Patternedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3854件
To obtain an etched product which retains flexibility fit for conveyance by a reel-to-reel system and has stabilized etching sizes and shapes of holes, etc., without impairing the flexibility a patterned resin layer mask when a photosensitive resin layer formed on the surface of a polyimide film is irradiated with UV through a photomask and developed to form the patterned resin layer mask and the polyimide film is etched with an alkaline solution.例文帳に追加
ポリイミドフィルム面上に形成された感光性樹脂層に、フォトマスクを用いて紫外線を照射し、かつ、現像して樹脂層パターンマスクを形成した後、アルカリ性液でポリイミドフィルムをエッチングする場合において、樹脂層パターンマスクの可撓性を損わないでリールツーリール方式の搬送等に適した可撓性を保持し、しかも、穴等のエッチング寸法及び形状が安定化したエッチング製品を得ることができるようにする。 - 特許庁
To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.例文帳に追加
細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁
This lithography system projects a patterned radiation beam on the target of a substrate containing a radiation photosensitive layer by a radiation source, a patterning structure and a projection system is provided with a gas flashing system for supplying air from a region between the projection system and the substrate in order to remove gas spread from the target section while the target section is exposed by the patterned radiation beam.例文帳に追加
放射線源、パターニング構造、投影システムによって放射線感光層を含む基板の標的部分上にパターン化放射線ビームを投影するリソグラフィシステムにおいて、投影システムと基板の間の領域から空気を供給することによって、標的部分をパターン化放射ビームで露光する間に標的部分から発散するガスを除去するためのガス・フラッシング・システムを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The method for fabricating a photomask includes the steps of: providing a film stack having a molybdenum layer and a light-shielding layer in a processing chamber; pattering a first resist layer on the light-shielding layer; etching the light-shielding layer using the first resist layer as an etch mask; and etching the molybdenum layer using the patterned light-shielding layer and the patterned first resist layer as a composite mask.例文帳に追加
フォトマスクを製作するための方法は、モリブデン層と光遮断層とを有するフィルムスタックをプロセスチャンバに提供するステップと、該光遮断層上に第1のレジスト層をパターニングするステップと、該第1のレジスト層をエッチングマスクとして使用して該光遮断層をエッチングするステップと、該パターニングされた光遮断層および該パターニングされた第1のレジスト層を複合マスクとして使用して該モリブデン層をエッチングするステップとを含む。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film excellent in various characteristics such as insulating property, flatness, heat and solvent resistances, a photosensitive resin composition capable of easily forming a patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in the above various characteristics and a processing method for each of the compositions.例文帳に追加
アルカリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、絶縁性、平坦性、耐熱性、耐溶剤性等の諸特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物、更には、上記諸特性と同時に低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a transparent conductive membrane which is of an amorphous membrane and can be patterned comparatively easily by weak acid etching, and which has a low resistance and a high light transmittance, and furthermore, can be easily crystallized, and its manufacturing method.例文帳に追加
アモルファス膜で弱酸エッチングにより比較的容易にパターニングでき、さらに低抵抗で且つ透過率が高く、またさらに容易に結晶化できる透明導電膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A groove made patterned is formed on a main surface of a Si substrate 11 being a base object as the master disk for magnetic transfer, and conductive thine films 14 are formed on the main surface of the Si substrate 11 and the surface of the groove part.例文帳に追加
磁気転写用マスタディスクの基体であるSi基板11の主表面上にパターン化された溝を形成し、Si基板11の主表面および溝部表面に導電性薄膜14を形成する。 - 特許庁
