Patternedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3853件
To obtain an etched product which retains flexibility fit for conveyance by a reel-to-reel system and has stabilized etching sizes and shapes of holes, etc., without impairing the flexibility a patterned resin layer mask when a photosensitive resin layer formed on the surface of a polyimide film is irradiated with UV through a photomask and developed to form the patterned resin layer mask and the polyimide film is etched with an alkaline solution.例文帳に追加
ポリイミドフィルム面上に形成された感光性樹脂層に、フォトマスクを用いて紫外線を照射し、かつ、現像して樹脂層パターンマスクを形成した後、アルカリ性液でポリイミドフィルムをエッチングする場合において、樹脂層パターンマスクの可撓性を損わないでリールツーリール方式の搬送等に適した可撓性を保持し、しかも、穴等のエッチング寸法及び形状が安定化したエッチング製品を得ることができるようにする。 - 特許庁
This lithography system projects a patterned radiation beam on the target of a substrate containing a radiation photosensitive layer by a radiation source, a patterning structure and a projection system is provided with a gas flashing system for supplying air from a region between the projection system and the substrate in order to remove gas spread from the target section while the target section is exposed by the patterned radiation beam.例文帳に追加
放射線源、パターニング構造、投影システムによって放射線感光層を含む基板の標的部分上にパターン化放射線ビームを投影するリソグラフィシステムにおいて、投影システムと基板の間の領域から空気を供給することによって、標的部分をパターン化放射ビームで露光する間に標的部分から発散するガスを除去するためのガス・フラッシング・システムを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The method for fabricating a photomask includes the steps of: providing a film stack having a molybdenum layer and a light-shielding layer in a processing chamber; pattering a first resist layer on the light-shielding layer; etching the light-shielding layer using the first resist layer as an etch mask; and etching the molybdenum layer using the patterned light-shielding layer and the patterned first resist layer as a composite mask.例文帳に追加
フォトマスクを製作するための方法は、モリブデン層と光遮断層とを有するフィルムスタックをプロセスチャンバに提供するステップと、該光遮断層上に第1のレジスト層をパターニングするステップと、該第1のレジスト層をエッチングマスクとして使用して該光遮断層をエッチングするステップと、該パターニングされた光遮断層および該パターニングされた第1のレジスト層を複合マスクとして使用して該モリブデン層をエッチングするステップとを含む。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film excellent in various characteristics such as insulating property, flatness, heat and solvent resistances, a photosensitive resin composition capable of easily forming a patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in the above various characteristics and a processing method for each of the compositions.例文帳に追加
アルカリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、絶縁性、平坦性、耐熱性、耐溶剤性等の諸特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物、更には、上記諸特性と同時に低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁
The apparatus also includes a control unit arranged to receive information regarding the extent to which a patterned beam of radiation would extend across a periphery of the substrate when being projected onto the target region of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームが基板の目標部分に投影される際、パターン付与された当該放射ビームが基板周縁を超えて広がる程度に関する情報を受ける制御装置をさらに備える。 - 特許庁
Then a polysilicon is embedded to form the bit line contact and a capacitor contact 6 at the same time before a bit line 7a is patterned, and further a side wall insulating film comprising a nitride film is formed on the side surface of the bit line.例文帳に追加
そして、ポリシリコンを埋め込み、ビット線コンタクトとキャパシタコンタクト6を同時に形成すると共に、ビット線7aをパターニングし、更にビット線の側面に窒化膜からなる側壁絶縁膜9を形成する。 - 特許庁
To inhibit the variation of resistance ratio between resistive films by each sensor as little as possible in a flow sensor of thin film type having a thin film structure in which a plurality of patterned resistive films are sandwiched by a pair of insulating films.例文帳に追加
パターニングされた複数の抵抗膜を一対の絶縁膜で挟んでなる薄膜構造部を有する薄膜式フローセンサにおいて、各抵抗膜間の抵抗比が、センサ毎にばらつくのを極力抑制する。 - 特許庁
