「Micro Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a new method capable of preciously correcting black defects in a semiconductor mask through micro machining that does not cause damage due to FIB irradiation and does not produce shavings and the equipment for implementing the new method.例文帳に追加

本発明が解決しようとする問題点は、ＦＩＢ照射のダメージもなく、削り屑が出ることもない微細加工によって、半導体マスクの黒欠陥を精密に修正できる新たな方法を提示し、それを実行する装置を提供することにある。 - 特許庁

To establish a technique of production, stable without causing crystal defects, and suitable for the synthesis of many kinds of complex oxides by the micro uniform mixing of a raw material powder required for the synthesis of the complex oxide in an atomic or molecular level.例文帳に追加

複合酸化物の合成に必要な原料粉の原子あるいは分子レベルでのミクロな均一混合によって、結晶欠陥を生じることなく安定して、多数種の複合酸化物の合成に適合する製造技術を確立すること。 - 特許庁

To provide a method capable of forming an electroless plating film free from defects such as pits and flowing plating unevenness (an aggregate of micro-projections), good in appearance and moerover excellent in adhesion on a glass product by using a stable treating soln. usable over a long period.例文帳に追加

安定で長期間使用可能な処理液を用いて、ガラス製品上に、ピット、流れ状のめっきムラ（微少突起物集合体）等の欠陥が無く、外観が良好で、しかも密着性に優れた無電解めっき皮膜を形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium which has desired flatness and surface roughness and which has few micro defects on a main surface, and to provide the information recording medium using the glass substrate for information recording medium manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

所望の平坦度、表面粗さを備え、主表面の微小欠陥が少ない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a defect classification system capable of performing classification similar to human judgement on defects such as resist coating irregularities, exposure failures, flaws, the adhesion of dust without having to register defect data in micro-inspections principally on semiconductor wafers and liquid crystal panels.例文帳に追加

主に半導体ウェハ及び液晶パネルのマクロ検査におけるレジストの塗付ムラや露光不良、キズ、塵埃の付着などの欠陥に関して、欠陥データの登録を必要とせず、より人間の判断に近い分類を可能にする欠陥分類装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a biaxially oriented film which can produce the quality film which is excellent in smoothness and free from defects such as an orange skin in a method in which a sheet obtained by using a cooling roll having a micro-crack surface is biaxially oriented.例文帳に追加

マイクロクラック表面の冷却ロールを用いて得られるシートを二軸延伸する方法において、平滑性に優れ、オレンジ肌様欠点のない高品質のフィルムを高速で長時間安定して生産できる二軸延伸フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a portable micro jigsaw puzzle of a card size with composite material of a printable magnet sheet on a surface of the jigsaw puzzle portion, and a steel foil sandwiched between sheets of coated cardboard in a locking portion, so as to prevent pieces from falling and scattering, and thus to improve intrinsic defects based on a material and a manufacturing method.例文帳に追加

材料や製法に基く固有の欠点を改善する為に、ジグソーパズル部分の表面に印刷可能なマグネットシートを使用し、係止部分にスチール箔をコートボール紙でサンドした、複合素材を使用し落下飛散を防止し携帯可能な、テレホンカードサイズのマイクロ・ジグソーパズルを提供。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method and an apparatus, having a high S/N ratio and capable of detecting micro defects at a surface layer part of a material to be inspected having a coarse surface, such as a slab via immersion testing (full immersion testing, partial immersion testing, and a water-column ultrasonic method).例文帳に追加

水浸法（全没水浸法、局部水浸法、水柱超音波法）を用いて、スラブのように表面が粗い検査材の表層部にある微小欠陥を高いＳ／Ｎで探傷することが可能な超音波探傷方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a standard sample for evaluating silicon single crystal wafers containing octahedral BMD (bulk micro defects) in high density, of which the sizes can be found by LST (laser scattering tomography) and which can be measured by TEM (transmission electron microscopy) for size definition, its manufacturing method, and an evaluating method by using the correlation sample.例文帳に追加

ＬＳＴで欠陥サイズを求めることができ、かつサイズ定義に必要なＴＥＭで測定できる八面体のＢＭＤを高密度で含むシリコン単結晶ウェーハ評価用の標準サンプル、その製造方法及び標準サンプルを用いた評価方法を提供する。 - 特許庁

A part 6-7 which requires a defect check and is selected out of parts (e.g. a gate transistor region of a logic part), having a large effect on performance characteristics of a semiconductor device and furthermore being provided with circuit patterns that are fine and apt to be affected by micro defects, is considered as the specific region of the mask.例文帳に追加

マスクの特定領域としては、半導体装置の動作特性に多大な影響を与え、かつ、回路パターンが微細で微小欠陥の影響を受けやすい部分（例えばロジック部のゲートトランジスタ領域）における欠陥検査が必要な部分６−７が挙げられる。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method and a device therefor, capable of detecting with a high S/N ratio, micro defects at a surface layer part of a material to be inspected having a coarse surface like a slab, by using immersion testing (full immersion testing, partial immersion testing, and a water-column ultrasonic method).例文帳に追加

水浸法（全没水浸法、局部水浸法、水柱超音波法）を用いて、スラブのように表面が粗い検査材の表層部にある微小欠陥を高いＳ／Ｎで探傷することが可能な超音波探傷方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a detection signal processing method for periodic defects, capable of detecting surely micro irregular flaws having several μm of unevenness difficult to be visually confirmed in an object of coarse surface roughness to be inspected, and difficult to be automatically detected as detected by grinding inspection with a grindstone, and a device therefor.例文帳に追加

