「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

In the magnetic recording medium, a thin film first magnetic layer and a patterned second magnetic layer are continuously provided in a multiple magnetic layer so as to improve the recording density of the recording medium.例文帳に追加

磁気記録メディアの記録密度を向上させるために、薄膜形状の第１磁性層とパターン形状の第２磁性層とが連続して多重磁性層に構成される磁気記録メディアである。 - 特許庁

Then filter films 25R, 25G, 25B for transmitting only specific light out of light components received from a light source are respectively formed on the light transmitting film 21 exposed from the lower part of the patterned light shielding film 23.例文帳に追加

その後、このパターニングされた遮光膜２３下から露出した光透過膜２１上に、光源から受けた光のうち特定の光だけを透過させるフィルタ膜２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂをそれぞれ形成する。 - 特許庁

To obtain a Zener diode in which Zener zapping can be performed stably even when an epitaxial layer is made thin or elements are patterned finely and a semiconductor device having such a Zener diode.例文帳に追加

エピタキシャル層の厚さを薄くしたり、素子を微細化した場合でも安定してツェナーザッピングを行うことができるツェナーダイオードおよびこのようなツェナーダイオードを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate manufacturing method capable of suppressing a metal residue from occurring during etching processing and acquiring a laminate having a plating film including patterned copper excellent in linearity and adhesion.例文帳に追加

エッチング処理時における金属残渣の発生が抑制されると共に、直線性、および、密着性に優れるパターン状銅含有めっき膜を有する積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

At least one organic EL layer constituting an EL element is patterned by a photo lithography method.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In one embodiment, a photosensitive cladding layer is exposed by chemical rays that transmit a first gray scale mask, is patterned, thereafter, is developed to define a groove having the curved major bottom surface within a layer.例文帳に追加

一実施例では、感光性クラッディング層が、第１グレースケールマスクを通過した化学線にさらされてパターニングされ、その後に現像され、湾曲した主底面を有する溝を層内に規定する。 - 特許庁

The insulating film 6 and the conductive film 5 are sequentially etched as a resist pattern 7 as a mask, a patterned insulating film 8 and the laminate of a gate electrode 9 of the high breakdown voltage transistor are formed.例文帳に追加

レジストパターン７をマスクとして絶縁膜６および導電膜５が順次エッチングされ、パターニングされた絶縁膜８および高耐圧トランジスタのゲート電極９の積層体が形成される。 - 特許庁

Then, the polycrystalline silicon film is patterned, a booster plate 22 is formed, and an etching stop layer 22a is formed on the upper face of each diffused layer region 16b of the drain side selection gate 16A.例文帳に追加

そして、その多結晶シリコン膜をパターニングして、ブースタープレート２２を形成するとともに、ドレイン側選択ゲート１６Ａの各拡散層領域１６ｂの上面にエッチングストップ層２２ａを形成する。 - 特許庁

Afterwards, a gate oxide film 8 is formed on the main surface side of the semiconductor layer 3, a polysilicon film is deposited on the gate oxide film 8, and a patterned gate electrode 9 is formed by utilizing a mask (Figure 1 (b)).例文帳に追加

その後、半導体層３の主表面側にゲート酸化膜８を形成し、ゲート酸化膜８上にポリシリコン膜を堆積させ、マスクを利用しパターニングされたゲート電極９を形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁

A patterning device for the mask etc., used for a photolithographic apparatus includes a blank layer, a layer of patterned opaque materials existing on the surface of the blank layer and a pellicle of perfluoropolyether (PFPE) liquid covering the surface.例文帳に追加

フォトリソグラフィ装置に使用するマスクなどのパターニング・デバイスは、素材層と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクルとを含む。 - 特許庁

A plurality of circuit components 3, 4 are mounted on the dielectric substrate 2, and connected by using many transmission lines 5 different in length which are patterned and formed on the substrate 2.例文帳に追加

誘電体基板２に複数の回路部品３，４を実装するとともに、これらが誘電体基板２にパターン形成された線路長を異にする多数の伝送線路５によって接続されてなる。 - 特許庁

