PLを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1020件
Switches S1, S2, and S3 of the DC device connector are set, and a DC voltage from the power feeding system is supplied to a capacitor C1 and a capacitor C2 in the DC device through a charging state detecting means composed of a pilot lamp PL and a resistor R1.例文帳に追加
そして直流装置接続器の各スイッチS1、S2、S3を設定して、給電系からの直流電圧を、パイロットランプPLと抵抗R1からなる充電状態検出手段を通じてコンデンサC1及び直流装置内のコンデンサC2に供給する。 - 特許庁
An aligner includes the lighting system for lighting a mask (R) from below, a mask stage (RST) for holding the mask (R) below a projecting optical system (PL), and a substrate stage (WST) for holding the substrate (W) above the projection optical system (PL) and two-dimensionally moving the substrate (W).例文帳に追加
マスクRを下方から照明する照明系14と、マスクRを投影光学系PLの下方で水平に保持するマスクステージRSTと、投影光学系PLの上方で基板Wを水平に保持して2次元移動する基板ステージWSTとを備える。 - 特許庁
When variation in the system frequency occurs, a deriving part 78 derives a compensated PL ratio planned value compensated by using a compensation amount corresponding to the CLCSO on the basis of a normal PL ratio planned value that is the planned value of the pilot ratio corresponding to the CLCSO.例文帳に追加
そして、導出部78が、系統周波数に変動が生じた場合に、CLCSOに応じたパイロット比の計画値である通常PL比計画値に基づいて、CLCSOに応じた補償量を用いて補償した補償PL比計画値を導出する。 - 特許庁
An interferometer device 3 produces measuring light and reference light from light emitted from a light source 1 by a reference lens 37, puts the measuring light produced through a projection optical system PL (photo luminescence) into inerference with the reference light, and inspects the optical performance of the projection optical system PL.例文帳に追加
干渉計装置3は、基準レンズ37により光源1から射出される光から、測定光及び参照光を生成し、投影光学系PLを介した測定光と参照光とを干渉させて投影光学系PLの光学性能を検査する。 - 特許庁
When the pressure difference (Pp'-PL) between in front and rear of the steering flow control valve 4 is quickly reduced, a flow control valve 6 is energized by spring force of a spring 6f to quickly move toward a valve position 6b in order to increase the pressure difference (Pp'-PL) in front and rear to make it coincide with a set pressure.例文帳に追加
ステアリング用流量制御弁4の前後差圧(Pp′−PL)が急激に小さくなると、フローコントロール弁6は、前後差圧(Pp′−PL)を大きくして設定圧に一致させるべく、バネ6fのバネ力によって付勢されて弁位置6b側に迅速に移動する。 - 特許庁
A gate-forming flow passage 31 of a movable die 9 is formed inward of a parting line PL of the movable die 9 and used as a submarine gate 24.例文帳に追加
可動型9のゲート形成流路31を、可動型9のパーティングラインPLよりも内側に形成し、サブマリンゲート24とする。 - 特許庁
To more effectively suppress a distortion of the PL surface of a mold by the internal pressure of a cavity by devising how to apply a mold clamping force.例文帳に追加
型締め力のかけ方を工夫することにより、キャビティ内圧力で金型PL面が歪むことをより効果的に抑える。 - 特許庁
Lower plate pressing pins 51 freely elevated/lowered in the lipo-bases 49, are projected upward from the pass-line PL with lower plate pressing cylinders 53.例文帳に追加
リポベース49内に昇降自在な下部板押えピン51が下部板押えシリンダ53によりパスラインPLから上方へ突出する。 - 特許庁
Lastly, the non-aqueous ink is discharged on the recording sheet in quantity V_d(pl/m^2) satisfying the condition of formula (V_d≤V_I) by the inkjet method.例文帳に追加
最後に、非水系インクを、数式(V_d≦V_I)の条件を満たす量V_d(pl/m^2)で、インクジェット法により前記記録用紙に吐出する。 - 特許庁
The heat transport system HT-PL/HT-MF is joined to another frame mechanically separated from the reference frame.例文帳に追加
熱輸送システムHT−PL及びHT−MFは、基準フレームMFから機械的に分離されたもう1つのフレームに結合されている。 - 特許庁
A power control module (PCM) 20 for controlling an engine is connected via an electric power line 22, which is different from the electric power line PL.例文帳に追加
エンジンを制御するパワー・コントロール・モジュール(PCM)20は、電源線PLとは異なる電源線22を介して接続されている。 - 特許庁
A printing plate PL on which a stripe-like pattern to be transferred to a substrate is formed is attached to the outer circumferential surface of the plate cylinder 14.例文帳に追加
