「Mask Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To detect a relative position of a glass substrate side and a metal mask in high accuracy, in a mask alignment device for positioning of the glass substrate and the metal mask in manufacturing an organic EL display.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイを製造するためにガラス基板とメタルマスクを位置合わせするためのマスクアライメント装置において、ガラス基板側とメタルマスクとの相対位置を高精度に検出できるようにする。 - 特許庁

The dummy pixel serves as an alignment margin of a mask used during a process of forming the second electrode.例文帳に追加

前記ダミー画素は前記第2電極を形成する工程中使用されるマスクのアラインマージンの役割をする。 - 特許庁

Then, a tapered recessed part is formed in self-alignment by performing anisotropic etching via the mask.例文帳に追加

しかる後にマスクを介して異方性エッチングをすることによりテーパ凹部を自己整合的に形成することができる。 - 特許庁

The alignment is confirmed by CCD cameras 35a, 35b and the photo-mask 4a for the R layer is then exposed.例文帳に追加

ＣＣＤカメラ３５ａ、３５ｂによって位置合わせを確認した後、Ｒ層用のフォトマスク４ａの露光を行う。 - 特許庁

To improve a phase shift mask and its alignment detection, and reduce the size of trenches formable in a silicon wafer.例文帳に追加

位相シフトマスクおよびそのアライメント検出を改善し、シリコンウェハにおいて形成可能なトレンチのサイズを低減する。 - 特許庁

POSITION DETECTION METHOD IN PROXIMITY EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WAFER, ALIGNMENT MASK AND POSITION DETECTOR例文帳に追加

近接露光における位置検出方法、および半導体装置の製造方法、ウェハ、露光マスク、位置検出装置 - 特許庁

To improve the adhesibility of a photoresist to a mask by forming the photoresist flat on a substrate which is used for contact alignment.例文帳に追加

密着露光に用いる基板上にフォトレジストを平坦に形成し、マスクとの密着性を向上させる。 - 特許庁

The positioning when a mask pattern is exposed on a substrate is performed using the alignment information obtained when the exposing operation is performed.例文帳に追加

露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁

To form a mask alignment mark part comprising a deep trench formed on the same substrate as that of a semiconductor device by forming a polycrystal silicon embedded in a deep trench in an optimal depth, in order to increase a signal strength at the time of the alignment and to improve an accuracy of the mask alignment.例文帳に追加

半導体装置と同じ基板に形成されたディープトレンチからなるマスクアライメントの合わせマーク部を、ディープトレンチ内に埋め込まれた多結晶シリコンを最適な深さに形成することにより、アライメント時の信号強度をあげ、マスク位置あわせの精度を向上させる。 - 特許庁

Subsequently, the photomask 4 is set on the printed substrate 6, a mask alignment mark 5 is photographed and is compared with the stored position of the alignment mark 7 of printed board, a platen 8 is moved so as to make the deviation of the position zero and the positioning between the mask alignment mark 5 and the printed board 6 is performed.例文帳に追加

次にフォトマスク４をプリント基板６上に設定し、マスクアライメントマーク５を撮像して、記憶したプリント基板アライメントマーク７の位置と比較し、その位置ずれが０に成るようにプラテン８を移動させてマスクアライメントマーク５とプリント基板６の位置合わせを行う。 - 特許庁

To provide a structure which prevents local temperature rise of a workpiece at the part of a through-hole formed in a workpiece stage, in an aligner which performs alignment by detecting a mask alignment mark and a workpiece alignment mark.例文帳に追加

マスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークとにより位置合わせを行う露光装置において、ワークステージに形成した貫通孔部分でワークに生じる局所的な温度上昇を防止した構造を提案することである。 - 特許庁

In this case, the horizontal alignment layers 42 are formed by performing a rubbing process on an alignment layer 42a on a substrate 10A and by modifying a surface thereof using a resist pattern R as a mask, a material of the vertical alignment layers 41 is formed.例文帳に追加

