「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

After a first metal film 302 is formed on a substrate 301 from an insulating material, a resist film 303 is formed on the desired portion of the upper surface of the first metal film 302 and a Ti film being the first metal film 302 is patterned.例文帳に追加

絶縁材料を基板３０１として第１の金属膜３０２を成膜した後、第１の金属膜３０２の上面の所望部分にレジスト膜３０３を形成し、第１の金属膜３０２であるＴｉ膜をパターニングする。 - 特許庁

To detect a defect caused by a secular change of a stamper by classifying defects repetitively caused on a patterned media disk into defects caused by deterioration due to secular change of the stamper and defects caused by a process failure.例文帳に追加

パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device that can suitably pattern a semiconductor film by forming a mask having sufficient resistance to wet etching carried out when the semiconductor film is patterned.例文帳に追加

半導体膜をパターニングする際に行われるウェットエッチングに対して十分な耐性を有するマスクを形成することにより、半導体膜のパターニングを適切に行うことができる半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor in which a gate electrode and a source drain electrode are formed with high alignment precision and the source-drain electrode is patterned with high precision without performing a lift-off step.例文帳に追加

ゲート電極とソース・ドレイン電極を高いアライメント精度で形成することができるとともに、リフトオフ工程を行うことなくソース・ドレイン電極を高い精度でパターニングすることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rugged pattern forming method in a nano inprint processing method useful for forming an electronic device, an optical component, a recording medium and the like, and capable of manufacturing such finely patterned products at low cost and high speed.例文帳に追加

電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The folding box 1 includes a foldable box 2, a surface-type display 3 which is provided on any one surface constituting the box 2 with its light-emission area being patterned, and a power supply 4 for supplying power to the display 3.例文帳に追加

折り畳みボックス１は、折り畳み可能なボックス部２と、ボックス部２を構成するいずれかの面に設けられ、発光領域がパターニングされた面状の表示部３と、表示部３に電力を供給する電源部４とを備えている。 - 特許庁

The patterned leather comprises a leather exhibiting a tensile elongation at break of 35-180% in accordance with JIS K 6550 and having, formed thereon, a pattern by an ultraviolet-cured film having a scratch hardness (by the pencil method) of 3B to H in accordance with JIS K 5600.例文帳に追加

ＪＩＳ Ｋ ６５５０による引張り切断伸びが３５〜１８０％である皮革上に、ＪＩＳ Ｋ ５６００による引っ掻き硬度（鉛筆法）が３Ｂ〜Ｈの紫外線硬化膜による模様が形成されている模様形成皮革である。 - 特許庁

To provide: a substrate structure which can be excellently patterned by suppressing unevenness in resist film thickness nearby a substrate peripheral edge; a method of forming a coating film using the substrate structure; and a method of manufacturing a panel substrate.例文帳に追加

基板周縁部付近におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる基板構造及びその基板構造を用いた塗布膜の成膜方法並びにパネル基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a transparent conductive substrate, by which there can be easily produced a transparent conductive substrate having good conductivity and transparency and including a titanium oxide-based transparent conductive film patterned into a desired shape.例文帳に追加

良好な導電性と透明性を有し、所望の形状にパターニングされた酸化チタン系透明導電性膜を備えた透明導電性基板を容易に得ることができる透明導電性基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printer and a printing method using that printer in which color printing can be carried out on a patterned sheet with a color balance similar to that when color printing is carried out using a white sheet.例文帳に追加

柄模様の用紙に対してカラー印刷を行う際に、白色の用紙を用いてカラー印刷を行う場合と同様な色バランスで印刷することができる印刷装置及びその印刷装置を使用した印刷方法を提供すること。 - 特許庁

Dry etching is performed to the P-type second clad layer 20 by using a first insulating pattern 22B as a mask, and the P-type second clad layer is patterned in a ridge form to which the first insulating pattern 22B is transferred.例文帳に追加

続いて、第１の絶縁性パターン２２Ｂをマスクとして、ｐ型第２クラッド層２０に対して、ドライエッチングを行なうことにより、ｐ型第２クラッド層を、第１の絶縁性パターン２２Ｂが転写されたリッジ形状にパターニングする。 - 特許庁

A metal layer arbitrarily patterned to cover at least 20% of the area of the semiconductor light emitting device is plated on either a metal layer formed on the mount or a metal layer formed on one of the contacts.例文帳に追加

半導体発光デバイスの面積の少なくとも２０％をカバーするように任意にパターン形成された金属層は、マウント上に形成される金属層か又はコンタクトのうちの１つに形成される金属層のいずれかにメッキされる。 - 特許庁