Thick resist 10 is applied in a thickness of about 200 μm on a wiring board 2 to serve as a base, and it is exposed to an ultraviolet ray using a photomask 11 where the section corresponding to the section to form the interlayer connecting electrode 6 is patterned.例文帳に追加
下地となる配線基板2に厚膜レジスト10を200μm程度の膜厚で塗布し、層間接続電極6を形成する部分をパターニングしたフォトマスク11を用いて紫外線露光する。 - 特許庁
One or more lower level BEOL metal wiring layers are designed so as to be patterned symmetrically, aligned, so as to operate on the light-shielding layer which balances the amount of incident light arriving at a photosensitive region.例文帳に追加
一つ以上の下部レベルBEOL金属配線層が対称的にパターンされ配列されて感光領域に到達する入射光の量の均衡を合わせる光遮蔽層に動作するようにデザインされる。 - 特許庁
The hard magnet layer is patterned to form a first pattern 43A covering the MR elements 42C, 42D and second and third patterns 43B, 43C holding the MR elements 42A, 42B therebetween in the in-plane direction.例文帳に追加
ハードマグネット層をパターニングし、MR素子42C,42Dを覆う第1のパターン43Aと、面内方向においてMR素子42A,42Bを挟むように第2および第3のパターン43B,43Cとを形成する。 - 特許庁
In the magnetic assembly in which the magnetic thin film is formed and patterned on the surface of the flexible resin base member, the resin member, having the water absorption of ≤1% and more preferably ≤0.4%, is used as the base member.例文帳に追加
可撓性樹脂基材の表面に磁性薄膜がパターン形成された磁性組立体において、基材として使用する樹脂材の吸水率が1%以下、より好ましくは0.4%以下のものを使用する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition which ensures high adhesion of a substrate after heat curing, has high adhesion to a metal layer and is suitable for producing a patterned cured film, such as, an interlayer insulating film in a semiconductor device.例文帳に追加
加熱硬化後に基板の密着性が高く、また、金属層との密着性が高く、半導体装置の層間絶縁膜等のパターン硬化膜の製造に好適なポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
By removing the multilayered film 16 other than in the recessed section 15 through chemical and mechanical polishing, the ferromagnetic tunnel junction element constituted of the multiplayer film 16 patterned, without being subjected to damages can be formed in the recessed section 15.例文帳に追加
そこで、化学的機械的研磨によって、凹所15外の多層膜16を除去すると、凹所15内には、損傷を受けることなくパターニングされた多層膜16からなる強磁性トンネル接合素子が形成される。 - 特許庁
To prevent the variation in head characteristics, and the geometric dimensions of the pattern on the medium, the degradation in head yield due to a defect etc., of the medium, and the degradation in device yield, in a magnetic recording and playback device mounted with a patterned medium.例文帳に追加
パターンド媒体を搭載する磁気記録再生装置において、ヘッド特性や媒体上のパターンの幾何寸法のばらつき、媒体の欠陥等によるヘッド歩留まり低下および装置歩留まり低下を防ぐ。 - 特許庁
The patterned surface of the figured glass 1 is printed by using the screen print and ultraviolet-curing type organic ink, thereafter, curing treatment of the ink is performed by means of ultraviolet irradiation process and the ornamental figured glass 10 is obtained.例文帳に追加
このスクリーン印刷版と紫外線硬化型有機インクを用いて型板ガラス1の模様面に印刷した後、紫外線照射処理によりインクの硬化処理を施して装飾型板ガラス10とする。 - 特許庁
After a patterned insulation film 11 is formed on a semiconductor wafer, a Cu film 13 is formed on the insulation film 11 and a wiring forming part 12, i.e., a part where the insulation film 11 is not formed.例文帳に追加
まず、パターニングされた絶縁膜11を半導体ウエハ上に形成した後、絶縁膜11及び絶縁膜11が形成されていない部分である配線形成部12の上にCu膜13を形成する。 - 特許庁
The patterned resin layer 1 expressing a marble pattern is formed by spraying a paint 14 to the inner surface of a casting mold 3 by together using an air spray system and an airless spray system.例文帳に追加
エアー方式のスプレー噴射とエアーレス方式のスプレー噴射とを併用して注型用金型3内の内面に塗料14を噴射することにより大理石柄を表現する柄付き樹脂層1を形成する。 - 特許庁
The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.例文帳に追加
半導体装置1は、パターニングされた絶縁層40および導電層50とを成膜した絶縁基板10と、この絶縁基板10上に積層された2枚の半導体素子(半導体チップ)21、22とを有している。 - 特許庁