In this charged particle beam exposure system, a reticle 1 on which a pattern is formed is illuminated with a charged particle beam, the charged partical beam which passes the reticle and is patterned is made to form an image on a sensitive substrate, and a pattern is transferred.例文帳に追加
本荷電粒子ビーム露光装置は、パターンを形成したレチクル1を荷電ビームで照明し、レチクルを通過してパターン化された荷電ビームを感応基板上に結像させてパターンを転写する装置である。 - 特許庁
A semi-insulating film 13 is patterned so as not to enter parasitic resistance by a semi-insulation film 13 between a gate and a source of a MOSFET 14, and between the gate of the MOSFET 14 and a cathode of a thyrister 30.例文帳に追加
MOSFET14のゲートとソース、およびMOSFET14のゲートとサイリスタ30のカソードとの間に半絶縁膜13による寄生抵抗が入らないように半絶縁膜13をパターンニングする。 - 特許庁
To protect a contact hole against a connection failure, by a method wherein a barrier metal layer is prevented from being corroded in an after treatment process where resist is removed after a wiring layer is patterned.例文帳に追加
配線層のパターニングを行った後、レジストの除去等の後処理工程においてバリアメタル層が腐食されず、コンタクトホールの接続不良が防止された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a ceramic multilayered board and a manufacturing method therefor that make connection between an external terminal and an inside patterned layer more stable and usually maintain the connection even when an error in a manufacturing process occurs.例文帳に追加
本発明は、外部端子と内部パターン層との接続をより安定にさせ、製造工程上の誤差があっても常に接続が維持されるようにするセラミック多層基板及びその製造方法に関するものである。 - 特許庁
A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a patterned nickel plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加
銅箔1(主導体層)の片面全面にニッケルめっき3を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき2を施し,ニッケルめっき3の表面に銅めっき5(基層導体層)を形成する。 - 特許庁
By using the composition, stress of a patterned film is minimized in baking to minimize deformation by shrinkage, whereby a phenomenon such as twist, short (breaking) or falling (rising) of the pattern can be suppressed or prevented.例文帳に追加
これにより、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡(切れ)または脱落(浮き上がり)などの現象を抑制または根本的に防止できる。 - 特許庁
After the contact holes 15 are filled with an antireflection film 16b and the resist 17, the resist 17 is so patterned that it may be left over on the contact holes 15 in a larger area than that of an opening of each contact hole 15.例文帳に追加
コンタクトホール15が反射防止膜16b及びレジスト17で埋め込まれた後、コンタクトホール15上にこのコンタクトホール形成部15の開口より大きな面積が残るように、レジスト17がパターニングされる。 - 特許庁
A plurality of wires are patterned in parallel at an equal interval on a universal substrate, and the universal substrate is cut to obtain the number of wires according to the number of pads in the LSI chip 5 to form the contact probe 4.例文帳に追加
汎用基板には複数の配線が等間隔で並列にパターニングされており、同汎用基板をLSIチップ5におけるパッド数に応じた配線数となるよう切断することでコンタクトプローブ4が形成される。 - 特許庁
To provide a patterned medium which has a satisfactory embedded shape and low surface roughness Ra and wherein irregularity of a magnetic body is embedded in a non-magnetic embedding layer in which production of process dust can be suppressed during film-deposition.例文帳に追加
埋め込み形状が良好で、表面粗さRaが小さく、成膜時にプロセスダストの発生を抑えることができる非磁性埋め込み層で磁性体の凹凸が埋め込まれたパターンド媒体を提供する。 - 特許庁
To mount a metal mask and a substrate excellently in operability with respect to a heating base plate by using a metal mask of simple structure in a method for ejecting ultrafine particles from a nozzle and forming fine- patterned article on the substrate.例文帳に追加
超微粒子をノズルから噴射し、基板上に微細形状の造形物を形成する方法において、加熱基盤に対しメタルマスク及び基板を簡単な構造のメタルマスクを用いて作業性よく装着する。 - 特許庁
This patterned filter layer (908) contains both filter material area (910) which filters out a part of light received from the narrow band filter and filterless area (912) which filters out all the light received from the narrow band filter.例文帳に追加