このとき、基板１０Ａ上の配向膜４２ａにラビング処理し、レジストパターンＲをマスクにして表面改質して、水平配向膜４２を形成し、垂直配向膜４１の材料を形成する。 - 特許庁

The position of the alignment mark on the substrate after alignment is subjected to coordinate transformation (step 304) by the shot offset component to obtain a deformation component of the mask or the substrate (step 305).例文帳に追加

位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置をショットオフセット成分により座標変換し（ステップ３０４）、マスク又は基板の変形成分を求める（ステップ３０５）。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device, a semiconductor wafer and a semiconductor storage device manufacturing method, which make alignment marks be easily identifiable, and thereby enhancing mask alignment accuracy.例文帳に追加

合わせマークを認識し易くし、マスク合わせ精度を向上する半導体記憶装置、半導体ウェーハ及び半導体記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment layer for forming the alignment layer divided and aligned in the fine shapes without using a mask, a liquid crystal display panel with the alignment layer manufactured by the method for forming the alignment layer and electronic equipment.例文帳に追加

マスクを用いることなく微細な形状に分割配向された配向膜を形成することができる配向膜の形成方法、かかる配向膜の形成方法により製造された配向膜を備える液晶パネルおよび電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment mask of a head unit which can carry a plurality of droplet delivery heads on a single carriage without dispersion and with a high degree of accuracy and also to provide an assembly device of a head unit settable of the alignment mask.例文帳に追加

単一のキャリッジに複数の液滴吐出ヘッドを、ばらつきの無い高い精度で搭載することを可能とするヘッドユニットのアライメントマスクおよびこれがセット可能なヘッドユニットの組立装置を提供することをその課題としている。 - 特許庁

To provide an alignment mask which enables members of which the reference surfaces for positioning have different heights to be accurately positioned to each other, and to provide an assembling method for an inkjet head using the alignment mask and an assembling apparatus for the inkjet head.例文帳に追加

位置決め用の基準面の高さが異なる部材を、相互に精度良く位置決めすることを可能とするアライメントマスク、これを用いたインクジェットヘッドの組立て方法およびインクジェットヘッドの組立て装置を提供することである。 - 特許庁

This exposure mask 100 has an alignment mark pattern 12 to form an alignment mark on a substrate, first and second mask alignment patterns 14, 16 formed in the point symmetric positions each other around the alignment mark pattern as the center, and a common pattern 18 to be commonly used to pattern the first, second and third layers.例文帳に追加

露光用マスク１００は、基板上にアライメントマークを形成するためのアライメントマークパターン１２と、アライメントマークパターンを中心に互いに点対称な位置に形成された第１および第２マスクアライメントパターン１４および１６と、第１層、第２層および第３層をパターニングするために共通に用いられる共通パターン１８とを有する。 - 特許庁

To align a wafer and an exposure mask with high accuracy by providing the center position and another position of the mask base body with marks for alignment with a semiconductor substrate.例文帳に追加

露光用マスクとウェハとの露光位置合わせを高精度に行うことができる露光用マスク、位置合わせ基準ウェハおよび露光位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE PROVIDED WITH ALIGNMENT MARK, METHOD OF DESIGNING MASK, COMPUTER, PROGRAM, MASK FOR EXPOSING THE MARK, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

位置決めマークを備えた基板、マスクを設計する方法、コンピュータ・プログラム、位置決めマークを露光するマスク、デバイス製造方法、およびこれらによって製造されるデバイス - 特許庁

To provide an automatic mask film alignment device for printed circuit boards, which is capable of aligning the mask films for the front surface and the rear surface by using a reference hole for NC perforation as a reference hole.例文帳に追加

ＮＣ穴あけ用基準穴を基準穴とし、表面用と裏面用のマスクフィルムの位置合わせができるプリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置を提供する - 特許庁

To solve a problem of impossibility to use a screen mask when a deviation of an alignment mark on the mask from that on a base plate exceeds a serviceability limit as repeatedly used.例文帳に追加