表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な、凹凸が数μm程度の微小凹凸性疵を確実に検出できるようにした、周期性欠陥の検出信号処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To enable accurate and quick decision on the quality of a glass substrate, by precisely calculating the position of a defect in the depth direction, based on the image of a defect photographed, while moving the focal surface of a camera from the surface of the glass substrate to the inside, to obtain a clear image of a micro defects.例文帳に追加

カメラの焦点面をガラス基板の表面から内部に移動させながら撮影された欠陥の映像に基づいて欠陥の深さ方向位置を正確に算出して、微細な欠陥の鮮明な映像を取得することにより、ガラス基板の良否を正確且つ素早く判断できるようにする。 - 特許庁

To obtain a make up composition or skin care composition in a powdery form having good characteristics from the view point of softness when applied to the skin and capable of obtaining deposition (particularly make up finish) having transparency and blocking defects of relief of the skin, e.g. micro-relief, wrinkle or fine lines while keeping covering effect in a low state.例文帳に追加

皮膚に適用したとき軟らかさの点で良好な特性を有し、被覆効果を低く保ちながら、透明であり、皮膚のレリーフの欠点、例えばマイクロレリーフ、しわ、細かい線を遮蔽する付着物、特にメイクアップ仕上がりを得ることを可能にする粉末の形態のメイクアップまたはスキンケア組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method for machining silicon in which the yield of ink jet head can be increased by suppressing occurrence of micro defects at the time of machining a silicon substrate, and a recorder, e.g. a printer, a color filter production system, a field emission substrate production system, and the like, employing an ink jet head produced by that method.例文帳に追加

シリコン基板の加工時において発生する微小欠陥の発生を抑え、歩留まりを高くできるようなインクジェットヘッドをはじめとするシリコンの加工方法等を得、さらに、これにより製造したインクジェットを用いた印刷等の記録装置、カラーフィルタ製造装置、電界発光基板製造装置等を得る。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device usable for detecting a surface defect such as micro-unevenness and a protrusion in an inspected object and for detecting and inspecting a defect accompanied by a concentration change on a surface, and capable of detecting easily and precisely the surface defects in the inspected objects having a plurality of kinds of diameters and lengths.例文帳に追加

被検査物の微小な凹凸、突起等の表面の欠陥の検出、さらに併せて表面の濃度変化を伴う欠陥の検出・検査に利用することができ、複数種類の直径や長さの被検査物の表面欠陥を精度よく容易に検出できる表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a selective etching method capable of evaluating a crystal defect of an ultra-low resistant silicon single crystal substrate having electric resistivity of <10 mΩ cm, especially BMD (bulk micro defects) properties, which can not be easily detected by conventional methods, by selectively etching using a chromium-less etching solution which does not contain harmful chromium and utilizing the silicon single crystal substrate.例文帳に追加

従来容易には検出することができなかった電気抵抗率が１０ｍΩ・ｃｍ未満である超低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥、特にＢＭＤの特性を、有害なクロムを含有しないクロムレスのエッチング液を用いて選択エッチングすることにより評価し、利用することを可能にする、選択エッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a silicon single crystal, by which a silicon single crystal having uniform carbon concentration and BMD (bulk micro-defects) uniformly formed therein can be produced, and to provide a silicon single crystal wafer produced from a silicon single crystal produced by the method, the wafer having BMD uniformly formed within the wafer plane and having a uniform gettering ability.例文帳に追加

炭素濃度が均一化され、ＢＭＤが均一に形成されたシリコン単結晶を製造することができるシリコン単結晶製造方法、およびその方法で製造したシリコン単結晶から製造されるウェーハ面内でＢＭＤが均一に形成され、均一なゲッタリング能力を有するリコン単結晶ウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth which performs texture machining to the finish of super-high precision with extremely small surface roughness of a substrate, suppresses a defect caused by micro chips from polishing and abrasive grains biting into the substrate surface, has a high cleaning effect, and minimizes scratch defects caused by the local cohesion of abrasive grains.例文帳に追加

基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。 - 特許庁

The kind of a defect is detected, and signal processing is performed according to this defect, by providing an information processor with an envelope detection part 11 for detecting an envelope of a reproduction RF signal, and a defect detection device 1 comprising a three-block configuration for classifying the defects into a micro defect, a degenerated defect, and a difference defect.例文帳に追加

再生ＲＦ信号のエンベロープを検出するエンベロープ検出部１１と、ディフェクトをマイクロディフェクト、縮退ディフェクト、及び差分ディフェクトの３種類に分類するための３つのブロック構成とを備えたディフェクト検出装置１を情報処理装置に設けることにより、ディフェクトの種類を検出し、このディフェクトに応じた信号処理を実行する。 - 特許庁

With this constitution, since the same region on the wafer 1 is not simultaneously irradiated with a large number of illuminating lights, noise due to interference of the large number of illuminating lights is not made while eliminating noise due to other causes, and micro defects on the sample can be detected with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

このように構成すれば、ウエハ１上の同一領域に多数の照明光を同時に照射することはないので、多数の照明光の干渉によるノイズが発生させることなく、他の原因によるノイズを除去でき、試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現することができる。 - 特許庁

The electron multiplying type CCD sensor is used as the photodetector, electrons generated by the photoelectric transfer is multiplied to be read out thereafter, a signal by input light gets relatively large thereby, with respect to the electric noise to detect very weak light compared with a conventional CCD, and the micro foreign matters or defects can be detected, as compared to prior art.例文帳に追加

光検出器として電子増倍型ＣＣＤセンサを用い、光電変換によって生じた電子を増倍した後に読み出すことにより、電気的なノイズに対して入力光による信号が相対的に大きくなるようにして、従来のＣＣＤと比較してより微弱な光を検出することを可能にし、従来と比べて、より微小な異物や欠陥を検出できるようにした。 - 特許庁