「PL」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

With respect to one section, data including an exciting wavelength, a PL wavelength and PL intensity as dimensions is collected to preserve the data of all sections by a five-dimensional data collection part 22.例文帳に追加

１つの区画については、励起波長を走査することで、励起波長、ＰＬ波長、ＰＬ強度をディメンジョンとするデータを収集して、５次元データ収集部２２は全区画のデータを保存する。 - 特許庁

On the other hand, upon completion of thermal cutting machining by the thermal cutting machining machine 3, the conveyance means 27 takes up a machined product P, conveys it to a product pallet PL positioned at the lowermost step 13, puts this product pallet PL on the elevator 7, and rises to a desired shelf 5 to store the product pallet PL.例文帳に追加

一方、熱切断加工機３による熱切断加工が完了したら、搬送手段２７は加工された製品Ｐを取り上げて最下段１３に位置決めされている製品パレットＰＬに搬出し、この製品パレットＰＬをエレベータ７に載せて所望の棚５に上昇して、製品パレットＰＬを格納する。 - 特許庁

A plate line PL is connected to an end of the block and this plate line is driven by a plate line driver 16.例文帳に追加

ブロックの一端にプレート線ＰＬを接続し、このプレート線をプレート線ドライバ１６で駆動する。 - 特許庁

The amount of the liquid drop, for a single drop component of the liquid discharged from the head parts, is 0.01 to 600 pl.例文帳に追加

ヘッド部から吐出される前記液体の一滴分の液滴量は、０．０１〜６００ｐｌである。 - 特許庁

At least some of the components 2, 3 and 4 are powered via a supply line structure (PL).例文帳に追加

コンポーネント２，３，４の少なくとも幾つかは，供給線構造（ＰＬ）を介してエネルギーを供給される。 - 特許庁

Meanwhile, at a masking unit B a random mask pattern is used and masking is performed with respect to 5 pl dot data.例文帳に追加

一方、５ｐｌのドットデータについては、マスク処理Ｂでランダムマスクパターンを用いてマスク処理を行う。 - 特許庁

In regard to the operation of another one of the write-in and the erase, the polarity of the voltage between BL-PL is not inverted.例文帳に追加

また、書き込みと消去の他方に対応しては、ＢＬ−ＰＬ間電圧を極性反転しない。 - 特許庁

If Bp=1, bit planes up to PL bit plate are subjected to bit plane encoding (S610).例文帳に追加

一方Ｂｐ＝１の場合、ビットプレーンＰＬまでのビットプレーンに対してビットプレーン符号化を行う（Ｓ６１０）。 - 特許庁

The second overlay network PL is comprised of any of node devices capable of communicating according to the IPv6.例文帳に追加

また、第２オーバーレイネットワークＰＬは、ＩＰｖ６により通信可能なノード装置のいずれかから構成される。 - 特許庁

The other end PL of this strip 18 is positioned at an inner side of the end PT of the tread in a radial direction.例文帳に追加

このストリップ１８の他端ＰＬは、半径方向においてトレッド４の端ＰＴの内側に位置する。 - 特許庁

An aligner exposes the pattern of a mask (M) to a photosensitive substrate (W) via a projection optical system (PL).例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板（Ｗ）上に露光する露光装置。 - 特許庁

A PL portion 120 displays a Web page of an input image plane or the like on a display of a cellular phone 302.例文帳に追加

ＰＬ部１２０は、携帯電話３０２のディスプレイ上に入力画面等のＷｅｂページを表示する。 - 特許庁

This resistance change memory device includes: memory cells MC; bit lines BL; plate lines PL; a P well 100P; and a drive circuit.例文帳に追加

メモリセルＭＣと、ビット線ＢＬおよびプレート線ＰＬと、Ｐウェル１００Ｐと、駆動回路とを有する。 - 特許庁

In a lithographic apparatus, a localized area of a surface of a substrate under a projection system PL is immersed in liquid.例文帳に追加

投影システムＰＬ下の基板表面の局所的領域が液体に浸されるリソグラフィ装置。 - 特許庁

A label board 81 is arranged at the side of image surface of the projection optical system PL as an object to be inspected.例文帳に追加

被検査対象としての投影光学系ＰＬの像面側に標示板８１を配置する。 - 特許庁

The boundary BN is inclined to a direction vertical to one direction D1 in the main surface PL.例文帳に追加

境界ＢＮは主面ＰＬにおいて一の方向Ｄ１に垂直な方向に対して傾斜している。 - 特許庁

The liquid pattern PL is dried to form a dried pattern where the spacing retaining particles Is are scattered.例文帳に追加

液状パターンＰＬを乾燥させて間隔保持粒子Ｉｓが散在する乾燥パターンを形成する。 - 特許庁

The source electrode 24S is electrically connected with a reach through layer plug PL made of metal.例文帳に追加