版胴14の外周面には基板に転写するためのストライプ状のパターンが形成された印刷版PLが装着される。 - 特許庁
For this model MD6, a parting line PL becomes a position which divides a mold into cavity direction KH1 and standard sliding direction KH3.例文帳に追加
このモデルMD6の場合、バーティングラインPLは、金型をキャビティ方向KH1と標準スライド方向KH3とに分ける位置となる。 - 特許庁
Framing of PL includes adding a frame header, selectively inserting a pilot symbol, and scrambling or randomizing a frame body.例文帳に追加
PLのフレーム化はフレームヘッダーの追加、パイロットシンボルの取捨選択の可能な挿入、およびフレームボディのスクランブル化またはランダム化を含む。 - 特許庁
The light source 32 with a built-in xenon lamp emits irradiation light PL of non-uniform brightness toward a first condenser lens 40.例文帳に追加
キセノンランプを内蔵した光源32は、第1集光レンズ40に向けて、明るさが均一ではない照射光PLを照射する。 - 特許庁
The ON-OFF solenoid (SL1) 204 is changed over between an opened condition and a closed condition to abruptly change the line pressure PL.例文帳に追加
ON−OFFソレノイド(SL1)204の開状態と閉状態とを切り換えることで、ライン圧PLの急速な変更が可能になる。 - 特許庁
Transmission delay of extent which cannot be neglected are caused many times in a plate line PL owing to large wiring resistance RP and parasitic capacitance CP.例文帳に追加
配線抵抗R_Pや寄生容量C_Pが大きいため、プレート線PLは無視できないほどの伝搬遅延が生じることが多い。 - 特許庁
The die sleeve 125 is normally lower, so the upper surface of the die D is located lower than a pass line PL and a work is free from rear side flaws.例文帳に追加
ダイスリーブ125が常時下降されているので、ダイDの上面はパスラインPLの下方に位置できワークに裏傷が付かない。 - 特許庁
A contact CNA for supplying the word lines WS1 and the gate electrodes GT with a voltage is formed to the conductive wiring PL.例文帳に追加
導電配線PLには、ワード線WS1及びゲート電極GTに電圧を供給するためのコンタクトCNAが形成される。 - 特許庁
A heat-adjusting system, which heat-adjusts the projection lens supporter LS supporting the projection lens PL, is located on the reference frame MF.例文帳に追加
基準フレームMF上に投影レンズPLを支持する投影レンズ支持体LSを熱調節するための熱調節システムが設けてある。 - 特許庁
The optical device PL is equipped with empty spaces 250 to 254 which are formed on the optical path of an energy beam IL and supplied with a prescribed gas.例文帳に追加
光学装置PLは、エネルギービームILの光路上に形成されかつ所定のガスが供給される空間250〜254を有する。 - 特許庁
A driving waveform 10 has the maximum driving frequency for stable jetting of 7,500 (Hz), and the jetting ink droplet volume of 60 pl.例文帳に追加
駆動波形10は安定に噴射できる最高駆動周波数が7500(Hz)であり、噴射インク滴体積は60plである。 - 特許庁
To combine variable-length packets for HRPD (High Rate Packet Data) communication into one physical layer (PL) packet for efficient packet transmission.例文帳に追加
HRPD通信のための可変長パケットを一つの物理層(PL)パケットに結合して効率の良いパケット送信を提供する。 - 特許庁
Each data line DL and each preset line PL are connected respectively to TFT 14As of a corresponding column and TFT 14Bs of a corresponding column.例文帳に追加
データラインDLを対応する列のTFT14Aに、プリセットラインPLを対応する列のTFT14Bに、それぞれ接続する。 - 特許庁
A protrusion 100 is prepared on a barrier member 10 at least partially confining the liquid between the projection system PL and the substrate W.例文帳に追加
投影システムPLと基板Wの間に少なくとも部分的に液体を閉じ込めるバリア部材10に、突出体100を設けた。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resin molding in which the molding having an undercut can be inexpensively molded without forming a PL.例文帳に追加
アンダーカットのある樹脂成形品を、PLが形成されず且つ低コストで成形できる樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
A delay measurement section (CPU) 16 inputs a pulse signal PL to a speaker 11 and the speaker sounds sound in response to the pulse in space.例文帳に追加
遅延時間測定部(CPU)16はパルス信号PLをスピーカ11に入力し、スピーカは該パルスに応じた音を空間に放射する。 - 特許庁
An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.例文帳に追加
露光装置EXは、投影光学系PLと液体1とを介してパターン像を基板P上に投影することによって基板Pを露光するものであって、投影光学系PLと基板Pとの間へ液体1を供給する液体供給機構10を備えている。 - 特許庁
According to modulation data in the playing data, a modulating mechanism part MOD is driven and a buffer member 37 abuts on and separates from the resonance plate PL with strength corresponding to the level (pulse width) of the driving current to control the vibration state of the resonance plate PL, thereby imparting the effect of modulation etc.例文帳に追加