繰り返し使用をしていくに連れてスクリーンマスク上のアライメントマークと基板上のアライメントマークとのずれが使用限界を越えた場合、スクリーンマスクは使用不可になる。 - 特許庁

To provide a mask alignment device which can accurately align a mask with a substrate, and can surely prevent a film from sticking on a substrate holder and its peripheral part.例文帳に追加

基板に対して正確にマスクの位置合わせを行え、基板ホルダや周辺部への膜の付着を確実に防止することが可能なマスク位置合わせ装置を提供する。 - 特許庁

A light irradiation section 1 irradiates a mask M with exposure light, and an alignment microscope 10 receives a projection image of a mask mark MAM, and position coordinates of the projection image are found and stored.例文帳に追加

光照射部１からマスクＭに露光光を照射し、アライメント顕微鏡１０でマスクマークＭＡＭの投影像を受像し、その位置座標を求め記憶する。 - 特許庁

MARKER STRUCTURE FOR ALIGNMENT OR OVERLAY TO CORRECT PATTERN INDUCED DISPLACEMENT, MASK PATTERN TO DEFINE THE MARKER STRUCTURE, AND LITHOGRAPHIC PROJECTING APPARATUS USING THE MASK PATTERN例文帳に追加

パターン誘発変位を補正するためのアラインメント又はオーバレイ用マーカ構造、当該マーカ構造を規定するためのマスク・パターン、及び当該マスク・パターンを使用するリトグラフ投影装置 - 特許庁

To provide a mask for printing a sealing agent, by which the contact of the sealing agent with an alignment layer on a glass substrate can be prevented and to provide a manufacturing method for the mask for printing the sealing agent.例文帳に追加

ガラス基板上の配向膜との接触を防止可能なシール剤印刷用マスク及び該シール剤印刷用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment mask capable of readily and accurately aligning the through-holes of a honeycomb structure and those of a sealing mask.例文帳に追加

ハニカム構造体の貫通孔と、封口用マスクの貫通孔との正確な位置合わせを容易に行なうことのできる位置合わせ用マスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

This halftone phase shift mask consists of a halftone phase shift mask structure having resist deposited on the halftone films of wafer alignment mark parts and the light shielding belt parts existing on the outside of pattern forming regions.例文帳に追加

ウェハ合わせマーク部のハーフトーン膜上とパターン形成領域の外側にある遮光帯部にレジストが被着されたハーフトーン位相シフトマスク構造とする。 - 特許庁

An auxiliary film is formed on a side wall of the pattern and etched to form a second etching mask pattern 121a between first etching mask patterns in an automatic alignment manner.例文帳に追加

このパターンの側壁に補助膜を形成し、これをエッチングすることにより、第１のエッチングマスクパターン間に第２のエッチングマスクパターン１２１ａを自動整列方式で形成する。 - 特許庁

An image of an overlapped part of the substrate 10 and the mask 7 is captured by the CCD camera 51 with the mask 7 separated from the substrate 10, and the drive part 53 is operated based on a result obtained by the alignment control part 6 to align the mask 7.例文帳に追加

マスク7を基板10から離間させた状態で、基板10とマスク7との重なり部分の像をCCDカメラ51で取り込み、アライメント制御部6にて得られた結果に基づき駆動部53を動作させ、マスク7のアライメントを行う。 - 特許庁

Upon alignment in the aligner, the mask (reticle) is inspected periodically to know the adhering condition of contamination to the mask, and when the amount of adhesion has exceeded an allowable range, the mask is washed or exchanged.例文帳に追加

露光装置内において、アライメント時など、定期的にマスク（レチクル）を検査することによって、マスクへのコンタミネーションの付着状況を知り、付着量が許容範囲以上となれば、マスクの洗浄やマスクの交換を行う。 - 特許庁