パターン化フィルタ層(908)は、狭帯域フィルタから受ける光の一部を透過するフィルタ材料領域(910)と、狭帯域フィルタから受ける光のすべてを透過するフィルタ無し領域(912)を含む。 - 特許庁
A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a thicker patterned tin plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加
銅箔1(主導体層)の片面全面にニッケルめっき3を施すとともにその反対面にパターン付きのスズめっき2を施し,ニッケルめっき3の表面に銅めっき5(基層導体層)を形成する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition which ensures high adhesion of a substrate after heat curing, has high adhesion to a metal layer and is suitable for producing a patterned cured film, such as, an interlayer insulating film in a semiconductor device.例文帳に追加
加熱硬化後に基板の密着性が高く、また、金属層との密着性が高く、半導体装置の層間絶縁膜等のパターン硬化膜の製造に好適なポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
By removing the multilayered film 16 other than in the recessed section 15 through chemical and mechanical polishing, the ferromagnetic tunnel junction element constituted of the multiplayer film 16 patterned, without being subjected to damages can be formed in the recessed section 15.例文帳に追加
そこで、化学的機械的研磨によって、凹所15外の多層膜16を除去すると、凹所15内には、損傷を受けることなくパターニングされた多層膜16からなる強磁性トンネル接合素子が形成される。 - 特許庁
In the magnetic assembly in which the magnetic thin film is formed and patterned on the surface of the flexible resin base member, the resin member, having the water absorption of ≤1% and more preferably ≤0.4%, is used as the base member.例文帳に追加
可撓性樹脂基材の表面に磁性薄膜がパターン形成された磁性組立体において、基材として使用する樹脂材の吸水率が1%以下、より好ましくは0.4%以下のものを使用する。 - 特許庁
To prevent the variation in head characteristics, and the geometric dimensions of the pattern on the medium, the degradation in head yield due to a defect etc., of the medium, and the degradation in device yield, in a magnetic recording and playback device mounted with a patterned medium.例文帳に追加
パターンド媒体を搭載する磁気記録再生装置において、ヘッド特性や媒体上のパターンの幾何寸法のばらつき、媒体の欠陥等によるヘッド歩留まり低下および装置歩留まり低下を防ぐ。 - 特許庁
To provide a transparent conductive membrane which is of an amorphous membrane and can be patterned comparatively easily by weak acid etching, and which has a low resistance and a high light transmittance, and furthermore, can be easily crystallized, and its manufacturing method.例文帳に追加
アモルファス膜で弱酸エッチングにより比較的容易にパターニングでき、さらに低抵抗で且つ透過率が高く、またさらに容易に結晶化できる透明導電膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A groove made patterned is formed on a main surface of a Si substrate 11 being a base object as the master disk for magnetic transfer, and conductive thine films 14 are formed on the main surface of the Si substrate 11 and the surface of the groove part.例文帳に追加
磁気転写用マスタディスクの基体であるSi基板11の主表面上にパターン化された溝を形成し、Si基板11の主表面および溝部表面に導電性薄膜14を形成する。 - 特許庁
Thick resist 10 is applied in a thickness of about 200 μm on a wiring board 2 to serve as a base, and it is exposed to an ultraviolet ray using a photomask 11 where the section corresponding to the section to form the interlayer connecting electrode 6 is patterned.例文帳に追加
下地となる配線基板2に厚膜レジスト10を200μm程度の膜厚で塗布し、層間接続電極6を形成する部分をパターニングしたフォトマスク11を用いて紫外線露光する。 - 特許庁
One or more lower level BEOL metal wiring layers are designed so as to be patterned symmetrically, aligned, so as to operate on the light-shielding layer which balances the amount of incident light arriving at a photosensitive region.例文帳に追加
一つ以上の下部レベルBEOL金属配線層が対称的にパターンされ配列されて感光領域に到達する入射光の量の均衡を合わせる光遮蔽層に動作するようにデザインされる。 - 特許庁
The hard magnet layer is patterned to form a first pattern 43A covering the MR elements 42C, 42D and second and third patterns 43B, 43C holding the MR elements 42A, 42B therebetween in the in-plane direction.例文帳に追加
ハードマグネット層をパターニングし、MR素子42C,42Dを覆う第1のパターン43Aと、面内方向においてMR素子42A,42Bを挟むように第2および第3のパターン43B,43Cとを形成する。 - 特許庁
