「Mask Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A first mesa part 2a and a second mesa part 2b are formed on a GaAs substrate 1, a resist pattern 15 comprising opening parts 13 and 14 is formed, a semiconductor layer 2 is etched to a specified depth with the resist pattern 15 as a mask, and a recess 16 and a recessed part 17 for alignment mark are formed.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板１の上に第１メサ部２ａおよび第２メサ部２ｂを形成し、開口部１３，１４を有するレジストパターン１５を形成し、レジストパターン１５をマスクとして半導体層２を所定の深さまでエッチングし、リセス１６とアライメントマーク用凹部１７を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine and accurate pattern even on a substrate having high reflectivity, a substrate or the like in which a transparent film is interleaved by solving a problem (deterioration of a dimensional accuracy) due to halation or interference of a reflected light from the substrate and conducting an accurate mask alignment.例文帳に追加

基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、精度の高いマスクアライメントを行うことで、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for creating CAM data for an electronic circuit board by which CAD data which reflect the opening shape of a recognition mark for alignment in a solder resist layer can be appropriately and efficiently converted to CAM data of an exposure mask for photolithography for forming the openings.例文帳に追加

ソルダーレジスト層における位置合わせ用の認識マークの開口形状を反映したＣＡＤデータを、該開口を形成するためのフォトリソグラフィー用露光マスクのＣＡＭデータに適正かつ効率的に変換することができる電子回路基板用ＣＡＭデータ作成方法を提供する。 - 特許庁

Then, a reticle stage where the exposure mask is mounted, or a wafer stage where the reference wafer for alignment is mounted is finely adjusted so that patterns 12 and 12' for correction of misalignment in θ are superimposed on the positioning line 13 perpendicular to the orientation flat direction of the referential wafer.例文帳に追加

パターンが転写される半導体基板と同一の寸法を有する位置合わせ基準ウェハにおいて、位置合わせ基準ウェハの中心を通りオリエンテーションフラットに垂直な直線状の位置合わせマークと、位置合わせ基準ウェハの中心を示す位置合わせマークとを有する位置合わせ基準ウェハ。 - 特許庁

To provide an alignment method for precisely aligning each one of shots S1 to S32 a substrate P with a pattern image of a mask M by obtaining an array of the shots S1 to S32 based on the condition of a temperature distribution on upper surface of a first holding section 26 of a substrate table PT.例文帳に追加

基板テーブルＰＴの第１保持部２６上面の温度分布に基づいた条件で、ショットＳ１〜Ｓ３２の配列を求めることで、基板ＰのショットＳ１〜Ｓ３２の各ショットと、マスクＭのパターン像とを高精度に位置合わせする位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

In addition, the through-hole is a hole that penetrates the shadow mask from its anterior surface to its posterior surface, and the alignment optical system has a blocking means for blocking deposition of a treating material onto the through-hole at least during the treatment of the substrate.例文帳に追加

さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

An insulating layer 14 and a gate electrode 15 are formed on the layer 13 and impurities are introduced in the layer 13 using this gate electrode 15 as a mask to form a channel region 13a, a source region 13b and a drain region 13c in the layer 13 in a self-alignment manner.例文帳に追加

多結晶シリコン層１３の上に絶縁層１４，ゲート電極１５を形成し、このゲート電極１５をマスクとして多結晶シリコン層１３に不純物を導入して、チャネル領域１３ａ，ソース領域１３ｂおよびドレイン領域１３ｃを自己整合的に形成する。 - 特許庁

Since light shielding films 202 and 203 are formed at the regions overlapping the picture display region 10a and the driving circuits 101 and 104 on the exposure mask 200, the damage and deterioration of an alignment layer of the picture display region 10a and the driving circuits 101 and 104 can be prevented.例文帳に追加

露光マスク２００には、画像表示領域１０ａおよび駆動回路１０１、１０４と重なる領域に遮光膜２０２、２０３が形成されているので、画像表示領域１０ａの配向膜および駆動回路１０１、１０４が紫外線照射で劣化、損傷するのを防止できる。 - 特許庁

Then, when each of the out-in shots is exposed, not only a mask R of the shot is aligned with a pattern image according to the determined alignment of the shots, but also a face position of the wafer is adjusted according to the relative position detected during the measurement of the coordinate position.例文帳に追加