このソース電極２４Ｓは、金属で形成されたリーチスルー層プラグＰＬに電気的に接続されている。 - 特許庁

The mold assembly 40 has a vacuum suction valve 20 mounted thereon in a posture along its parting surface PL.例文帳に追加

金型装置４０は、真空吸引バルブ２０をそのパーティング面ＰＬに沿った姿勢で装着している。 - 特許庁

In the lithographic apparatus, a local region on the surface of the substrate under a projection system PL is immersed in a liquid.例文帳に追加

投影システムＰＬ下の基板表面の局所的領域が液体に浸されるリソグラフィ装置。 - 特許庁

A PL part 120 displays a Web page of an input screen or the like on a display of a portable telephone 302.例文帳に追加

ＰＬ部１２０は、携帯電話３０２のディスプレイ上に入力画面等のＷｅｂページを表示する。 - 特許庁

The work W is laid on lipo-bases 49 positioned at the same height as a pass-line PL or lower and a working table.例文帳に追加

パスラインＰＬ以下の高さに位置するリポベース４９とワークテーブル上にワークＷを載置する。 - 特許庁

Thus, almost the entire polysilicon layer PL is inserted in the power source line 9 as the power source resistor R.例文帳に追加

これにより、ポリシリコン層ＰＬのほぼ全部が電源抵抗Ｒとして電源線９に挿入される。 - 特許庁

When the determination is positive, the PL insurance company (8) pays an insurance money to the insurance contractor (1).例文帳に追加

そして、判定が是の場合に該ＰＬ保険会社(8)が該保険契約者(1)に保険金の支払をする。 - 特許庁

A parallel flat board 47 is arranged capably of exchange between a projective optical system PL and a wafer W.例文帳に追加

投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に平行平面板４７を交換可能に配設する。 - 特許庁

A first optical element LS1 of the projection optical system PL has a concave surface 2 contacting with the liquid LQ.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの第１光学素子ＬＳ１は、液体ＬＱに接する凹面部２を有している。 - 特許庁

In this case, each of the reference signals C_n-1 to C_0 is a signal wherein a rectangular wave PL set in a prescribed time width Δτ is temporally distributed uniformly within the prescribed period Ts in a way that the rectangular wave PL is exclusively arranged at the same point of time to avoid production of the rectangular wave PL in duplicate.例文帳に追加

ここで、各基準信号Ｃ_ｎ−１〜Ｃ_０は、所定の時間幅Δτに設定された矩形波ＰＬを所定周期Ｔｓ内において時間的に均等に分散させた形状の信号とし、更に同じ時点で矩形波ＰＬが重複して生じることがないように排他的に配列させた信号とする。 - 特許庁

A plurality of security layer (SL) packets are multiplexed to a single physical layer (PL) packet, in order to improve the efficiency.例文帳に追加

複数のセキュリティ層（ＳＬ）パケットを効率性を高めるために単独のＰＬパケットに多重化する。 - 特許庁

The high land ratio regions Z continue by 20 to 35% of the length PL of the circumferential direction of the pattern pitch P.例文帳に追加

高ランド比領域Ｚは、パターンピッチＰの周方向長さＰＬの２０〜３５％で連続する。 - 特許庁

An image of a pattern is exposed to a substrate W on a projection optical system PL by use of a moving stage 40.例文帳に追加

移動ステージ４０を用いてパターンの像を投影光学系ＰＬにより基板Ｗに露光する。 - 特許庁

The exposure device exposes the substrate P by filling at least a part of space between a projection lens system PL and the substrate P with the liquid 50, and by projecting an image of the pattern on the substrate P through the projection lens system PL.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

In the vehicle having a pair of hydrostatic continuously variable transmissions formed of hydraulic pumps PL and PR and hydraulic motors, the two hydraulic pumps PL and PR are disposed in the longitudinal direction displacingly to one side of a vehicle body in the lateral direction.例文帳に追加

油圧ポンプＰＬ，ＰＲと油圧モータから成る一対の静油圧式無段変速装置を備えた車両において、前記２つの油圧ポンプＰＬ，ＰＲを車体左右一側に変位させて前後に配置する。 - 特許庁

An exposure device forms a liquid immersion region of liquid LQ between a projection optical system PL and a substrate P and exposes the substrate P via the projection optical system PL and the liquid LQ of the liquid immersion region.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

Since the piezoelectric element 18 can deliver and receive the liquid to and from the channel 14 with a resolution of 0.5 pl to 60 pl, precise handling of a molecule can be realized by the minute drive of the piezoelectric element 18.例文帳に追加

圧電体素子（１８）は０．５ｐｌ乃至６０ｐｌの分解能でチャネル（１４）へ送受液することができるため、圧電体素子（１８）の微細な駆動によって精密な精度で分子のハンドリングを実現することができる。 - 特許庁