The mask frame combination is provided with a mask having a plurality of apertures for vapor deposition and having one or more pinholes between the plurality of apertures for vapor deposition, a mask frame arranged on one side of the mask and an alignment assisting means arranged on the side opposite to the side face which is one side of the mask frame and is provided with the mask.例文帳に追加

マスクフレーム組合わせ体は、複数の蒸着用開口部を有するほか、前記複数の蒸着用開口部の間に一つ以上のピンホールを有するマスクと、前記マスクの一方の側に配置されるマスクフレームと、前記マスクフレームの一方の側であって前記マスクが配置される側面の反対側に配置される整列補助手段とを備えル。 - 特許庁

Thus, in the counter substrate 20, the alignment film 26 may be formed on the whole surface and requires no mask vapor deposition.例文帳に追加

このため、対向基板２０では、全面に配向膜２６を形成することができ、マスク蒸着を行う必要がない。 - 特許庁

To arrange an alignment mark for aligning a substrate with a photo mask not to lower the yield of product devices.例文帳に追加

基板とフォトマスクとの位置合わせに用いるアライメントマークを製品デバイスの収量を減らすことがないように配置する。 - 特許庁

Also the second domain 5pb is subjected to the alignment treatment by oblique irradiation of light by using each block spacer 20 as a mask.例文帳に追加

同じく各ブロック状スペーサ２０をマスクとして、第２のドメイン５ｐｂに光を斜め照射して配向処理を行う。 - 特許庁

Since alignment of mask and an original die 21 is not required, machining accuracy of an orifice plate can be enhanced.例文帳に追加

原型２１に対してマスクの位置合せを行う必要がないので、オリフィスプレートの加工精度を高くすることができる。 - 特許庁

To permit the suppression of a parasitic capacitance between wirings even when deviation of alignment of mask patterns arises upon forming via holes.例文帳に追加

ヴィアホールを形成する際にマスクパターンのあわせずれが生じても配線間の寄生容量を抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase-shift mask free from lowering of the quality caused by the deviation in the alignment of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのアライメントずれによって品質の低下を招くことのない位相シフトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

The first domain 5pa is subjected to the alignment treatment by oblique irradiation of light by using each block spacer 20 as a mask.例文帳に追加

各ブロック状スペーサ２０をマスクとして、前記第１のドメイン５ｐａに光を斜め照射して配向処理を行う。 - 特許庁

To provide a large-screen display having high display quality by rapidly/accurately performing the alignment process of a display substrate with a mask.例文帳に追加

ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。 - 特許庁

When the substrate W2 is exposed in the mask pattern, the substrate W2 is positioned by using the alignment information obtained, while the substrate W1 is exposed.例文帳に追加

露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁

The alignment of a transparent substrate 1 and a mask plate 2 is carried out by observing by a camera 5 alignment marks 1M and 2M formed at the respective corner parts, whereupon alignment is made with both alignment marks brought as close as possible in order to observe within the depth of field of the camera 5.例文帳に追加

透明基板１とマスク板２とのアライメントは、夫々の角隅部に形成されたアライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５により観察して行われるが、カメラ５の被写界深度内で行うために、両アライメントマークはできる限り近接させた状態でアライメントを行う。 - 特許庁

To provide a system and a method for alignment, an exposure system, and a substrate holder, capable of executing a highly accurate alignment process in a stable way in aligning a mask and a substrate based on the light fluxes that irradiate respective alignment marks.例文帳に追加

マスク及び基板のそれぞれのアライメントマークに照射した光束に基づいてアライメントする際、このアライメント処理を精度良く安定して行うことができるアライメント装置及び方法、露光装置、基板ホルダを提供する。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 4R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 4G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 4B for the coloring pattern B are disposed on a mask 2 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

マスク２に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

The position of the alignment mark on the substrate excluding the deformation component and the shot offset component is obtained (step 306) to check whether or not the obtained position is within an allowable range from the position of the alignment mark on the mask after alignment (step 307).例文帳に追加

変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め（ステップ３０６）、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する（ステップ３０７）。 - 特許庁