そして、上記の外内ショットを各々露光するときには、上で決定されたショットの配列に基づいて該ショットのマスクＲのパターン像との位置合わせが行われるとともに、座標位置の計測の際に検出された相対位置に基づいてウエハの面位置が調整される。 - 特許庁

The alignment mask is provided with: a plate 270b and three or more slits 270a formed on the plate 270b, wherein the slits are radially arranged so that the extension lines ax of long axes of the slits 270a cross at a point P at angles equal to each other on the principal surface of the plate 270b.例文帳に追加

板２７０ｂと、板２７０ｂに形成された３つ以上の細長い開口２７０ａと、を備え、板２７０ｂの主面において、開口２７０ａの長軸の延長線ａｘが一点Ｐで互いに等角度に交差するように開口２７０ａが放射状に配置されている。 - 特許庁

The method includes: holding a substrate 11 on substrate holding means 13; then, detecting an amplitude of vibration of the substrate 11 in the gravity direction; predicting a statically determinate position of the substrate 11 based on information of the amplitude; and aligning the substrate 11 and a mask 12 based on a position of an alignment mark at the statically determinate position.例文帳に追加

基板１１を基板保持手段１３に保持した後、該基板１１の重力方向の振動の振幅を検出し、該振幅情報より基板１１の静定位置を予測して、係る静定位置におけるアライメントマークの位置より基板１１とマスク１２の位置合わせを行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board wherein alignment precision of a mask film is superior in all layers, a fine circuit can be formed with high position precision and waste of material can be excluded, when a multilayer printed wiring board is manufactured by using a build-up method.例文帳に追加

ビルドアップ工法によって多層プリント配線板を製造するにあたって、全ての層についてマスクフィルムの位置合わせ精度が良好で、微細な回路を位置精度良く形成することができると共に、材料の無駄を排除することができる多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element of fine structure in which an alignment accuracy, an accuracy of processing technology by step and repeat exposure, finishing size of resist mask, yield by etching technology, etc. are overcome; and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the semiconductor elements of the fine structures are highly integrated.例文帳に追加

本発明では、アライメント精度、縮小投影露光による加工技術の精度、レジストマスクの仕上り寸法、エッチング技術等による歩留まりを克服し、微細構造の半導体素子、及び微細構造の半導体素子が高集積化された半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the SONOS EEPROM is adapted such that the electric charge trapping layer located at the both ends of the gate without erroneous alignment, the gate is manufactured without the use of a gate forming mask, whereby a cell having a structure excellent in uniformity can be manufactured, a photographic process is not used, and hence a limit due to the manufacturing process can be conqered.例文帳に追加

また、ゲート両端の電荷トラッピング層を誤整列なしに形成し、ゲート形成マスクなしにゲートを製造することであって、均一性に優れる構造のセルが製造でき、写真工程を使用せず、それによる限界を克服しうるＳＯＮＯＳＥＥＰＲＯＭの製造方法である。 - 特許庁

A photosetting polymer coated film 4 formed on a substrate 5 is irradiated with an outgoing light from a light source 1, after the light has converged on a straight line shape by means of a exposure mask 3 and the like, and the film is successively cured by successively scanning the irradiated position of the film, to form the liquid crystal alignment layer.例文帳に追加

基板５上に形成された光硬化性のポリマー塗布膜４に対して、光源１の出射光を露光マスク３等により、線状に絞った上で照射するとともに、その照射位置を順次走査することにより、順に硬化させることで液晶配向膜を形成する。 - 特許庁

In an alignment mask 47 for sucking and retaining a soldering ball 7, a sheet 60 is arranged so that the upper end of a plurality of extrusion pins 59 that are supported slidably is covered, and a pin holder 53 is provided, where the pin holder 53 presses down the sheet 60 by compressed air that is adjusted to required pressure.例文帳に追加

はんだボール７を吸着保持する整列マスク４７内に、摺動可能に支持した複数の押出しピン５９の上端を覆うようにシート６０を配置し、該シート６０を所要の圧力に調整された圧縮空気で抑えるようにしたピンホルダ５３を設けた。 - 特許庁

In the color filter substrate W, alignment between a manufactured TFT substrate Wt and a reference mask Ms is performed, a correction amount is calculated based on detected measurement data, exposure is performed in accordance with the correction amount and, therefore, the exposure is performed on the basis of the pattern precision of the manufactured TFT substrate Wt.例文帳に追加

