「Mask Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

In this alignment method, a mask is allocated close to a wafer and the mask, and wafer are aligned with an exposing apparatus by transferring a mask pattern formed on the mask to a resist layer on the wafer.例文帳に追加

ウエハにマスクを近接配置し、該マスクに形成されたマスクパターンを前記ウエハ上のレジスト層に転写する露光装置におけるマスクとウエハの位置合わせ方法。 - 特許庁

To enable the alignment between a mask and a panel possible even when an alignment mark of the mask and an alignment mark of the panel have the same shape in the lamination of a liquid crystal panel of laminating two substrates by irradiating the panel with light via the mask.例文帳に追加

マスクを介してパネルに光を照射して２枚の基板を貼り合せる液晶パネルの貼り合せにおいて、マスクのアライメントマークと、パネルのアライメントマークが同一形状であっても、マスクとパネルの位置合せを可能とすること。 - 特許庁

ALIGNMENT SUBSTRATE FOR TENSIONING VAPOR DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR TENSIONING VAPOR DEPOSITION MASK USING THE SAME例文帳に追加

蒸着マスク引張用整列基板、その製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法 - 特許庁

The alignment accuracy of a mask is enhanced using an oxide film provided on a source-drain region when the mask of an FET is aligned.例文帳に追加

ＦＥＴのマスク合わせに、ソースドレイン領域上に設けた酸化膜を用い、マスク合わせ精度を向上する。 - 特許庁

This mask holder 1 holds the aligning mask 2 used for the alignment of the pattern forming resin of a printed wiring board at an aligning time.例文帳に追加

プリント配線板のパターン形成用樹脂の露光に用いる露光マスク２を，露光時に保持するマスクホルダー１。 - 特許庁

The alignment accuracy of a mask is enhanced by using an oxide film formed on a source-drain region for aligning the mask of the FET.例文帳に追加

ＦＥＴのマスク合わせに、ソースドレイン領域上に設けた酸化膜を用い、マスク合わせ精度を向上する。 - 特許庁

To provide a mask pattern imaging apparatus capable of continuously carrying out alignment between a substrate and a mask on a substrate plane and alignment of a mask mark and an image plane position on the basis of light diffraction by an alignment mark provided on the substrate and an alignment mark provided on the mask arranged to be separated from the substrate.例文帳に追加

基板上に設けたアライメントマークと上記基板から離間して配置したマスク上に設けたアライメントマークによる光回折に基き、基板平面における基板とマスク間の位置合わせと、上記マスクマークの像面位置合わせとを連続的に履行可能とする、マスクパターン画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a stencil mask and an alignment apparatus used for the alignment of the stencil mask whereby the alignment marks of a wafer can be sensed even when Si is used in its pattern portion for depictions, and the large improvement of the accuracy of the alignment can be achieved.例文帳に追加

描画用のパターン部にＳｉを使用しても、ウエハの位置合わせマークが検出可能であり、位置合わせ精度の大幅な向上が達成できるステンシルマスク、及びその位置合わせに使用されるアライメント装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING ALIGNMENT WHEN PHASE SHIFT REGION IS FORMED IN MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの製造における位相シフト領域形成時のアライメント決 - 特許庁

In this process, only one strict mask alignment process is used.例文帳に追加

この工程では一回の厳格なマスクアライメント工程が用いられるだけである。 - 特許庁

The alignment mark of the partial transfer pattern on a transfer mask is measured in step 23, and the coordinate system of an actual alignment mark is computed in step 25 based on the above-mentioned measurement in this mask pattern transfer method.例文帳に追加

転写マスク上の部分転写パターンのアライメントマークを計測し（ステップ２３）、これらを基に実際のアライメントマークの座標系を算出する（ステップ２５）。 - 特許庁

To provide a phase shift mask to form alignment marks having sharp edges for accurate alignment of the mask used for the production process of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体素子の製造プロセスにおいて使用されるマスクの位置合わせを正確に行うために、エッジがシャープな位置合わせマークを形成するための位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To image alignment marks of a wafer stage and a mask stage by one imaging apparatus.例文帳に追加

ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of improving accuracy in mask alignment.例文帳に追加

マスクアライメント精度を向上させることが可能な半導体装置を提供すること。 - 特許庁

A mask M1 and an alignment mark on the top face of the work W, and a mask M2 and an alignment mark on the back face of the work W are detected and aligned.例文帳に追加

次いで、マスクＭ１と帯状ワークＷの表面のアライメントマーク、及び、マスクＭ２と帯状ワークＷの裏面のアライメントマークを検出し、位置合せを行う。 - 特許庁

To provide an alignment mask for a liquid ejection head unit by which a liquid ejection head and an alignment mask can be aligned in a short time with high precision, an alignment device for the liquid ejection head unit, and to provide an alignment method of the liquid ejection head unit.例文帳に追加