Projecting parts 119 consisting of a photosensitive resin are patterned and formed on a substrate 111 by forming a photosensitive resin layer on the substrate, then exposing and developing the photosensitive resin layer through a photomask formed of a plurality of the prescribed patterns.例文帳に追加

基板１１１上に感光性樹脂層を形成した後、所定のパターンが複数形成されたフォトマスクを介してこの感光性樹脂層に露光，現像し、基板上に感光性樹脂からなる凸部１１９をパターン形成する。 - 特許庁

To provide a fishing rod with patterned Japanese papers beautifully wound on the surface, excellent in design and quality, and protected by a thick coating layer, and lithely bending, enhanced fittingness and a method for producing the same.例文帳に追加

模様付和紙が竿表面に綺麗に巻き付けられ意匠的にも品質的にも優れ、厚いコーティング層で保護され、竿の撓み等にもしなやかに馴染み耐久性を高めた釣竿の製造方法と釣竿を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic transistor can directly form a patterned organic semiconductor layer by a simple process and can manufacture the organic transistor with excellent transistor characteristics.例文帳に追加

簡易な工程によりパターン状の有機半導体層を直接的に形成することが可能であり、トランジスタ特性に優れた有機トランジスタを製造することが可能な有機トランジスタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the SAF free layer structure, a bias in a length direction is applied by a combination of an exchange bias layer formed on the sensor stack and a hard bias layer formed adjacently to a patterned side face of the stack.例文帳に追加

本発明のＳＡＦフリー層構造では、センサスタックの上に形成された交換バイアス層と、スタックのパターニングされた側面に隣接して形成されたハードバイアス層との組み合わせにより、長手方向のバイアスが印加されている。 - 特許庁

After a transparent photosensitive resin material for spacer 20a is applied on the inner surface of a substrate 2 and patterned by lithography into specified form, it is colored in black to form a black spacer 20.例文帳に追加

基板２の内面上に、透明な感光性樹脂からなるスペーサ材２０ａを塗布し、そのスペーサ材２０ａをフォトリソグラフィ法により所定の形状にパターニングした後、パターニングされたスペーサ材２０ａを染色して黒色のスペーサ２０とする。 - 特許庁

A lithographic apparatus has a means of moving a patterned projection beam incident on the substrate in synchronism with the substrate, which provides a means of correcting movement of the substrate in the lithographic apparatus during duration of a pulse of radiation.例文帳に追加

基板と同期させて基板上に入射するパターン化された投影ビームを移動するための手段を供給することにより、放射線の１回のパルスの持続時間中にリソグラフィ装置内での基板の移動を補正するための手段。 - 特許庁

A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁

In the outer handle device, both the electrodes 43 are patterned on the circuit board 44, and a ground pattern 77 connected to the detecting circuit is arranged at a location offset from both the electrodes 43 when the circuit board 44 is transparently viewed.例文帳に追加

回路基板４４に両電極４３がパターン成形されるとともに、検出回路に連なるグランドパターン７７が、回路基板４４の透視状態では両電極４３からオフセットした位置に配置されるようにして形成される。 - 特許庁

The transparent ITO electrode 4a is a common electrode to be covered on the insulating film 5a to display the individual icons and the transparent ITO electrode 4b is an electrode patterned on the insulating film 5b with shapes of the specified icons.例文帳に追加

ＩＴＯ透明電極４ａは、絶縁膜５ａの上に被膜され、個々のアイコンを表示させるためのコモン電極であり、ＩＴＯ透明電極４ｂは、絶縁膜５ｂ上に所定のアイコン形状にパターンニングされた電極である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nonvolatile memory element in which an MTJ structure of the nonvolatile memory element can be patterned without causing a short circuit nor a current leak and without damaging the MTJ structure.例文帳に追加

短絡や電流リークを生じさせること無く、しかも、ＭＴＪ構造にダメージを生じさせること無く、不揮発性メモリ素子におけるＭＴＪ構造のパターニングを行い得る不揮発性メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A color filter is formed on a substrate and is covered with a smoothing film, and a transparent conductive film is formed on the smoothing film, and it is patterned to form a transparent electrode, and then the substrate is dried under a low pressure before being stuck on a counter substrate.例文帳に追加

基板上にカラーフィルターを形成して平坦化膜で覆い、該平坦化膜上に透明電導膜を形成し、パターニングして透明電極を形成した後、対向基板と貼り合わせるまでの間に減圧乾燥を施す。 - 特許庁