カラーフィルタ基板Ｗは、製造したＴＦＴ基板Ｗｔと基準マスクＭｓとのアライメントを行なって、検出した測定データを元に補正量を算出し、この補正量に基づいて露光されるので、製造したＴＦＴ基板Ｗｔのパターンの精度に基づいて露光される。 - 特許庁

To provide an alignment system capable of embodying perpendicular vapor deposition by fixing and supporting a substrate and sufficiently securing flatness of a mask by minimizing the influence of fine particles during transfer in a thin film vapor deposition system of an in-line form, a vertical tray transfer apparatus, and a vapor deposition system including the same.例文帳に追加

インライン形態の薄膜蒸着システムにおいて、基板を固定及び支持して鉛直蒸着を具現し、移送中微細粒子の影響を最小化してマスクの平坦度を充分に確保することができる整列システム、垂直型トレイ移送装置及びこれを具備した蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

When successively transferring the pattern of a mask R on those partition regions on the substrate via a projection optical system PL, by making accurate alignment of the partition regions on the substrate with the image surface of the projection optical system, based on the measurement results, defective exposures caused by defocusing can be prevented.例文帳に追加

従って、基板上の複数の区画領域に投影光学系ＰＬを介してマスクＲのパターンを順次転写する際に、前記計測結果に基づいて、基板上の区画領域を投影光学系の像面に精度良く位置合わせすることにより、デフォーカスに起因する露光不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

When forming a film that constitutes a light shield of the color filter, an area on the transparent substrate on the color filter side corresponding to a position of the alignment mark formed on the touch panel sensor side is regulated by a metal mask or a die nozzle so as not to be covered with the film constituting the light shield.例文帳に追加

カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を形成する際に、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないように、メタルマスクやダイノズルで規定することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

A method of manufacturing a substrate for liquid crystal display device, on which a protrusion for liquid crystal divided alignment is formed, is characterized by containing a stage for forming the protrusion by exposing and developing a photosensitive resin via a mask having a pattern corresponding to the protrusion and gradation of light transmittance in the pattern.例文帳に追加

液晶分割配向のための突起が形成された液晶表示装置用基板の製造方法であって、突起に対応したパターンを有し、かつ該パターン内で光透過率に階調をもたせたマスクを介して感光性樹脂を露光、現像することによって突起を形成する工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁

To prevent the position of a via contact from deviating with repeat to metal wiring, even if deviation of alignment occurs in a mask pattern for forming a via hole in the case of designing the wiring width of the metal wiring and the diameter of the via hole which is connected with the upper surface of that metal wiring into the same dimension.例文帳に追加

金属配線の配線幅と、該金属配線の上面と接続されるビアホールの径とが同一寸法に設計される半導体装置の製造方法において、ビアホールを形成するためのマスクパターンにアライメントずれが発生しても、ビアコンタクトが金属配線に対して位置ずれしないようにする。 - 特許庁

The mask 32 is aligned with a specified chip on the wafer 44 utilizing three microscope imaging units AX1, AY1 and AX2, distances Lx and Ly between specified chips are determined from the moving amount of a θXY stage 70 at the time of alignment and then current expansion/ contraction rate of the wafer 44 is measured in the x direction and y direction.例文帳に追加

３つの顕微鏡撮像装置ＡＸ１、ＡＹ１、ＡＸ２を利用してマスク３２とウエハ４４の所定のチップとを位置決めし、この位置決めした時のθＸＹステージ７０の移動量から所定のチップ間の距離Ｌ_X,Ｌ_Y を求め、現在のウエハ４４のｘ方向及びｙ方向の伸縮率を測定する。 - 特許庁

To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.例文帳に追加

透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁

In the body region, a channel region portion, and a gate dielectric material 8 on the channel region portion, a gate electrode 4 on the gate dielectric material 8 are formed, and a source region portion 5 and a drain region portion 3 are formed by doping impurity atoms having an opposite conductivity type to the channel region portion by using a self-alignment mask of the gate electrode 4.例文帳に追加

上記本体領域に、チャネル領域部、上記チャネル領域部上のゲート誘電体８、ゲート誘電体８上のゲート電極４、および、ゲート電極４の自己整合マスクにより、チャネル領域部とは反対の伝導性型である不純物原子のドープによりソース領域部５およびドレイン領域部３を形成する。 - 特許庁

Based on these correction data, a positions of a mask is corrected, and the standard positions (b) and (c) of two alignment marks B and C are arranged on the first straight line 11 parallel with the X-axis.例文帳に追加

