「PL」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Moreover, connecting time slots remaining adjacent nodes at a protection line PL side forms a concatenation path.例文帳に追加

また、プロテクションラインＰＬ側の、隣接するノード間に残存するタイムスロットを連結し、コンカチネーションパスを形成する。 - 特許庁

Image focus locations PL and PR in left and right images of a point P of the object to which the index beam is made incident are detected.例文帳に追加

被写体に指標ビームが投光される点Ｐの左右画像における結像位置Ｐ_L、Ｐ_Rを検出する。 - 特許庁

The movement of the mirror in the projection system PL is detected as shifts in the dummy positions of the reference makers 11, 14.例文帳に追加

投影システムＰＬ内のミラーの動きが、基準マーカ１１、１４の見かけの位置のシフトとして検出される。 - 特許庁

The light-emitting display element has color adjustment made with emission colors of the EL material and emission colors of the PL material.例文帳に追加

この発光表示素子は、ＥＬ材料の発光色とＰＬ材料の発光色とで色調整される。 - 特許庁

The projection exposure apparatus 100 projects a pattern of an original plate 6 onto a substrate 7 through the projection optical system PL.例文帳に追加

投影露光装置１００は、投影光学系ＰＬを介して原版６のパターンを基板７に投影する。 - 特許庁

A projection optical system PL is composed of a lens L11 to the lens component L2 equipped with the auxiliary mirror M2.例文帳に追加

レンズＬ１１から副鏡Ｍ２を備えたレンズ成分Ｌ２より投影光学系ＰＬが構成されている。 - 特許庁

The optical device PL is provided with a plurality of empty spaces 250 to 254 formed on an optical path of the energy beam IL.例文帳に追加

光学装置ＰＬは、エネルギービームＩＬの光路上に形成された複数の空間２５０〜２５４を有する。 - 特許庁

From the peak position of light intensity in the Z direction, a predetermined even function aberration of the projection optical system PL is found.例文帳に追加

Ｚ方向で光量がピークとなる位置から投影光学系ＰＬの所定の偶関数収差を求める。 - 特許庁

By initially releasing the plastic lens PL from the movable half 14 immediately after initial mold opening, in this way, it can be avoided completely that a diffraction lens surface PLb formed on the plastic lens PL and a diffraction pattern formed on the optical surface 14a of the movable half 14 come into contact with each other, even when the plastic lens PL contracts by cooling.例文帳に追加

このように、初期型開きの直後に可動型１４に対してプラスチックレンズＰＬを初期離型させることで、プラスチックレンズＰＬが冷却されて収縮した場合にも、プラスチックレンズＰＬに形成された回折レンズ面ＰＬｂと、可動型１４の光学面１４ａに形成された回折パターンとが接触することを完全に回避することができる。 - 特許庁

The ink jet recording method comprises printing to a coated paper by an ink jet ink comprising a non-volatile component of at least 10 mass% and less than 50 mass% and having a droplet volume of at least 0.1 pL and not more than 0.5 pL.例文帳に追加

不揮発成分が１０質量％以上、５０質量％未満であるインクジェットインクを、液滴量として０．１ｐＬ以上、０．５ｐＬ以下で印刷用塗工紙に印字することを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

Next, the existence of a maximum value PL is discriminated from the evaluated value profile (S13), and in the case that the maximum value PL exists, the sampling interval Δr' is set based on a threshold TH which is equal to or larger than the maximum value (S14).例文帳に追加

次いで、評価値プロファイルから極大値ＰＬの有無を判別し（Ｓ１３）、極大値ＰＬが存在する場合には、該当する極大値以上のしきい値ＴＨに基づいてサンプリング間隔Δｒ´を設定する（Ｓ１４）。 - 特許庁

The exposure system EX fills a space between the projection lens system PL and the substrate P up with the liquid 50, and the substrate P is exposed by the projection lens system PL, by projecting an image of the pattern on the substrate P via the liquid 50.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。 - 特許庁

A desiccation method of an organic EL film includes a step of measuring PL emission, where two or more pixels 190 for observing the PL emission along an outer circumference of an organic film 200 formed by applying an ink composition including an emission polymer material on a substrate 180 are provided.例文帳に追加

基板１８０上に発光高分子材料を含むインク組成物を塗布し形成された有機膜２００の外周部に２点以上のＰＬ発光観察用画素１９０を設けてＰＬ発光を測定する。 - 特許庁

After the play list editing is performed, an un-referenced-area extracting part 17 presents the user a plurality of remaining parts except the play list intervals specified by the PL information out of the whole VOB as a plurality of un-referenced parts on a video stream.例文帳に追加

プレイリスト編集の実行後非参照領域抽出部１７は、VOB全体から、このPL情報にて指定されるプレイリスト区間を除いた複数の残り部分を、動画ストリーム上の複数の非参照部分としてユーザに提示する。 - 特許庁

