignment marker and an alignment method that allow inexpensive alignment of a reflective mask with a support structure thereof in order to cope with difficulty in executing the alignment of the reflective mask with the support structure thereof on the basis of the reflectivity difference between an absorbing layer and a reflective substrate by using long-wavelength light in a lithography projection apparatus using short-wavelength radiation.例文帳に追加

短波長の放射線を使うリソグラフィ投影装置では反射性マスクとその支持構造体の整列を長波長の光では吸収層と反射性基板の間の反射率の差に基づいて行うことが困難であるので、それが安価にできる整列マーカおよび整列方法を提供すること。 - 特許庁

When the alignment mark of a mask M is detected, a work stage 3 moves to the right side of the drawing, a parallel plate 5 attached to the side face of the work stage 3 is inserted into the optical path of an alignment microscope 4 and the location of the alignment mark of the mask M is detected and memorized.例文帳に追加

マスクＭのアライメントマークを検出する際、ワークステージ３が図面右方向に動き、ワークステージ３の側面に取り付けられた平行平板５が、アライメント顕微鏡４の光路内に挿入され、マスクＭのアライメントマークの位置が検出され記憶される。 - 特許庁