また、演奏データ中のモジュレーションデータに基づいて変調機構部MODが駆動され、駆動電流の強さ(パルス幅)に応じた強さで緩衝部材37が共鳴プレートPLに接離することで、共鳴プレートPLの振動状態が制御され、変調等の効果が付与される。 - 特許庁
Further, by making the number of fourth concave parts 20d in the second supplementary line Ls2 larger than that of third concave parts 20c in a second main line Lm2 in a second area AR2, the projection light PL can be prevented from being shielded by protrusions even when the incident angle of the projection light PL becomes large.例文帳に追加
また、第2領域AR2において、第2基本列Lm2の第3凹部20cよりも第2補助列Ls2の第4凹部20dの個数を多くすることにより、投射光PLの入射角が大きくなっても、投射光PLが突起で遮られることを抑制できる。 - 特許庁
Furthermore, in a second film forming step, a light-absorbing film AM is formed, taking into consideration entering of the projection light PL and entering of an external light OL, it becomes possible to efficiently reflect the projection light PL and prevent the reflection of the external light OL by the reflecting film RM.例文帳に追加
また、第2成膜工程において、投射光PLの入射と外光OLの入射とを考慮して光吸収膜AMを形成しているので、効率的な投射光PLの反射を行うとともに、反射膜RMにおける外光OLの反射を抑制するものにもなっている。 - 特許庁
The inside of a plating tank 1 is divided into a plating chamber 6 and two anode chambers 7 by two screens 5, so that, even if a convection current is produced on a plating liquid PL in the plating chamber 6 by the rotation of a barrel 8, its influence is hard to be exerted on a plating liquid PL in the two anode chambers 7.例文帳に追加
2つのスクリーン5によってメッキ槽1内が1つのメッキ室6と2つのアノード室7とに区画されているので、バレル8の回転によってメッキ室6内のメッキ液PLに対流が生じてもその影響が2つのアノード室7内のメッキ液PLには及び難い。 - 特許庁
The trace V of the parting line PL is located on the side surface side of the container beyond the grounding part 24 at the bottom 23 of the molded container when the preform 10 having the parting line PL formed in the outer side surface along the circumferential direction is molded into a predetermined container shape by blow molding.例文帳に追加
外側面に周方向に沿ってパーティングラインPLが形成されたプリフォーム10をブロー成形によって所定の容器形状に成形するにあたり、当該パーティングラインPLの痕跡Vを、成形された容器底部23の接地部位24を越えた容器側面側に位置させる。 - 特許庁
A duct body 3 and 4 is structured to accommodate wirings, such as power lines PL and communication lines SL, is installed with the duct body, being supported on a ceiling Ce of an office room or the like, and the duct bodies 3 and 4 are provided with an installation space Fs for detachably installing screens RS and partitioning panels SP and BP.例文帳に追加
オフィスなどの室内の天井Ceに支持させて、電源線PLや通信線SLなどの配線を収容できる構造を具備したダクト体3,4を配設すると共に、該ダクト体3,4に、スクリーンRSや間仕切パネルSP,BPなどを着脱可能に取付けるための取付スペースFsを形成したこと。 - 特許庁
A liquid w is supplied to a location between a projection optical system PL and the plano-convex lens 41, and an exposing light, among exposing lights incident to the liquid w from the projection optical system PL, incident to the light transmitting portion 44 is entered into the plano-convex lens 41 and converged without passing through gas.例文帳に追加
投影光学系PLと平凸レンズ41との間には液体wが供給され、投影光学系PLから液体wに入射した露光光のうち、光透過部44に入射した露光光は、気体中を通過せずに平凸レンズ41に入射して収束される。 - 特許庁
In the server system, a PL (presentation) server (group) 100 and a restriction management part 500 connected to the PL server 100 manage the current or previous number N of logins and an upper limit H for the number N of logins concerning a plurality of sessions in a plurality of channels between a plurality of users and client terminals.例文帳に追加
本サーバシステムにおいて、PLサーバ(群)100及びそれに接続される制限管理部500では、複数のユーザのクライアント端末との間の複数のチャネルでの複数のセッションに関する、現在または直近のログイン数Nと、当該ログイン数Nに関する上限値Hとを管理する。 - 特許庁
Thus, the fresh plating liquid PL can be always fed to a workpiece W rotating together with the vessel 4 in a state of being closely stuck to the inner face of the cylindrical part 4b, thereby preventing the increase in temperature and the promotion of oxidation or the like in the plating liquid PL within the vessel 4.例文帳に追加