液体噴射ヘッドとアライメントマスクとを高精度に且つ短時間で位置合わせすることができる液体噴射ヘッドユニット用アライメントマスク及び液体噴射ヘッドユニット用アライメント装置並びに液体噴射ヘッドユニットのアライメント方法を提供する。 - 特許庁

To detect a position of an alignment mark on a mask and a position of an alignment mark in a base pattern of a substrate with high accuracy by acquiring sharp images of the alignment mark on the mask and of the alignment mark in the base pattern of the substrate and carrying out an image recognition process.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

To easily put an alignment mark of a mask in a field of view of an image acquiring device that acquires an image of the alignment mark, in a short period of time.例文帳に追加

アライメントマークの画像を取得する画像取得装置の視野内に、マスクのアライメントマークを短時間で容易に入れる。 - 特許庁

To provide an alignment device and an alignment method capable of positioning a mask with high accuracy, and enhancing the workability.例文帳に追加

マスクを高精度に位置合わせでき、作業性の向上も図ることができるアライメント装置及びアライメント方法を提供する。 - 特許庁

In the alignment mark area 80, an alignment trench 82 for aligning a mask is formed on the surface layer part of the silicon substrate 2.例文帳に追加

アライメントマーク領域８０には、シリコン基板２の表層部に、マスク合わせのためのアライメントトレンチ８２が形成されている。 - 特許庁

To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.例文帳に追加

光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁

A mask layer is formed on a portion of the alignment regions on the alignment material layer by using an inkjet printing process, so as to expose another portion of the alignment regions on the alignment material layer.例文帳に追加

続いて、配向膜形成層の配向領域の一部分に、配向膜形成層の配向領域の別の一部分は露出させるように、インクジェット印刷処理によってマスク層を形成する。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF MULTILAYER THIN FILM PATTERN REQUIRING NO MASK ALIGNMENT NOR PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

マスク位置あわせ及びフォトリソグラフ工程を必要としない多層薄膜パターンの形成方法 - 特許庁

To realize alignment of a mask and a wafer with high precision by improving the contrast in an image.例文帳に追加

画像のコントラストを向上させ、マスクとウエハとの高精度の位置合わせを実現する。 - 特許庁

To raise productivity by easily and reliably performing alignment of a mask and a mother substrate.例文帳に追加

マスク及びマザー基板のアライメントを容易かつ確実に行って生産性を向上させる。 - 特許庁

A position of each alignment mark is detected to align a mask to a substrate (step 301).例文帳に追加

各アライメントマークの位置を検出して、マスクと基板との位置合わせを行う（ステップ３０１）。 - 特許庁

To provide exposure techniques for performing processes while stabilizing alignment between a mask and a substrate.例文帳に追加

マスクと基板との位置合わせを安定して処理可能な露光技術を提供する。 - 特許庁

To perform position alignment of a mask and a work piece by detecting two alignment marks located outside the depth of focus range without moving an alignment microscope in an optical axis direction.例文帳に追加

アライメント顕微鏡を光軸方向に移動させることなく、焦点深度範囲外にある２つのアライメントマークを検出しマスクとワークの位置合せをすること。 - 特許庁

To provide a mask for manufacturing an alignment layer, with which an alignment treatment can be carried out in an easy and simple method and workload of a worker required for an alignment work can be reduced.例文帳に追加

簡便な方法で配向処理を行うことができ、アライメント作業に要する作業者の負担を軽減することができる配向膜製造用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a kinematic mounting method, which can maintain alignment of a mask with high accuracy, even when the mask is inclined with respect to the horizontal direction.例文帳に追加

水平方向に対して傾けた場合でも高精度にマスクを位置決め保持できるキネマティックマウント方式を提供すること。 - 特許庁

To provide a reflecting mask for realizing highly precise alignment, and an X-ray projection aligner using this reflecting mask.例文帳に追加

反射型であっても、高精度なアライメントができる反射マスク、及びこれらを用いたＸ線投影露光装置を提供する。 - 特許庁

Then the alignment film 22 is subjected to second rubbing over the mask 51a and only the resist formed as the mask 51a is removed.例文帳に追加

マスク５１ａの上から配向膜２２に対して第２ラビングを行い、マスク５１ａとして形成されたレジストのみを除去する。 - 特許庁

To provide an automatic mask loading device prior to thin film pattern deposition in which a mask is surely taken out sheet by sheet from a mask pallet to perform mask alignment with high accuracy.例文帳に追加

薄膜のパターン成膜に先立って、マスクを基板に自動装着する装置において、マスク収納パレットより１枚ずつ確実にマスクを取り出し、高精度に位置合わせして基板に装着する。 - 特許庁

To provide configurations of a mask substrate and a reinforcing mask frame with which a mask distortion is reduced, breakage in handling the mask substrate is prevented, and which is effective in shortening the time required for alignment.例文帳に追加

