「Micro Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a laminate with less defects, which enables detection of micro defects.例文帳に追加

微小な欠陥を検出することを可能とし、欠陥の少ない積層体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The micro-defects 14 act to getter (capture) the contaminated impurities such as heavy metal and the like.例文帳に追加

微小欠陥１４は、重金属等の汚染不純物をゲッタ（捕獲）すべく作用する。 - 特許庁

Finally, by moving an observing section equipped with microscopical function to coordinates position, micro observation is performed of defects.例文帳に追加

顕微鏡機能を備えた観察部を座標位置に移動させて欠陥のミクロ観察を行う。 - 特許庁

To provide a silicon wafer having BMD (Bulk Micro-Defects) layers sufficient for gettering while keeping sufficient wafer strength.例文帳に追加

シリコンウェーハにおいて、ウェーハ強度を十分に保ちつつ、ゲッタリングに十分なＢＭＤ層を有すること。 - 特許庁

However, the micro defects are removed by oxidation-processing the inside of the recess 3, the strength deterioration can be then prevented.例文帳に追加

しかし、凹所３の内面を酸化処理すると、微小欠陥が取り除かれ、強度低下を防止できる。 - 特許庁

To stabilize the quality of an annealed wafer by reliably decreasing SSDs (surface shallow defects which are recessed defects of an extremely wide and shallow shape on the surface), while ensuring generation of void defects other than the SSDs and generation of BMDs (bulk micro defects) indispensable as a gettering source in the bulk.例文帳に追加

アニールウェーハにとって必要不可欠なウェーハ表面におけるＳＳＤ（表面の非常に幅広く、浅い形状の凹状欠陥；Surface Shallow Defect）以外のボイド欠陥の低減や、バルク内のゲッタリング源としてのＢＭＤ（バルク微細欠陥；Bulk micro defect）の生成を保証しつつ、ＳＳＤを確実に低減させるようにして、アニールウェーハの品質を安定させる。 - 特許庁

To establish an inspection method for an engine capable of accurately inspecting even micro defects in an intake system.例文帳に追加

吸気系の微少な欠陥についても、高精度に検出が可能となるエンジン検査方法を確立する。 - 特許庁

To provide a micro relay preventing degradation of magnetic characteristics, easy to process and efficiently preventing occurrence of defects.例文帳に追加

磁気特性の劣化を防止し、加工が容易で、不良品の発生を効率よく防止することができるマイクロリレーを得る。 - 特許庁

To correctly detect micro-defects smaller than before in a defect detecting device and method.例文帳に追加

欠陥検出装置及び欠陥検出方法において、従来よりも微小な欠陥を正確に検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which prepares a means for restricting a fact that micro-pipe defects in a substrate are inherited to an SiC film, decreases the micro-pipe defects, and comprises an SiC thin film having superior crystallinity; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

基板中のマイクロパイプ欠陥がＳｉＣ膜に引き継がれることを抑制する手段を講じ、マイクロパイプ欠陥が少なく、結晶性が良好なＳｉＣ薄膜を備えた半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus and a reduced pressure drying method capable of suppressing formation of pin holes called foreign matter defects or micro-defects attributed to generated dust (foreign matter) from a connection part.例文帳に追加

接続部からの発塵物（異物）に起因した異物欠陥や微小欠陥と称するピンホールの発生を低減する減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide an article which has uniform micro-structure with fine crystal grains, and which doesn't contain substantially oxides and sulfides, and includes no segregation defects.例文帳に追加

微細結晶粒の均質なミクロ組織を有し、本質的に酸化物、硫化物を含有せず、偏析欠陥を含まない物品。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of detecting micro defects on a sample with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

A mask is formed for the characteristic pattern in which the density of defects caused by a function-defective nozzle of a micro-deposition head is reduced.例文帳に追加

マスクは、マイクロデポジションヘッドの機能不良ノズルのために起こる欠陥の密度を低減する特徴パターンに対して形成される。 - 特許庁

To provide a heat resistant, non-sticky precoated metal sheet in which a heat resistant, non-sticky coating film free from defects such as micro peeling is formed on a PFA layer.例文帳に追加

PFA層にミクロ剥離等の欠陥がない耐熱非粘着塗膜を設けた耐熱非粘着プレコート金属板を提供する。 - 特許庁

To provide system and method for inspecting a patternized device, containing a micro conductor which can simply and easily classify the types of defects in the patternized device to improve the yield ratio by causal analysis of the defects.例文帳に追加

パターン化デバイスの欠陥のタイプを簡便に分類し、欠陥の原因分析による歩留まり向上が可能な微細導体を有するパターン化デバイスを検査するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of accurately inspecting the presence of a micro defects in a resin layer, such as a protective layer formed on a base material.例文帳に追加

基材上に形成された保護層などの樹脂層における微少欠陥の有無を正確に検査し得る検査方法を提供する。 - 特許庁

At least one of the micro pipe defects opened on the surface of a substrate crystal (namely silicon carbide single crystal) is coated with a coating material 5.例文帳に追加