To create an SiO_2 film and/or an SiN film satisfying diffusion control properties and passivation properties in a deposition method that creates the SiO_2 film and/or the SiN film patterned on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上にパターニングされたSiO_2膜および/もしくはSiN膜を生成する製膜方法において、拡散制御性能、またはパッシベーション性能を満たすSiO_2膜および/もしくはSiN膜を生成する。 - 特許庁
Next, a gate insulating film, a semiconductor layer and a resistant contact layer are successively formed and thereafter a conductive film is laminated thereon and is patterned to form a data line having a source electrode, a drain electrode and an alignment key for color filters.例文帳に追加
次に、ゲート絶縁膜、半導体層、及び抵抗性接触層を順に形成した後、導電膜を積層しパターニングして、ソース電極を有するデータ線、ドレーン電極、及び色フィルター用整列キーを形成する。 - 特許庁
The patterned surface of the figured glass 1 is printed by using the screen print and ultraviolet-curing type organic ink, thereafter, curing treatment of the ink is performed by means of ultraviolet irradiation process and the ornamental figured glass 10 is obtained.例文帳に追加
このスクリーン印刷版と紫外線硬化型有機インクを用いて型板ガラス1の模様面に印刷した後、紫外線照射処理によりインクの硬化処理を施して装飾型板ガラス10とする。 - 特許庁
After a patterned insulation film 11 is formed on a semiconductor wafer, a Cu film 13 is formed on the insulation film 11 and a wiring forming part 12, i.e., a part where the insulation film 11 is not formed.例文帳に追加
まず、パターニングされた絶縁膜11を半導体ウエハ上に形成した後、絶縁膜11及び絶縁膜11が形成されていない部分である配線形成部12の上にCu膜13を形成する。 - 特許庁
The parallelogram barrier ribs 4 can be easily obtained by exposing a photosensitive material to light from a diagonal direction, and any photosensitive material is usable, so the cathodes 6 can be patterned at low cost through simple processes.例文帳に追加
平行四辺形の隔壁4は、感光性材料に斜め方向から露光することで、容易に得られ、また、感光性材料は任意のものが使用できるので、簡易な工程でかつ低コストに、陰極6がパターニングできる。 - 特許庁
Then the organic film 605 is patterned by etching the film 605 by using a second resist pattern 609 and the mask pattern 608 as a mask and, at the same time, the second resist pattern 609 is removed.例文帳に追加
有機絶縁膜605に対して第2のレジストパターン609及びマスクパターン608をマスクとしてエッチングを行なって、第2の有機膜605をパターン化すると共に第2のレジストパターン609を除去する。 - 特許庁
A transparent conductive film is patterned by laminating a conductive film as a thin wire less than 1 mm using optical processes such as laser, without shielding or isolating surface of the transparent conductive film using a masking material.例文帳に追加
透明導電膜面をマスキング材で遮蔽隔離させることなく、レーザー等の光加工で1mm幅以下の細線状に、導電膜を剥離することでパターニングした、透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an electroconductive base material for plating, from which a conductor layer pattern being patterned and free from plating burning and a base material with the conductor layer pattern can be manufactured with good productivity and which itself can be easily produced.例文帳に追加
パターニングされ、めっき焼けのない導体層パターン及び導体層パターン付き基材を生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材を提供する。 - 特許庁
An amorphous silicon layer is patterned to form a filtering channel 63 for connecting an active layer region containing a crystallization source region 60, a source region 64, a channel region under a gate electrode 65, and a drain region 66.例文帳に追加
アモルファスシリコン層をパターニングし、結晶化ソース領域60とソース領域64、ゲート電極65下部のチヤネル領域、及びドレイン領域66を含む活性層領域を連結するフィルタリングチャンネル63を形成する。 - 特許庁
To effectively prevent the formation of an acute angle or a thin portion where an electric field concentration easily occurs on the side edge of an electrode to be patterned on a substrate surface in a method of manufacturing an electrode plate.例文帳に追加
電極板の製造方法において、基板表面にパターニングされる電極の側縁に、電界集中を生じ易い鋭角部分や薄肉部分が形成されることを効果的に防止できるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a film can be embedded with favorable characteristics in a fine trench patterned by etching and thereby a finer embedding pattern can be attained.例文帳に追加