When a patterned thin film is formed using a photoresist method; one surface of the thin film 200 before the patterning is treated by a treating solution 300 containing lactate, and then a photoresist mask is formed.例文帳に追加

フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a resin composition for producing artificial marble which does not necessitate reinforcement with glass fibers nor reinforcement on the back, is patterned and has a high impact strength.例文帳に追加

ガラス繊維による補強や裏面補強を行なうような必要なく、柄材入りで且つ耐衝撃強度が高い人造大理石を製造することができる人造大理石製造用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After a thin film layer 14 having a predetermined shape is deposited on the ceramic layer 12 by using a focused ion beam system, the ceramic layer 12 is patterned by etching using the thin film layer 14 as a mask.例文帳に追加

このセラミック層１２上に、集束イオンビーム装置を用いて所定形状の薄膜層１４を堆積した後、この薄膜層１４をマスクとして、エッチングによりセラミック層１２をパターニングする。 - 特許庁

The method for knitting the patterned knitted fabric comprises changing the tension applied to the fed knitting yarn with a tension-changing device 30 during the knitting operation, thus forming the pattern comprising loop length-different portions in the knitted fabric.例文帳に追加

その編成方法は、張力変動装置３０により編成中に編糸Ｙの給糸張力を変動させることによって、ループ長の異なる部分からなる柄を編地に形成するものである。 - 特許庁

Thus, the tapered shape of the side face (metal etching shape) of the patterned metal wiring 14 is intensified (the slope of the side face becomes gentle), and thereby the thickness of a passivation protective film covering the bent part 16 is increased.例文帳に追加

これにより、パターニングされた金属配線１４の側面（メタルエッチング形状）もテーパー形状が強くなる（側面が寝てくる）ため、屈曲部１６を覆うパッシベーション保護膜の膜厚が厚くなる。 - 特許庁

To provide an electrochromic composition which has favorable handleability and can be patterned by various coating methods, and an electrochromic element using the composition which is superior in productivity and free from liquid leakage.例文帳に追加

ハンドリング性が良好であり、様々な塗布法によるパターン形成が可能なエレクトロクロミック組成物及びこの組成物を用いた生産性に優れた漏液の少ないエレクトロクロミック素子を提供する。 - 特許庁

To provide a laser scribing device determining whether a laminated film of a solar cell substrate has been patterned to a predetermined pattern even in a production line with a reliable and simple structure.例文帳に追加

太陽電池基板の積層膜を所定パターンにパターニングできたかどうかを、ライン工程においても確実かつ簡単な構造で判定することができる、レーザースクライブ装置を提供することにある。 - 特許庁

This geometrically patterned core 10 is manufactured first by preparing a flexible and elastic inserting body with the honeycomb structure which is used for ordinary compression molding metal molds.例文帳に追加

幾何学的な形状を有するコア（１０）は、最初に、通常の圧縮成型金型（３０）で使用される可撓性を有し、弾力性のあるハニカム構造の挿入体（４２）を用意することにより製造される。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming minute projections of uniform height on a flexible substrate, the minute projections capable of being used for spacers for a liquid crystal display or the like and capable of being accurately patterned.例文帳に追加

液晶表示用スペーサーなどに用いることが可能で、精度よくパターニングでき、高さが均一に揃った微小突起物を可撓性基材上に形成する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a color filter for a transflective color liquid crystal display device, of which the film thickness is reduced and which is finely patterned and which has an adequate light scattering function.例文帳に追加

本発明は、薄膜化および微細なパターニングが可能であり、かつ充分な光散乱機能を有する半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a good showing transparent conductive film with a patterned transparent conductive layer, for suppressing a dissimilarity between a pattern portion and a pattern opening portion, and to provide a touch panel using the same.例文帳に追加

透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部との相違が抑制され、見栄えの良好な透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁

The metal thin film, semiconductor film, and second insulating film are patterned, based on the same pattern until the first insulating film is exposed, to form a signal wire, a source electrode, and a drain electrode.例文帳に追加

上記金属薄膜、半導体膜、および第２絶縁膜を同一パターンに基づいて第１絶縁膜が露出するまでパターニングして信号線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁

After bonding, the sapphire growth substrate is removed by the substrate removing technology, and the InAlGaN layer is patterned and etched and a current injection type light emitting element is completed.例文帳に追加

ボンディングの後、サファイア成長基板（３０）は、基板除去技術を使って除去され、その後それらのＩｎＡｌＧａＮ層がパターニング及びエッチングされて電流注入型発光素子が完成する。 - 特許庁

Particularly, in a case where the electrode is formed by being patterned by a screen printing method, the defects of breaking or thinning are reduced, and the electrode having the lead part having the edge having satisfactory linearity can be provided.例文帳に追加

特に、電極をスクリーン印刷法でパターニングして形成する場合には、断線や細りなどの欠陥が減少するとともに、エッジの直線性の良好なリード部を有する電極を得ることができる。 - 特許庁

The method for knitting the patterned knitted fabric, characterized by changing the tension applied to the fed knitting yarn with a tension-changing device 30 during the knitting operation, thus forming the pattern comprising loop length-different portions in the knitted fabric.例文帳に追加

その編成方法は、張力変動装置３０により編成中に給糸張力を変動させることによって、ループ長の異なる部分からなる柄を編地に形成するものである。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

A lithography apparatus comprises a masking device for covering at least a part of patterning means used for patterning a projected beam, before image formation of a patterned beam is performed on a substrate.例文帳に追加

パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

To provide a connector which has minutely and complex patterned wiring parts and with which required electrical characteristics can be accomplished and provide its manufacturing method and a circuit device inspecting adaptor device equipped with the connector.例文帳に追加

微細で複雑なパターンの配線部を有し、所要の電気的特性が達成されるコネクターおよびその製造方法並びにこのコネクターを具えた回路装置検査用アダプター装置を提供すること。 - 特許庁

The cell gate-insulating film 14 is patterned to leave the film 14 on a first region of a cell array region a and expose a second region of a cell array region a and a peripheral circuit region b.例文帳に追加

セルゲート絶縁膜１４をパターニングしてセルアレイ領域ａの第１領域上にセルゲート絶縁膜１４を残して、セルアレイ領域ａの第２領域及び周辺回路領域ｂを露出させる。 - 特許庁

The signal is inputted to the amplifying circuit not through any capacitor, so the waveform has no variation even if a difference in continuance between its low and high level is present, thereby the striped patterned flicker of video is eliminated.例文帳に追加

信号はコンデンサを介さずに増幅回路に入力されるので、ローレベルとハイレベルの継続時間に差があっても波形の変化は発生せず、映像の縞模様やチラツキを解消できる。 - 特許庁

In the circuit unit 12, for example, five circuit boards 19 are stacked; and a patterned foil circuit 21 is placed on a resin plate 20 molded by, for example, injection molding, on each circuit board 19.例文帳に追加

回路ユニット１２は例えば５枚の回路基板１９が積層され、各回路基板１９は例えば射出成型により成型された樹脂プレート２０上に、パターンの箔回路２１が載置されている。 - 特許庁

A thermally assisted recording (TAR) bit patterned media (BPM) magnetic recording disk drive utilizes optical detection of a synchronization field for write synchronization and optical detection of the servo sector for read/write head positioning.例文帳に追加

熱アシスト記録（ＴＡＲ）ビットパターンメディア（ＢＰＭ）磁気記録ディスクドライブは、書き込み同期のための同期フィールドの光検出と、読み込み／書き込みヘッド位置決め用サーボセクタの光検出を利用する。 - 特許庁

The result is a superconducting wire rod which includes a magnesium diboride-containing superconducting core and a metal tube covering the superconducting core, the superconducting core in its cross section having mesh-patterned voids extending in the lengthwise direction.例文帳に追加

二ホウ化マグネシウムを含む超電導芯と、前記超電導芯を覆う金属管とを有し、超電導芯は断面に長手方向に伸びる網目状のボイドを有する超電導線材となる。 - 特許庁

This method of manufacturing electrical machines which comprises geometrically patterned arrays of permanent magnets, soft magnetic materials, and electrical conductors deposited by kinetic spraying methods directly on a carrier 24.例文帳に追加