基板結晶（炭化珪素単結晶）１の表面において開口するマイクロパイプ欠陥の少なくとも一方を被覆材料５で被覆する。 - 特許庁

An oxide film as a film having positive charge is added to the surface of a semiconductor substrate having a gettering layer composed of oxygen-induced defects (BMD: Bulk Micro Defects) in the region in a semiconductor substrate different from a device active region.例文帳に追加

デバイス活性領域と異なる半導体基板内部の領域に、酸素起因欠陥（ＢＭＤ）よりなるゲッタリング層を有する半導体基板の表面に、正の電荷を有する膜である酸化膜を付加する。 - 特許庁

In the coating process, there is no generation of mist and individual coating defects caused by micro sol-gel droplets are not generated outside of the predetermined patten region.例文帳に追加

この塗布工程においてミストの発生はなく、所定パターン領域外に微小なゾルゲル液滴による独立した塗布欠陥は発生しなかった。 - 特許庁

To provide a composition for an anisotropic optical film, by which the number of micro defects of the anisotropic optical film containing a lyotropic liquid crystal compound can be reduced.例文帳に追加

リオトロピック液晶化合物を含有する異方性光学膜のミクロな欠陥を減少させることが出来る異方性光学膜用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novel and enhanced modular micro fluid sample adjusting system which is capable of solving at least a part of defects of a conventional system.例文帳に追加

従来のシステムの欠点の少なくとも一部を解消できる新規で改善されたモジュラーミクロ流体サンプル調整システムを提供することにある。 - 特許庁

To prevent the strength deterioration of silicon due to micro defects caused when a silicon wafer is wet-etched, for example, in a process of manufacturing a piezo-resistance type pressure sensor.例文帳に追加

例えばピエゾ抵抗式圧力センサ等の製造工等において、シリコンウェーハをウエットエッチングした時の微小欠陥によるシリコンの強度低下を防止する。 - 特許庁

To provide a mechanically stable contact part for absorbing a great pressure load and a shearing force which cause the functional defects of a micro-machining structural element.例文帳に追加

マイクロマシニング構成素子の機能欠陥を招く大きな圧力負荷及び剪断力を吸収するための機械的に安定した接触部を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric/electrostrictive membrane element having a large flexural displacement with suppressed disadvantages such as the occurrence of micro cracks and lattice defects due to a concentrated stress.例文帳に追加

屈曲変位が大きく、応力集中に起因するマイクロクラックや格子欠陥等の不具合が発生し難い圧電／電歪膜型素子を提供する。 - 特許庁

To provide a trouble detection method for rapidly detecting coating defects of a planographic printing plate material, having micro-variable density present on its surface.例文帳に追加

表面に微小な濃淡が存在する平版印刷版材料の塗布欠陥を迅速に検出する故障検出方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an electron gun which generates electron beams by which CL signals with high luminance are obtained from an extremely micro amount of defects and impurities, and which is controllable to a large current.例文帳に追加

極微量の欠陥や不純物から、高い輝度のCL信号を得、大電流まで制御可能な電子ビームを発生させる電子銃を提供する。 - 特許庁

This method for producing the wafers includes a BMD forming process for forming inner micro-defects (BMD) at the inside by subjecting a silicon single crystal in an ingot state to heat treatment and a wafer processing process for processing the ingot in which the inner micro-defects (BMD) are formed into wafers.例文帳に追加

ウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行ない内部に内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成するＢＭＤ形成工程と、前記内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成したインゴットをウエーハに加工するウエーハ加工工程を有するウエーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a semiconductor, that can measure and evaluate micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects by separating influences given by each to the others in the method for measuring either of the micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects near the crystal surface.例文帳に追加

本発明は、結晶表面近傍のマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物のいずれかを計測する計測方法において、それぞれが他の計測に与える影響を分離したマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物の計測、評価が可能である半導体検査方法と装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To efficiently grow a bulk single crystal SiC which is almost free from the occurrence of micro-pipe defects or crystal defects or the like, in which polycrystallization by enclosing Si-lumps does not occur and which has high quality and high performance.例文帳に追加

マイクロパイプ欠陥や結晶欠陥等の発生が少ないとともに、Ｓｉ塊の封じ込みによる多結晶化もなく、非常に高品質高性能で、かつ、バルク状の単結晶ＳｉＣを効率よく育成できるようにする。 - 特許庁

In this case, the cutting streaks, etc. can be effectively removed without damaging the polishing face 9 by using the micro polishing material 3a of a micro nano meter level to prevent defects such as rainbow marks (rainbow-colored interference light) caused by the cutting streaks.例文帳に追加

微細なナノメータレベルの微細な研磨材３ａを用いることで研磨面９を損傷することなく、切削条痕等を効果的に除去して、切削条痕に起因する虹目（虹色の干渉光）等の欠陥を防止できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an NF membrane which has a few defects, has a thin and uniform membrane thickness and has a sharp micro pore distribution, and a ceramic filter using the NF membrane.例文帳に追加