The hydraulic control device includes a primary regulator valve 203 for regulating line pressure PL as original hydraulic pressure of each part, and a selectively reducing valve 205 for outputting regulated pilot pressure to the primary regulator valve 203 to regulate the line pressure PL.例文帳に追加

油圧制御装置は、各部の油圧の元圧となるライン圧ＰＬを調圧するプライマリレギュレータバルブ２０３と、プライマリレギュレータバルブ２０３にライン圧ＰＬを調整するためのパイロット圧を調整して出力するセレクトレデューシングバルブ２０５を備える。 - 特許庁

A first regulator valve 12 and a second regulator valve 13 for regulating the line pressure Pl are constituted to adjust the line pressure Pl by performing feedback of output pressure Psf of the fail-safe valve 19 as hydraulic pressure on the drive pulley 21 side.例文帳に追加

そしてライン圧Ｐｌを調整する第１レギュレータバルブ１２及び第２レギュレータバルブ１３を、ドライブプーリ２１側の油圧としてフェールセーフバルブ１９の出力圧Ｐｓｆをフィードバックしてライン圧Ｐｌを調整するように構成した。 - 特許庁

On the conveying truck 70, a plurality of guide rollers 72 which are aligned on the pass line PL when the truck is positioned in the straightening position are arranged and materials to be straightened are conveyed along the pass line PL with the guide rollers 72.例文帳に追加

搬送台車７０には、矯正位置に位置決めしたときにパスラインＰＬに整列する複数のガイドローラ７２が配設され、該ガイドローラ７２によって被矯正材料をパスラインＰＬに沿って搬送し得るよう構成される。 - 特許庁

At 31, based on Tes, a normal- time target transmission hydraulic pressure Pn where the belt slip would not occur even by rapid acceleration is calculated, and at 32, a low-pressure permitted target hydraulic pressure Pl where the belt slip would not occur without rapid acceleration based on Tes is calculated.例文帳に追加

31はTesの基で急加速によってもベルトスリップを生じない通常時目標変速油圧Pnを算出し、32はTesの基で急加速しなければベルトスリップを生じない程度の低圧許可時目標油圧Plを算出する。 - 特許庁

In the exposure apparatus, an exposure of a substrate P is carried out by filling at least a portion of the space between a projection optical system PL and the substrate P with a liquid 50 and projecting the image of a pattern onto the substrate P via the projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

Optical illumination equipment is deviated in a prescribed direction from the projection optical axis (AXp) of the catadioptric projection optical system (PL) on the object surface of the projection system (PL), so that the equipment may illuminate a prescribed area not containing the projection optical axis (AXp).例文帳に追加

反射屈折型の投影光学系（ＰＬ）の物体面において投影光学系の投影光軸（ＡＸｐ）から所定方向に偏心して投影光軸を含まない所定領域を照明するための照明光学装置。 - 特許庁

The stent polishing device 10 includes: an inclined tank 11 for pouring a polishing liquid PL from upstream to downstream; and a carrying unit 29 which immerses the stent 69 in the polishing liquid PL and carries the stent 69 from the downstream to upstream while rotating.例文帳に追加

ステント研磨装置１０は、研磨液ＰＬを上流から下流に流す傾斜槽１１と、研磨液ＰＬの中にステント６９を浸し、下流から上流に、ステント６９を回転させつつ搬送させる搬送ユニット２９と、を含む。 - 特許庁

In a reproduction pitch limit circuit 10, when pitch data Pitch read out from a RAM 200 exceeds pitch limit data PL, the pitch data Pitch is shifted by octave to be a value not to exceed the pitch limit data PL.例文帳に追加

再生ピッチ制限回路１０では、ＲＡＭ２００から読み出されるピッチデータＰｉｔｃｈがピッチ制限データＰＬを超えると、当該ピッチ制限データＰＬを超えない値になるまでピッチデータＰｉｔｃｈをオクターブシフトする。 - 特許庁

The second liquid is discharged as liquid droplets at the volume reducing speed of 5 pl/μs or below of the piezoelectric inkjet chamber.例文帳に追加

前記第２液体は、前記ピエゾ式インクジェットチャンバーの体積減少速度５ｐｌ／μｓ以下で、液滴で吐出される。 - 特許庁

The used parts M determined as reutilizable are fed to the production line PL as reusable parts MA.例文帳に追加

再利用可能と判断された既使用部品Ｍは、再使用可能部品ＭＡとして製造ラインＰＬに供給される。 - 特許庁

The image formation optical system (PL) is provided with two or more optical members, and forms an object (R) image using an image formation beam of light.例文帳に追加

複数の光学部材を備え、結像光線を用いて物体（Ｒ）の像を形成する結像光学系（ＰＬ）。 - 特許庁

After this, the protective film PL is removed, and the wiring film 7 and the barrier metal film 6 over an inter-layer insulation film 4 are removed.例文帳に追加

その後、保護膜ＰＬを除去し、層間絶縁膜４上の配線膜７及びバリアメタル膜６を除去する。 - 特許庁

This component data arranging means 9 outputs arrangement result data D in the format of link component data PL.例文帳に追加