運動噴霧法によりキャリアー24の上に直接堆積させられる、永久磁石、軟質磁性材料及び導電体の、幾何学的にパターン印刷された配列からなる、電気機械を製造する方法である。 - 特許庁

A patterned first polycrystalline silicon 102 is formed on a first silicon oxide film 101 formed on a semiconductor substrate 100, and the surface thereof is covered by a second silicon oxide film 103.例文帳に追加

半導体基板１００上に形成された第１のシリコン酸化膜１０１上に、パターニングされた第１の多結晶シリコン１０２が形成され、表面を第２のシリコン酸化膜１０３により覆われている。 - 特許庁

Then the second polycrystal semiconductor film 33 is patterned to form a collector leadout electrode 34, an emitter electrode 35, a gate electrode 36, and LDD source / drain regions 37, 38, 40, 41.例文帳に追加

次に第２多結晶半導体膜３３をパターニングしてコレクタ引出し電極３４、エミッタ電極３５及びゲート電極部３６を形成し、ＬＤＤソース／ドレイン領域３７、３８、４０、４１を形成。 - 特許庁

This patterned knitted fabric characterized by having a pattern comprising loop length-different portions obtained by changing a feeding tension applied to a knitting yarn Y fed from a yarn guide 5 to a knitting needle 3.例文帳に追加

本発明の柄付き編地は、糸ガイド５から編針３に供給される編糸Ｙにかける給糸張力を変動させて得られたループ長の異なる部分からなる柄を有するものである。 - 特許庁

In the second etching process, a resist film is formed to cover the upper and the side surfaces of the second and the third conductive wiring layers which have already been patterned in the first etching process.例文帳に追加

第２のエッチング工程では、第１のエッチング工程においてすでにパターニングされた第２及び第３の導電性配線層の上面及び側面を被覆するようにレジスト膜が形成される。 - 特許庁

The patternwise exposed resist film is developed with an alkaline developer and rinsed with pure water and an organic solvent 14 is substituted for the pure water to form a patterned resist film 11A.例文帳に追加

パターン露光されたレジスト膜に対して、アルカリ性現像液による現像、純水によるリンス、及び純水と有機溶剤１４との置換を順次行なって、パターン化されたレジスト膜１１Ａを形成する。 - 特許庁

Next, the thin polycrystal silicon film is patterned to form a semiconductor layer, and a gate insulating film is formed to cover the semiconductor layer, then a gate electrode is formed on the gate insulating film.例文帳に追加

次に、多結晶シリコン薄膜をパターニングして半導体層を形成し、半導体層を覆うゲート絶縁膜を形成した後、半導体層のゲート絶縁膜の上にゲート電極を形成する。 - 特許庁

Next, a predetermined resist is formed on an electrode film 113 from which the substrate 111 for film formation is removed, the electrode film 113 is patterned to form the upper electrode 103 (the figure 3B, the process j).例文帳に追加

次に、成膜用基板１１１が除去された電極膜１１３上に所定のレジストを形成し、この電極膜１１３をパターニングして、上部電極１０３を形成する（図３Ｂ、工程ｊ）。 - 特許庁

The diode part 3 of the P+ type region 10 is then irradiated with laser light and patterned by laser annealing thus forming an N+ type region 13 selectively in the P+ type region 10 (Fig. 3(c)).例文帳に追加

そして、Ｐ＋型領域１０のうちダイオード部３にレーザ光を照射してレーザアニールすることによりパターニングし、Ｐ＋型領域１０にＮ＋型領域１３を選択的に形成する（図３（ｃ））。 - 特許庁

Then, the Al film is patterned by press working using a die, the contour of the antenna 3 is formed, and the excessive Al film in a part around the antenna 3 is removed, thereby forming the antenna 3.例文帳に追加

その後、金型を用いたプレス加工によりＡｌ膜をパターニングしてアンテナ３の輪郭を形成した後、アンテナ３の周囲となる部分の余分なＡｌ膜を除去することによってアンテナ３を形成する。 - 特許庁