欠陥が少なく、膜厚が薄く均一で、細孔の分布にシャープさがあるＮＦ膜の製造方法、及びこのＮＦ膜を用いたセラミックフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing silicon carbide single crystals which can provide the silicon carbide single crystals being reduced in micro pipe defects compared with conventional ones.例文帳に追加

従来に比し、マイクロパイプ欠陥をより低減した炭化ケイ素単結晶を得ることができる炭化ケイ素単結晶の製造方法および製造装置を実現する。 - 特許庁

To provide a silicon single crystal pulling method by which micro defects caused by bubbles formed on the surface of a quartz crucible or the like, and dislocations in the single crystal can be reduced.例文帳に追加

石英坩堝の表面に形成される気泡等に起因する微小欠陥や単結晶の有転位化を低減できるシリコン単結晶の引上げ方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture good quality silicon carbide bulk single crystal having no micro-pipe defect and a small number of lattice defects at a melt temperature of ≤2000°C and at a high growth rate.例文帳に追加

マイクロパイプ欠陥を含まない、格子欠陥の少ない良質な炭化珪素バルク単結晶を、２０００℃以下の融液温度で、高い成長速度で製造する。 - 特許庁

This silicon wafer inspection is to inspect the defect that is an aggregate of micro-defects like a colony and the whole defective size is more 0.5 μm or more.例文帳に追加

シリコンウエーハを検査するにあたり、微小欠陥がコロニー状に集合しかつ全体の欠陥サイズが０．５μｍ以上である欠陥を検査することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate, with which fine dislocation defects or the like present in a source silicon carbide substrate can be sufficiently terminated and production of new micro-defects can be suppressed, and to provide a semiconductor substrate manufactured by using the method.例文帳に追加

原炭化珪素基板に内在する微細な転移欠陥等を十分に終端すると共に、新たな微細欠陥の発生を抑制することのできる半導体基板の製造方法およびそれによって製造される半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

To decrease overlookings of micro-defects due to the maladjustment of an image pick-up conditions in a method for minute inspection of a defect executed, after the position of the defect on an object to be inspected is measured beforehand.例文帳に追加

被検査対象物の欠陥位置が予め計測された後に欠陥の詳細検査を行う方法において、撮像条件の不具合による微小欠陥を見逃しを低減する。 - 特許庁

To provide an infrared detector of thermal-type provided with a structure of micro air bridge for supporting the detector element, capable of enhancing the sensitivity, improving the deterioration in performance and reducing the chipping defects, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

検出素子の支持体としてマイクロエアブリッジ構造体を有し、感度の向上、特性劣化の改善、チッピング不良の改善を図った熱型赤外線検出装置、およびその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a resist material having good appliability, suppressing the generation of micro-bubbles in a solution and less liable to cause various defects that cause the lowering of yield in a device process and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

塗布性が良好で、溶液でのマイクロバブルの発生を抑え、しかもデバイス工程での歩留まり低下を引き起こす各種欠陥の発生が少ない、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a quasi-electrostatic field analyzer and analysis method, which detects the condition of a micro-fine place with high accuracy and can be applied to the analysis of defects generated in a semiconductor device.例文帳に追加

微細な場所の状態を高精度で検出することができ、半導体デバイスに生じる欠陥の解析に適用可能な準静電界解析装置及び準静電界解析方法を提供する。 - 特許庁

A second heat treatment of the wafer 10 in an inert gas atmosphere forms micro-defects 14 inside the wafer 10 as well as changes the wafer 10's surface layer into a defect-free layer 16.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気中でウエハ１０に第２の熱処理を施すことによりウエハ１０の内部に微小欠陥１４を形成すると共にウエハ１０の表面層を無欠陥層１６に変化させる。 - 特許庁

This power transmission shaft 1 is manufactured by performing drawing work to a pipe stock in which the surface layer where surface defects such as flaws and micro projecting and recessing parts are present and the surface decarburized layer are removed.例文帳に追加

この動力伝達シャフト１は、キズや微小凹凸等の形状欠陥が存在している表面層や、表面の脱炭層を除去したパイプ素材に絞り加工を施して製造される。 - 特許庁

Brightness shading is corrected in each provided image on a CPU, a micro-defect is thereby detected highly accurately without missing it, and a determination reference corresponding to kinds of defects classified is further provided to determine the quality and to conduct detail quantitative evaluation corresponding to the kinds of defects classified.例文帳に追加

更に、コンピュータ１０７上で得られた画像毎に輝度シェーディング補正を行うことで、微弱な欠陥を見落としなく高精度に検出し、更にまた、欠陥種別対応判定基準を設け、合否判定を行うと同時に、欠陥種別対応に詳細に定量評価を行えるようにしたものである。 - 特許庁