A pair of comb-line electrodes 2 are patterned such that one side becomes +45° and another side becomes -45° with respect to the center line X on a flat substrate 1, and are coated with an insulating layer 3 and, further, surface hydrophobic treatment 4 is applied thereon.例文帳に追加

平面基板１上に、中心線Ｘに対して一方が＋４５度、他方が−４５度となるように一対の櫛歯状電極２がパターンニングされ、絶縁層３でコートされ、その上に表面疎水処理４が施されている。 - 特許庁

The TFT 108 further includes a polycrystalline semiconductor film 14 that is formed and patterned on the SiO film 13 in contact with the SiO film 13 in such a way that all pattern ends are located in close proximity to pattern ends of the SiO film 13.例文帳に追加

さらに、ＴＦＴ１０８は、ＳｉＯ膜１３上においてＳｉＯ膜１３に接し、全てのパターン端がＳｉＯ膜１３のパターン端近傍に配置されるようにパターニング形成された多結晶半導体膜１４を有する。 - 特許庁

This lithographic apparatus has a plurality of columns 25 comprising an illumination system, an array of individually controllable elements for imparting a pattern to the cross section of each beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beams onto the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、照明システムと、各ビームの断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、基板にパターン化されたビームを投影する投影システムからなる複数のカラム２５を備える。 - 特許庁

A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.例文帳に追加

配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁

A lower electrode material, a ferroelectric substance film material and an upper electrode material are successively formed on the silicon nitride film 6 and the barrier metal 5, and they are patterned so that at least the entire surface of the barrier metal is covered with the lower electrode.例文帳に追加

窒化シリコン膜６及びバリアメタル５上に下部電極材料、強誘電体膜材料及び上部電極材料を順次形成し、少なくとも、下部電極がバリアメタル上表面全面を覆うようにパターニングする。 - 特許庁

To provide a patterned leather that is comprised of natural or synthetic leather having pigment/resin-painted or coated and being imparted with designability and can follow tension without causing cracks of a cured film while retaining flexibility characteristic of leather.例文帳に追加

顔料樹脂塗装またはコーティングされた天然あるいは合成皮革上に意匠性が付与された、皮革特有の柔軟性を保ちつつ引っ張りに硬化膜が割れることなく追従する模様形成皮革を提供する。 - 特許庁

Then the photoresist is removed and a doped semiconductor layer 24 and conductive layer 28 are allowed to stick on the semiconductor layer 16 and dielectrics layer 19, which are patterned to provide source electrode and drain electrode 42 and 44.例文帳に追加

その後フォトレジストを除去し、半導体層１６および誘電体層１９の上にドープされた半導体層２４および導電層２８を付着し、これらをソース電極およびドレイン電極４２，４４とすべくパターン化する。 - 特許庁

The photosensitive acrylic resin film 10 is patterned by utilizing halftone exposure, so as to decrease the thickness of the film in recesses 10a and to expose source-drain electrode films 7 and gate electrode films 2, as shown in (m) in contact hole positions 10b.例文帳に追加

ハーフトーン露光を利用し、凹所１０ａで感光性アクリル系樹脂膜１０の厚さが減少し、コンタクトホール位置１０ｂでは、（ｍ）に示すようにソース・ドレイン電極膜７やゲート電極膜２が露出するようにパターニングする。 - 特許庁

A polysilicon 103 is grown on a semiconductor substrate and ion-implanted to be patterned, so as to form a gate electrode by etching away the gate polysilicon 103 using the films 104, 105 after successively depositing an oxide film 104 and a nitride film 105.例文帳に追加

半導体基板上にゲートポリシリコン１０３を成長させてイオン注入を行い、酸化膜１０４、窒化膜１０５を順次堆積した後、パターニングし、これらをマスクにしてゲートポリシリコンをエッチングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁

The semiconductor substrate comprises an SiGe layer SG formed on an Si substrate 1 and a region 1a having a higher impurity concentration than other region is patterned on the surface of the Si substrate.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上にＳｉＧｅ層ＳＧを備えた半導体基板であって、前記Ｓｉ基板表面に、他の領域よりも不純物濃度を高くした高濃度領域１ａをパターン状に形成した領域を備えている。 - 特許庁

When a developing process is conducted by exposing the overcoat material 20 via a photomask 21 (C), the overcoat material 20 is patterned into the pattern shape of photomask 21 and is left only at he center of the surface of the micro-lens 17 (D).例文帳に追加