依って、円筒状部4bの内面に密着した状態で容器4と一緒に回転するワークWには常に新鮮なメッキ液PLを供給することができ、容器4内のメッキ液PLに温度上昇や酸化促進等が生じることを防止できる。 - 特許庁
The abutting member 91 is set so that the long piece is set vertically in use for allowing contact of an end edge PL of paper P, while in out of use, the long piece direction is changed to the lateral direction so as to be displaced from the using position, so that the end edge PL is prevented from being hooked.例文帳に追加
突き当て部材91は、使用時に長片の向きが上下方向となるように設定されて用紙Pの端縁PLを接触可能とする一方、非使用時に、長片の向きを横方向にして使用位置から変位して前記端縁PLの引っ掛かかりを回避する。 - 特許庁
Difference in display inclined angle and display height of the attitude display objects OBJ when they are installed on the same plane is calibrated, so that, when they are installed on the measuring object plane PL, the local inclination and height of the measuring object plane PL on which the attitude indicator objects OBJ are placed can be read.例文帳に追加
姿勢表示物体OBJは、同一の面に設置した時の表示傾斜角度および表示高さの違いが校正されているため、それらを被測定面PL上に配置すると、姿勢表示物体OBJが置かれた被測定面PLの極所的な傾斜と高さが読み取れる。 - 特許庁
When a transfer surface PL is defined by two transfer positions where monochromatic images formed on adjacent image carriers are transferred to the transfer material, at least a part of the transfer material pressing roller 224 projects up to a control position that is closer to the rotational center axis of the image carrier than the transfer surface PL.例文帳に追加
隣接する像担持体に形成された単色画像が転写材に転写される、二つの転写位置によって転写面PLが定義されたとき、転写材押さえローラ224の少なくとも一部が、転写面PLよりも像担持体の回転中心軸に近い規制位置まで突出している。 - 特許庁
To maintain the production efficiency of a PC as a whole by limiting the water content of byproduct PL produced in the PC production process as a method for dealing with byproduct phenol to maintain the production efficiency of a BPA production process and DPC production process where the byproduct PL is returned.例文帳に追加
副生フェノールの対処法として、PC製造工程において生じる副生PLの含水率を所定範囲内に限定することにより、送られるBPA製造工程及びDPC製造工程での製造効率を保持し、全体として、PCの製造効率を保持することを目的とする。 - 特許庁
A variance check and a linearity check are performed from adjacent left and right partial pictures PL and PR, and first and second marks are selected.例文帳に追加
隣り合う左の部分画PLと右の部分画PRからバリアンス調査、直線性調査が行われ、第1マーク、第2マークが選定される。 - 特許庁
A mask M is illuminated with linearly polarized illumination light to transfer a pattern of the mask M onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加
直線偏光の照明光でマスクMを照明し、マスクMのパターンを投影光学系PLを介してウエハW上に転写する。 - 特許庁
By generating an original pressure of the control valve 62 as an always existing line pressure PL of a circuit 90, an N-D select shock is reduced without delay.例文帳に追加
コントロールバルブ62の元圧を、常時存在する回路90のライン圧P_L とすることでN−Dセレクトショック軽減を遅滞なく行わせる。 - 特許庁
The first nozzle member 70 is formed to have an annular shape to surround a first optical element LS1 which is closest to the image plane of a projection optical system PL.例文帳に追加
ノズル部材70は投影光学系PLの像面に最も近い第1光学素子LS1を囲むように環状に形成される。 - 特許庁
Then, it is determined whether the PL wavelength is good or not, and wafers meeting with predetermined standards are put into the wafer process to perform wafer process processing.例文帳に追加
そしてPL波長の良否判定を行い、所定の規格を満たすウェハをウェハプロセスに投入し、ウェハプロセス加工を行うようにする。 - 特許庁
Next, with the use of corrected DP', Ec' and Rp', the optimum conditions of laser power PL, a beam radius Wf and a scanning speed V are calculated (S204).例文帳に追加
次に、補正したDP’、Ec’及びRp’を用いて、レーザパワーPL、ビーム半径Wf、スキャン速度Vの最適条件の算出を行う(S204)。 - 特許庁
Masking processing is performed with respect to 2 pl dot data obtained from the dot pattern development unit 604 by using an interlaced mask pattern at a masking unit A.例文帳に追加
ドットパターン展開部604で得られる2plのドットデータについては、マスク処理部Aでインターレースマスクパターンを用いてマスク処理を行う。 - 特許庁
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