To create an SiO_2 film and/or an SiN film satisfying diffusion control properties and passivation properties in a deposition method that creates the SiO_2 film and/or the SiN film patterned on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上にパターニングされたSiO_2膜および/もしくはSiN膜を生成する製膜方法において、拡散制御性能、またはパッシベーション性能を満たすSiO_2膜および/もしくはSiN膜を生成する。 - 特許庁
Next, a gate insulating film, a semiconductor layer and a resistant contact layer are successively formed and thereafter a conductive film is laminated thereon and is patterned to form a data line having a source electrode, a drain electrode and an alignment key for color filters.例文帳に追加
次に、ゲート絶縁膜、半導体層、及び抵抗性接触層を順に形成した後、導電膜を積層しパターニングして、ソース電極を有するデータ線、ドレーン電極、及び色フィルター用整列キーを形成する。 - 特許庁
The parallelogram barrier ribs 4 can be easily obtained by exposing a photosensitive material to light from a diagonal direction, and any photosensitive material is usable, so the cathodes 6 can be patterned at low cost through simple processes.例文帳に追加
平行四辺形の隔壁4は、感光性材料に斜め方向から露光することで、容易に得られ、また、感光性材料は任意のものが使用できるので、簡易な工程でかつ低コストに、陰極6がパターニングできる。 - 特許庁
Then the organic film 605 is patterned by etching the film 605 by using a second resist pattern 609 and the mask pattern 608 as a mask and, at the same time, the second resist pattern 609 is removed.例文帳に追加
有機絶縁膜605に対して第2のレジストパターン609及びマスクパターン608をマスクとしてエッチングを行なって、第2の有機膜605をパターン化すると共に第2のレジストパターン609を除去する。 - 特許庁
A transparent conductive film is patterned by laminating a conductive film as a thin wire less than 1 mm using optical processes such as laser, without shielding or isolating surface of the transparent conductive film using a masking material.例文帳に追加
透明導電膜面をマスキング材で遮蔽隔離させることなく、レーザー等の光加工で1mm幅以下の細線状に、導電膜を剥離することでパターニングした、透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an electroconductive base material for plating, from which a conductor layer pattern being patterned and free from plating burning and a base material with the conductor layer pattern can be manufactured with good productivity and which itself can be easily produced.例文帳に追加
パターニングされ、めっき焼けのない導体層パターン及び導体層パターン付き基材を生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材を提供する。 - 特許庁
An amorphous silicon layer is patterned to form a filtering channel 63 for connecting an active layer region containing a crystallization source region 60, a source region 64, a channel region under a gate electrode 65, and a drain region 66.例文帳に追加
アモルファスシリコン層をパターニングし、結晶化ソース領域60とソース領域64、ゲート電極65下部のチヤネル領域、及びドレイン領域66を含む活性層領域を連結するフィルタリングチャンネル63を形成する。 - 特許庁
To effectively prevent the formation of an acute angle or a thin portion where an electric field concentration easily occurs on the side edge of an electrode to be patterned on a substrate surface in a method of manufacturing an electrode plate.例文帳に追加
電極板の製造方法において、基板表面にパターニングされる電極の側縁に、電界集中を生じ易い鋭角部分や薄肉部分が形成されることを効果的に防止できるようにする。 - 特許庁
A first conductive layer is patterned in preparation for a subsequent patterning step which includes a step of patterning both the first conductive layer and the second conductive layer in both the NVM region and the capacitor region.例文帳に追加
第1導電体層は後のパターニングステップの準備にパターニングされ、これが、NVM領域およびキャパシタ領域の両方に第1導電体層および第2導電体層の両方をパターニングするステップを含む。 - 特許庁
This decorative molding has a structure in which a transparent or translucent surface resin layer, a patterned ink layer, a transparent or translucent resin layer containing spherical bodies, and a reinforcing layer are superposed in this order from the surface side.例文帳に追加
表面側より、透明または半透明表面樹脂層、模様インク層、球状体を含有する透明または半透明樹脂層、補強層を、この順序で積層した構成の加飾成形体とする。 - 特許庁