エッチングによってパターン形成された微細な溝パターン内に特性良好に埋め込み膜を埋め込むことが可能で、これによりさらなる埋め込みパターンの微細化が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The patterned resin layer 1 expressing a marble pattern is formed by spraying a paint 14 to the inner surface of a casting mold 3 by together using an air spray system and an airless spray system.例文帳に追加
エアー方式のスプレー噴射とエアーレス方式のスプレー噴射とを併用して注型用金型3内の内面に塗料14を噴射することにより大理石柄を表現する柄付き樹脂層1を形成する。 - 特許庁
The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.例文帳に追加
半導体装置1は、パターニングされた絶縁層40および導電層50とを成膜した絶縁基板10と、この絶縁基板10上に積層された2枚の半導体素子(半導体チップ)21、22とを有している。 - 特許庁
A first conductive layer is patterned in preparation for a subsequent patterning step which includes a step of patterning both the first conductive layer and the second conductive layer in both the NVM region and the capacitor region.例文帳に追加
第1導電体層は後のパターニングステップの準備にパターニングされ、これが、NVM領域およびキャパシタ領域の両方に第1導電体層および第2導電体層の両方をパターニングするステップを含む。 - 特許庁
This decorative molding has a structure in which a transparent or translucent surface resin layer, a patterned ink layer, a transparent or translucent resin layer containing spherical bodies, and a reinforcing layer are superposed in this order from the surface side.例文帳に追加
表面側より、透明または半透明表面樹脂層、模様インク層、球状体を含有する透明または半透明樹脂層、補強層を、この順序で積層した構成の加飾成形体とする。 - 特許庁
To provide a successively patterned body for cable which stores a large amount of information on the cable more than before, and has a little possibility that the stored information becomes unrecognizable when long hours have passed after the installation.例文帳に追加
ケーブルに関する情報を従来よりも多量に格納可能であり、設置後長時間が経過しても上記格納している情報が判別不可能となるおそれが少ないケーブル用連長体を提供する。 - 特許庁
The patterned substrate is conveyed after the rolls 12 are made to stand at the position of the pattern-unformed surface of the long-length substrate and the rolls 12 are rotated at a prescribed rotational speed while the conveyance of the substrate is stopped.例文帳に追加
さらに、搬送停止時に、洗浄用ロールを長尺基板上のパターン非形成面の位置においてスタンバイさせ、洗浄用ロールの回転が所定の回転速度に到達した後に、基板の搬送を行なう。 - 特許庁
When the head substrate is produced, the laminated member, wherein an ink guide forming scheduled region and a sacrifice layer 70 are alternately laminated, is subjected to an etching treatment for once to be patterned into a prescribed shape to remove the sacrifice layer 70.例文帳に追加
また、ヘッド基板を作製する際、インクガイドの形成予定領域と犠牲層70とを交互に積層した積層部材を、1度のエッチング処理で所定の形状にパターニングした後、犠牲層70を除去する。 - 特許庁
The magnetic disk medium has the constitution in which a successive magnetic area 301 effective as a magnetic recording part is provided at the boundary part between a servo area 300 in the patterned media and the data area 302 of the DTR structure.例文帳に追加
パターンドメディアにおけるサーボ領域300と、DTR構造のデータ領域302との境界部には、磁気記録部として有効な連続磁性領域301が設けられた構成の磁気ディスク媒体である。 - 特許庁
A dimensionally patterned decorated plate is obtained by forming a barrier layer on a base material, forming a transparent resin layer on the barrier layer and further forming a printed layer on the transparent resin paper by use of a light blocking ink, the barrier layer and the base material having a color of the same kind.例文帳に追加
基材上にバリア層を設け、このバリア層上に透明樹脂層を形成し、さらにこの透明樹脂層に遮光性インクで印刷層を形成するとともに、バリア層と基材を同色とした。 - 特許庁
To provide a method employing a vacuum film forming method by which a patterned material layer having a large thickness easily forms an optional angle between its side face and a substrate such as a right angle.例文帳に追加
真空成膜法を用いた方法であって、厚みが大きくパターン化された材料層を、容易にその側面が基板となす角度を垂直等の任意の角度とすることのできる方法を提供すること。 - 特許庁
A laminate 10 comprising a metal film 4, an insulating film 3, an antireflection film 2, and a patterned photosensitive resin film 1 formed sequentially in layers is placed in the reaction chamber of a plasma etching system.例文帳に追加
プラズマエッチング装置の反応室内に、金属膜4と、絶縁膜3と、反射防止膜2と、パターン形成された感光性樹脂膜1とが順に積層されてなる部分を有する積層体10を配置する。 - 特許庁
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