マスクひずみを低減させ、マスク基板ハンドリング時の破損を防止し、さらに、アライメントに要する時間を短縮するのに効果的なマスク基板および補強用マスクフレームの構成を提案することにある。 - 特許庁

Then, the mask M and the work W are separated, the mask M and the work W are positioned on the basis of the first alignment amount, the mask M and the work W are brought into contact, the positions of a mask mark MAM and a work mark WAM are detected and a second alignment amount is obtained.例文帳に追加

ついで、マスクＭとワークＷを離間し、第１のアライメント量に基づいてマスクＭとワークＷの位置合わせを行い、マスクＭとワークＷを接触させて、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置を検出し第２のアライメント量を求める。 - 特許庁

Further, the exposed release layer 22 is removed and after the alignment layer 26 is etched with the mask metal pattern 24 as a mask, the mask metal pattern 24 is removed.例文帳に追加

さらに、露出した剥離層２２を除去すると共に、マスク金属パターン２４をマスクにして配向膜２６をエッチングした後に、マスク金属パターン２４を除去する。 - 特許庁

After the alignment of the mask 2 is performed by the alignment mechanism, the low friction members 3b of the pressing elements 3 are touched and pressed to the substrate 1 from the opposite side of the mask 2 by the pressing mechanism.例文帳に追加

位置合わせ機構によりとマスク２の位置合わせを行った後に、押圧機構によりマスク２の反対側から基板１に押圧体３の低摩擦部材３ｂを接触させて押圧する。 - 特許庁

To independently check the aligment marks of a mask and work respectively separately with a CCD camera and to respectively movably set the alignment points of the mask and the alignment points of the work.例文帳に追加

マスクとワークのアライメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで独立的に確認でき、しかもマスクのアライメントポイントとワークのアライメントポイントとをそれぞれ移動可能に設定できるようにする。 - 特許庁

To realize an alignment bonding method and an alignment bonding device realizing the improvement of bonding quality by using a mask holder having good flatness.例文帳に追加

平面性のよいマスクホルダを用い、接着品質の向上を図ることができるアライメント接着方法及び装置を実現する。 - 特許庁

An alignment mark 86 in a mask to be photographed by an alignment camera 36 is disposed outside an effective exposure area of the mask, while an alignment mark in a substrate includes a pixel Pw of a black matrix BM disposed outside an area, where a pattern of the mask M is to be transferred by exposure.例文帳に追加

アライメントカメラ３６によって撮像される、マスク側アライメントマーク８６はマスクの有効露光エリアの外側に設けられており、基板側アライメントマークは、マスクＭのパターンが露光転写される領域の外側に設けられたブラックマトリクスＢＭのピクセルＰｗを含む。 - 特許庁

To provide a mask vapor deposition method capable of shortening mask vapor deposition time and performing mass production while realizing alignment of high accuracy.例文帳に追加

高精度なアライメントを実現しつつ、時間短縮を図ることができ、量産を可能とするようなマスク蒸着方法等を実現する。 - 特許庁

When the position of the mask relative to the mask table is known, subsequent alignment on the exposure stage is performed in a shorter time.例文帳に追加

露光ステージでのその後の位置合せは、マスク・テーブルに対するマスクの位置が分かっている場合、より短い時間で行うことができる。 - 特許庁

When the first and second alignment amounts match within a preset range, the second alignment amount is stored as an image shift amount, the mask M and the work W are separated again, the image shift amount is added to the second alignment amount to obtain an alignment amount, and the mask and the work are positioned.例文帳に追加

第１、第２のアライメント量が、あらかじめ設定した範囲内で一致する場合は、第２のアライメント量をイメージシフト量として記憶し、再度マスクＭとワークＷを離間し、第２のアライメント量にイメージシフト量を加えて、アライメント量を求めマスクとワークの位置合わせを行う。 - 特許庁

The alignment mark of the mask and the alignment mark of the panel to be attached are detected while being shifted timewise without moving the position of an alignment microscope in the XYθ directions and, as the result, the mask and the panel are relatively moved such that the detected both alignment marks comes to a prescribed positional relation.例文帳に追加

マスクのアライメントマークと貼り合せを行なうパネルのアライメントマークとを、アライメント顕微鏡の位置をＸＹθ方向には移動させないで時間的にずらして検出し、検出した両アライメントマークが所定の位置関係になるように、マスクとパネルとを相対的に移動させる。 - 特許庁

This device 100 automatically carries out the alignment of the reference hole for alignment pierced at the printed circuit board and the marks for alignment of the mask films for the front surface and the rear surface, thereby carrying out the alignment of the mask films for both the front and rear surfaces of the printed circuit board.例文帳に追加

この発明の装置１００は、プリント基板に穿設された位置合わせ用の基準穴と、表面用および裏面用のマスクフィルムの位置合わせ用のマークとの位置合わせをそれぞれ自動的に行うことにより、プリント基板の表裏両面に対するマスクフィルムの位置合わせを行う。 - 特許庁