To provide a successively patterned body for cable which stores a large amount of information on the cable more than before, and has a little possibility that the stored information becomes unrecognizable when long hours have passed after the installation.例文帳に追加
ケーブルに関する情報を従来よりも多量に格納可能であり、設置後長時間が経過しても上記格納している情報が判別不可能となるおそれが少ないケーブル用連長体を提供する。 - 特許庁
To provide a method employing a vacuum film forming method by which a patterned material layer having a large thickness easily forms an optional angle between its side face and a substrate such as a right angle.例文帳に追加
真空成膜法を用いた方法であって、厚みが大きくパターン化された材料層を、容易にその側面が基板となす角度を垂直等の任意の角度とすることのできる方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a film can be embedded with favorable characteristics in a fine trench patterned by etching and thereby a finer embedding pattern can be attained.例文帳に追加
エッチングによってパターン形成された微細な溝パターン内に特性良好に埋め込み膜を埋め込むことが可能で、これによりさらなる埋め込みパターンの微細化が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A laminate 10 comprising a metal film 4, an insulating film 3, an antireflection film 2, and a patterned photosensitive resin film 1 formed sequentially in layers is placed in the reaction chamber of a plasma etching system.例文帳に追加
プラズマエッチング装置の反応室内に、金属膜4と、絶縁膜3と、反射防止膜2と、パターン形成された感光性樹脂膜1とが順に積層されてなる部分を有する積層体10を配置する。 - 特許庁
This laminate type battery is realized by laminating on a substrate board (100) a plurality of layers which are patterned so that a battery element part (200) and an electric circuit part (300) may be formed by laminating.例文帳に追加
積層されることによって電池要素部(200)および電気回路部(300)が形成されるようにパターニングされた複数の層を基盤(100)上に積層させることにより、積層型電池を実現する。 - 特許庁
The back-channel-etch type TFT 108 includes a gate electrode 11, an SiN film 12 that is formed on the gate electrode 11, and an SiO film 13 that is formed and patterned on the SiN film 12.例文帳に追加
本発明にかかるバックチャネルエッチ型のTFT108は、ゲート電極11と、ゲート電極11上に形成されたSiN膜12と、SiN膜12上にパターニング形成されたSiO膜13とを有する。 - 特許庁
After a protection film is formed by coating an electromagnetic wave shielding metal foil with a paint and a peeling film is laminated on the protection film with a pressure-sensitive adhesive layer interposed, the electromagnetic wave shielding metal foil is patterned in a mesh shape.例文帳に追加
電磁波シールド性金属箔に塗料を塗布して保護膜を形成し、この保護膜上に粘着剤層を介して剥離フィルムを積層した後、前記電磁波シールド性金属箔をメッシュ形状にパターニングする。 - 特許庁
The source/drain electrode layer 15 includes an electrode layer 15a and an upper metal layer 15b so that the electrode layer 15a is prevented from being damaged when an inter-pixel insulating film 17 is patterned and formed in the subsequent process.例文帳に追加
ソース・ドレイン電極層15が、電極層15aと上部金属層15bとを有することにより、その後の工程で、画素間絶縁膜17をパターニング形成する際、電極層15aが損傷を受けずに済む。 - 特許庁
The patterned paper is formed of natural pulp fibers and rayon fibers as main materials and contains a binder and inorganic particles having a Mohs hardness of 3-6 as the filler.例文帳に追加
本発明は、天然パルプ繊維とレーヨン繊維とを主原料とし、バインダーを含有する模様加工紙であって、填料としてモース硬度が3以上6以下の無機粒子を含有することを特徴とする模様加工紙である。 - 特許庁
A magnetic recording medium including multiple magnetic dots patterned by self-organization comprises a burst part in which magnetic dots in a center part in the across-the-width direction have less density than those at the margins of the center part.例文帳に追加
自己組織化によりパターン形成された複数の磁気ドットを含む磁気記録媒体において、そのバースト部は、幅方向の中央部の磁気ドットの密度よりも、その周縁部の磁気ドットの密度の方が高い。 - 特許庁
The magnetic recording disk which has the pre-patterned surface feature of elevated lands and recessed grooves or trenches, such as a discrete track medium (DTM) or a bit pattern medium (BPM) disk, possesses the planarized surface.例文帳に追加
ディスクリートトラック媒体(DTM)またはビットパターン媒体(BPM)ディスクなどの、隆起ランドと凹状の溝またはトレンチの予めパターン化された表面特徴を有する磁気記録ディスクが、平坦化された表面を有する。 - 特許庁