シートに印刷した各アライメントマークＡ、Ｂ、Ｃの位置とそれぞれの基準位置ａ、ｂ、ｃとを演算制御部で比較演算して修正データを算出し、この修正データに基づいてマスク位置の修正を行うスクリーン印刷装置のアライメント方法において、二つのアライメントマークＢ、Ｃの基準位置ｂ、ｃをＸ軸に平行な第１の直線１１上に配置する。 - 特許庁

The bus electrode 13 and the exposed electrode 15 can be formed so that the respective positions of the side edge parts of the bus electrode 13 and the exposed electrode 15 nearly coincide with each other without strictly controlling pattern accuracy and alignment accuracy, since the bus electrode 13 is utilized as a part of an exposure mask when the exposure from the rear side of a first glass substrate 11 is performed.例文帳に追加

第１のガラス基板１１の裏面側からの露光に際して、バス電極１３を露光マスクの一部として利用するため、パターン精度及びアライメント精度を厳密に制御することなく、バス電極１３の側縁部の位置と、露出電極１５の側縁部の位置とをほぼ一致するように形成することができる。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

A transfer layer composed of a release layer 22, a mask metal pattern 24, the alignment layer 26, a buffer layer 28, an electrode 30, a protective layer 32, and a color filter layer 34 is formed on a temporary substrate 20 without limiting manufacturing conditions and thereafter, the transfer layer is transferred/formed via an adhesive layer 36 on the plastic film 10.例文帳に追加

仮基板２０の上に、剥離層２２、マスク金属パターン２４、配向膜２６、バッファ層２８、電極３０、保護層３２及びカラーフィルタ層３４から構成される転写層を製造条件が制限されることなく形成した後に、プラスチックフィルム１０の上に接着層３６を介して転写層を上下反転した状態で転写・形成する。 - 特許庁

The exposure equipment 1 makes exposure light 11a, 12a emitted from two light sources (a first light source 11 and a second light source 12) transmit through different light transmission areas respectively, in a predetermined pattern of a mask 13, and irradiate regions corresponding to respective bisected regions of each picture element or pixel of the alignment material film formed on an exposure object member 2.例文帳に追加

露光装置１は、２個の光源（第１の光源１１及び第２の光源１２）から出射した露光光１１ａ，１２ａを、マスク１３の所定のパターンにおける夫々異なる光透過領域に透過させ、露光対象部材２上に形成された配向材料膜の各絵素又は画素の各分割領域に対応する領域に照射する。 - 特許庁

Especially in a liquid crystal dropping step (ODF) for vacuum bonding using a UV curing seal, a liquid crystal is protected by the imprint resin later 30, so that no shielding mask or alignment is required, UV light can be directly radiated and contamination from the seal to the liquid crystal layer can be suppressed by simplifying the step and shortening the time of contact between the seal and the liquid crystal.例文帳に追加

特に、紫外線硬化シールを用いる真空貼り合わせの液晶滴下工程（ＯＤＦ）では、インプリント樹脂層３０によって液晶が保護されていることによって、遮光マスクとアライメントが不要となり、直接紫外線を照射でき、工程の簡略化とともに、シールと液晶が触れている時間の短縮によりシールからの液晶層への汚染を抑えることができる。 - 特許庁

An adhesive rim 58 is arranged around the active part of the detector array, and the dimensions are determined to prevent the scintillation material from entering an area other than the active region to be covered by performing a desired, accurate alignment of the mask for the detector array and forming a sealing means along with a substrate 62 of the detector array and the pallet assembly.例文帳に追加

検出器アレイの活性部分の周囲には接着剤リム（５８）が配置されていて、それの寸法は検出器アレイに対するマスクの所望の正確な位置合せを可能にし且つ検出器アレイの基板（５２）及びパレット・アセンブリと共に封止手段を形成して被覆すべき活性領域外へのシンチレータ材料の侵入を防止するように定められている。 - 特許庁

ALIGNMENT MASK OF HEAD UNIT, ASSEMBLY DEVICE OF HEAD UNIT SETTABLE THEREOF, METHODS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON EMISSION DEVICE, PDP DEVICE, ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE, COLOR FILTER AND ORGANIC EL, AND METHODS FOR FORMING SPACER, METAL WIRING, LENS, RESIST, AND OPTICAL DIFFUSER例文帳に追加

ヘッドユニットのアライメントマスクおよびこれがセット可能なヘッドユニットの組立装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - 特許庁