フォトマスク２１を介してオーバーコート材料２０を露光し（Ｃ）、現像処理を行なうと、オーバーコート材料２０は、フォトマスク２１のパターン形状にパターニングされ、マイクロレンズ１７の表面中央部のみにオーバーコート材料２０が残る（Ｄ）。 - 特許庁

The element array 23 is equipped with shading films 34, which are arranged at prescribed pitches with angles of their gaps with each of photodiodes PDi patterned so as to correspond to incident angles of light from the scale grating 12.例文帳に追加

受光素子アレイ２３は、所定ピッチで配列され且つその間隙のフォトダイオードＰＤｉの各々に対する角度がスケール格子１２からの光の入射角に対応するようにパターニングされた遮光膜３４を備えている。 - 特許庁

The method also includes a step of creating a second template using the replicate, in order to form on the second template the predetermined mirrored servo arc orientation and predetermined duty cycle for copying to the second side of the patterned stack.例文帳に追加

方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electron source in which the lower electrode can be patterned in cross-sectionally trapezoidal shape and the yield of manufacture can be made greater compared with the case of patterning the lower electrode using a lift-off method.例文帳に追加

下部電極を断面台形状の形状にパターニングすることができ且つリフトオフ法を利用して下部電極をパターニングする場合に比べて製造歩留まりを高めることができる電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

The patterned silicon film 110 is oxidized and an oxide film 130 is formed on the entire surface of the silicon film 110 with a preset thickness and then the oxide film 130 is removed so that the upper surface of the silicon film 110 is exposed.例文帳に追加

パターニングされたシリコン膜１１０を酸化させてそのシリコン膜１１０の膜全体表面を設定厚さだけ酸化膜１３０で形成し、シリコン膜の１１０上部表面が露出されるように酸化膜１３０を除去する。 - 特許庁

This includes emitting light from the light source, dispersing light emitted from the light source into one of a diffraction pattern and an interference pattern, and imaging the patterned light onto the object using a lens 38.例文帳に追加

この方法に、光源から光を発することと、光源から発した光を回折パターンと干渉パターンとのうちの１つに分散させることと、レンズ（３８）を使用してパターン付きの光を物体上に撮像することとが含まれる。 - 特許庁

A sensitive material on the mask blank is multistage-patterned by prescribed frequency on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern.例文帳に追加

そのデータに基づいて、マスクブランクス上の感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で所定の回数だけ多数回（多段階）描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。 - 特許庁

There are provided a resistance memory cell whose memory device is made of photoimageable switchable material reversibly switchable between distinguishable conditions of resistances patterned by actinic irradiation, and a method for forming the same.例文帳に追加

本発明は光化学線照射によってパターニングされて区別可能な抵抗状態の間で可逆的にスイッチング可能な写真現像型スイッチング可能物質をメモリ素子で使う抵抗メモリセル及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

Various motif such as a grape-patterned arabesque, exotic portraits and four gods (Seiryu [Blue Dragon], Byakko [White Tiger], Suzaku [red Chinese phoenix] and Genbu) having the roots in Greece, Persia, India, and China and others are carved on the pedestal of the principal statue, which can be regarded as the traces of the Silk Road. 例文帳に追加

中尊像の台座には、シルクロードの軌跡とも言うべく、ギリシャ、ペルシャ、インド、中国などに淵源をもつ葡萄（ぶどう）唐草文、異国風の人物像、四神（青龍、白虎、朱雀、玄武）などの意匠があしらわれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

What have been discovered in Makimuku Remains are as follows; the signs of a building considered to be built for ritual purposes and its pile marks on the ground; the ritual instruments, such as the rooster-shaped wooden products, the arc-patterned discs; large and small-scale water channels protected with wooden sheet piles made of Japanese cypress, which had been used as a distribution system. 例文帳に追加

現在発見されているのは祭祀用と考えられる建物と土抗、そして弧文円板や鶏形木製品などの祭祀用具、物流のためのヒノキの矢板で護岸された大・小溝（運河）などである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The dielectric layers 11 covering the data electrodes 6 are patterned in strips, gaps are to be made between each dielectric layer 11 and adjacent longitudinal partition walls, and the dielectric layers 11 are formed to be covered with phosphor layers 10.例文帳に追加

データ電極６を覆う誘電体層１１を帯状にパターン形成し、誘電体層１１と隣り合う縦隔壁７との間に隙間を有するようにし、さらに誘電体層１１を蛍光体層１０で覆うように形成する。 - 特許庁