この部品データ配置手段９は、配置結果データＤにつき、リンク部品データＰＬの形式で出力可能なものとする。 - 特許庁

The wavefront aberration of the projection optical system PL under the condition where mounted on the exposure device is compensated based on the two difference.例文帳に追加

露光装置に搭載された状態での投影光学系ＰＬの波面収差を２つの差分に基づいて補正する。 - 特許庁

The application treatment layer PL has space at the upper section of a spin-coat SC, and can be expanded and contracted.例文帳に追加

これらのうち塗布処理層ＰＬは、スピンコータＳＣの上方に空間が設けられた伸縮可能な処理層である。 - 特許庁

An intermediate node N13 in the cell block MCB0 is connected to a plate line PL through a plate line selection gate Q21.例文帳に追加

セルブロックＭＣＢ０内の中間ノードＮ１３は、プレート線選択ゲートＱ２１を介してプレート線ＰＬに接続される。 - 特許庁

Then the semiconductor wafer 1W is divided into individual semiconductor chips based upon the reformed region PL as a division starting point.例文帳に追加

その後、上記改質領域ＰＬを分割起点として半導体ウエハ１Ｗを個々の半導体チップに分割する。 - 特許庁

An optical pickup 7 converges the light beam L containing the pulse trains PL on a recording layer 101 by an objective lens 8.例文帳に追加

光ピックアップ７は、パルス列ＰＬを含む光ビームＬを対物レンズ８により記録層１０１内に集光する。 - 特許庁

A radio terminal 300 determines transmission power of a PUSCH based on scheduling information on a DL-PL and a UL.例文帳に追加

無線端末３００はＤＬ−ＰＬとＵＬのスケジューリング情報に基づいてＰＵＳＣＨの送信電力を決める。 - 特許庁

In the image projection optical system, light from an image forming element LCD is guided to a zoom lens PL through an optical element GB.例文帳に追加

画像投射光学系は、画像形成素子ＬＣＤからの光を光学素子ＧＢを介してズームレンズＰＬに導く。 - 特許庁

A projection system PL is constituted and arranged in order to image the irradiated part of the reticle onto the target portion of a substrate.例文帳に追加

投影系ＰＬは、レチクルの照射部分を基板の目標部分に結像させるように構成及び配列される。 - 特許庁

The digital signature information is imparted to the article so as to be an insured article (5a) between the insurance contractor and a PL insurance company (10).例文帳に追加

該ディジタル署名情報を該物品に付与して該保険契約者とＰＬ保険会社(10)との間で被保険物(5a)とする。 - 特許庁

Secondly, the second HDP oxide film 15 is polished by a CMP until the PL-TEOS oxide film 14 is exposed.例文帳に追加

次に、ＰＬ−ＴＥＯＳ酸化膜１４が露出するまでＣＭＰにより第２ＨＤＰ酸化膜１５を研磨する。 - 特許庁

A shield case 3 is fitted in this state and then the liquid crystal display panel Pl is stably held at its normal position.例文帳に追加

この状態でシールドケース４を嵌装すれば、液晶表示パネルＬｐが正規の位置に安定的に保持される。 - 特許庁

In addition, a p-type latch-up preventing layer PL is provided between a p^+-type contact layer PC and the n-type hole barrier layer NHB.例文帳に追加

さらに、ｐ^＋型コンタクト層ＰＣとｎ型ホールバリア層ＮＨＢの間にｐ型ラッチアップ防止層ＰＬを設ける。 - 特許庁

The refractive index or the absorbance of the liquid PL is measured by a measuring unit 34 arranged in a stock tank 24.例文帳に追加

原料液ＰＬの屈折率または吸光度は、原料タンク２４に配設された測定器３４により測定される。 - 特許庁

An analyzer plate AP positioned between the projection system PL and a radiation sensor DS is illuminated with a projected beam of radiation.例文帳に追加

投射システムＰＬと放射センサＤＳの間のアナライザ・プレートＡＰが、投射放射ビームによって照らされている。 - 特許庁

The angles of the rotary mirrors 57L and 57R are adjusted so that the image focus locations PL and PR become the centers of left and right images, respectively.例文帳に追加

結像位置Ｐ_L、Ｐ_Rが左右画像の中心となるように回動ミラー５７Ｌ、５７Ｒの回動角を調整する。 - 特許庁

Then, the semiconductor wafer 1W is divided into individual semiconductor chips using the quality modification region PL as a division starting point.例文帳に追加

その後、上記改質領域ＰＬを分割起点として半導体ウエハ１Ｗを個々の半導体チップに分割する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor light emitting element capable of stably obtaining high PL emission intensity.例文帳に追加

高いＰＬ発光強度を安定して得ることが可能な窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a PL device capable of transmitting light in at least a part of a visible wavelength region at a high transmittance.例文帳に追加

可視波長域の少なくとも一部の波長域の光を高い透過率で透過させるＰＬ素子を提供する。 - 特許庁