The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁
The plastic sheet is provided with the embossing patterns which are molded in a sheet-thickness direction and composed of a group of small projections on the surface of the sheet, and the folding ruled lines arranged through embossing patterned places.例文帳に追加
シート厚み方向に成形してシート面に小突起群からなる凹凸模様を形成し、かつ、凹凸模様形成個所を通して折り曲げ罫線を付設してプラスチックシートを構成し、これによって課題を解決した。 - 特許庁
To provide a system and method of determining parameters, such as a critical dimension of a patterned structure and a best focus state of a lithographic apparatus and the like, based on strength measurement of nonzero degree of diffracted light from an experimental structure.例文帳に追加
実験構造からの回折光の非ゼロ次数の強度の測定に基づいて、パターニングされた構造のクリティカルディメンションおよびリソグラフィ装置のベストフォーカス状態などのパラメータを決定するためのシステムおよび方法。 - 特許庁
In a press machine wherein a surface is patterned while a wet sheet having hydraulic cement 8 as a main component is pressure-dehydrated, a mold-releasing tape 5 is arranged in an end part flow-stopping part 22 of a press upper board 2.例文帳に追加
水硬性セメントを主成分とする湿潤シート(8)を加圧脱水しながら表面模様付けするプレス装置において、プレス上盤(2)の端部流れ止め部(22)に離型テープ(5)が配設されるようにする。 - 特許庁
A ferroelectric substance PZT layer 110 and a rare metal electrode 120 are laminated on a silicon substrate 100, and a TiO2 hard mask 130 is formed thereon, and then it is patterned by a resist 140 so as to form a hard mask 131.例文帳に追加
シリコン基板100上に強誘電体PZT層110、貴金属電極120を積層した構造上にTiO_2ハードマスク130を成膜し、レジスト140でパターニングしてハードマスク131を形成する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an organic semiconductor element in which the active layer can be formed which is patterned to have an excellent pattern shape while being prevented from decreasing in electric characteristics thereof.例文帳に追加
活性層の電気的特性の低下を防止でき、しかも良好なパターン形状を有するようにパターニングされた活性層を形成することができる有機半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
Then on a patterned SiO2 film 63 at 970°C, an I layer 64 comprising I-type GaN of film-thickness 1.0 μm is formed by supplying H2 2.5 liter/minute, NH3 at 1.5 liter/minute, TMG at 100 cc/minute, and DEZ at 500 cc/minute.例文帳に追加
その後、パターン形成されたSi0_2 膜63の上に、温度を 970℃とし、H_2 を 2.5liter /分、NH_3 を 1.5liter /分、TMGを 100cc/分、DEZを 500cc/分で供給して、I型のGaNから成るI層64を膜厚 1.0μmに形成した。 - 特許庁
Further, an organic light-emitting layer at an optically bringing-out side and an electrode formed thereon are commonly constituted in all over pixels, and at the same time the intermediate electrode is patterned in between the organic light-emitting layers.例文帳に追加
また、光取り出し側の有機発光層とその有機発光層上に形成された電極は、全画素にわたって共通に形成されると共に、有機発光層の間の中間電極はパターニングされている。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent plating resistance when used for forming a cured material layer on a patterned surface resin layer formed on a substrate with a formed circuit.例文帳に追加
回路形成済基板上に形成されているパターニングされた表面樹脂層上に硬化物層を形成するために用いられたときに、十分に優れためっき耐性が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
The bismuth-based lead-free glass is used as a light patterning glass material which is patterned by light irradiation and has a light absorption coefficient of 300-3,000 cm^-1 at the wavelength of 365 nm.例文帳に追加
光照射によりパターニングされる光パターニングガラス材料に用いられ、365nmの波長の光に対する吸収係数が300〜3000cm^-1であることを特徴とするビスマス系無鉛ガラスを提供する。 - 特許庁
This patterned knitted fabric has a pattern comprising loop length-different portions obtained by changing a feeding tension applied to a knitting yarn Y fed from a yarn guide 5 of a knitting machine to a knitting needle 3.例文帳に追加
本発明の柄付き編地は、編機1の糸ガイド5から編針3に供給される編糸Yにかける給糸張力を変動させて得られたループ長の異なる部分からなる柄を有するものである。 - 特許庁
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