An exposure device RX comprises an exhausting device S which exhausts the light-absorbing material having such characteristics as absorbs exposure light PL present in a space SP formed between a projection optical system PL and a photosensitized plate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと感光基板Ｐとの間に形成された空間ＳＰに存在する、露光光ＥＬを吸収する特性を有する吸光物質を排気する排気装置Ｓを備えている。 - 特許庁

In a liquid immersion lithography equipment, a transparent plate 12 is formed between a substrate table and a projection lens PL, thereby preventing the flow of liquid 10 and 11 that applies a force to the projection lens PL to distort the basic frame.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置において、基板テーブルと投影レンズとの間に透明プレートが設けられ、それにより、基準フレームを歪ませることになる力を投影レンズに付与している液体の流れを回避している。 - 特許庁

To revert the imaging characteristic of the projection optical system PL to an initial state, a plurality of predetermined aberrations of the projection optical system PL is measured and the lens elements 13_1, 13_2 are driven to correct the aberrations thereof.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの結像特性を初期状態に復帰させるために、投影光学系ＰＬの所定の複数の収差を計測し、これらの収差を補正するようにレンズエレメント１３_1 ，１３_2 を駆動する。 - 特許庁

An ink drop having an ejection volume of 5.0 pl is ejected from the ejection opening 25 of the first ejection opening group 50 and an ink drop having an ejection volume of 2.5 pl is ejected from the ejection opening 25 of the second ejection opening group 51.例文帳に追加

第１の吐出口群５０の吐出口２５からは５．０ｐｌの吐出体積のインク滴が吐出され、第２の吐出口群５１の吐出口２５からは、２．５ｐｌの吐出体積のインク滴が吐出される。 - 特許庁

Light from a light source 5 is guided to a TIR prism PR by an illumination optical system IL, and the light totally reflected by the prism PR is optically modulated by a DMD 2 and projected to a surface to be projected by a projection optical system PL.例文帳に追加

光源(5)からの光を照明光学系(IL)でＴＩＲプリズム(PR)に導き、ＴＩＲプリズム(PR)で全反射した光をＤＭＤ(2)で光変調し、投影光学系(PL)で被投影面上に投影する。 - 特許庁

A feed collection board 40 formed on the tip of the projecting optical system PL guides liquid w to a liquid collection device 28 together with liquid w filled between the projecting optical system PL and a wafer W.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの先端部に設けられた供給回収板４０は、投影光学系ＰＬとウェハＷとの間に液体ｗを導くとともに液体ｗを液体回収装置２８に導く。 - 特許庁

Upward oil pressure load F1 acting on the piston 33 on the left side becomes F1= PH x B-PL x A, and downward oil pressure load F2 acting on the piston 33 on the right side becomes F2= PH x A-PL x B.例文帳に追加

左側のピストン３３に作用する上向きの油圧荷重Ｆ１は、Ｆ１＝ＰＨ×Ｂ−ＰＬ×Ａとなり、右側のピストン３３に作用する下向きの油圧荷重Ｆ２は、Ｆ２＝ＰＨ×Ａ−ＰＬ×Ｂとなる。 - 特許庁

The drum-shape is molded by making the parting line PL of injection molding metallic molds 60 and 62 the center being the largest diameter part of the roller 36 and subsequently, mold flashes 36' projecting to the line PL are eliminated.例文帳に追加

射出成形金型６０，６２のパーティングラインＰＬをガイドローラ３６の最大径部である中央とすることにより太鼓状に成形し、その後パーティングラインＰＬに突出する成形バリ３６'を除去する。 - 特許庁

The carrying auxiliary roller 32 is provided at a position where the paper discharged from a paper feeding device 102 joins with a vertical carrying part of the paper carrying passage PL, namely a position changing a direction of the paper carrying passage PL.例文帳に追加

搬送補助ローラ３２は、給紙装置１０２から排出された用紙が、用紙搬送路ＰＬの垂直搬送部分に合流するような箇所、すなわち用紙搬送路ＰＬの方向転換箇所に設けられている。 - 特許庁

A closed area forming member which forms a closed area 54 for polishing is accurately mated with the die 50 in cooperation with a forming surface 56 so that a boundary edge between the forming surface 56 and a PL surface may not appear in a PL vertical direction.例文帳に追加

成形面５６と協働して研磨用閉空間５４を形成する閉空間形成部材を、成形面５６とＰＬ面との境界縁がＰＬ面直方向に現れないように、正確に金型５０に合わせる。 - 特許庁

The four chambers (2, PL, 15, and 40) are positioned in the light path of the exposure light between a light source and the substrate.例文帳に追加

４つの部屋（２、ＰＬ、１５、４０）は、いずれも光源と基板との間の露光光の光路上に位置する。 - 特許庁