「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

The problems are solved by pasting a stuff either on a substrate 1 through a colored adhesive 2C or on a colored substrate through an adhesive, wherein the stuff includes a transparent paper 4 with a patterned layer 3 appropriately formed on it and being impregnated with an impregnating resin composition.例文帳に追加

透明紙４に適宜、模様層３を形成し、含浸用樹脂組成物を含浸したものを、基材１上に着色接着剤２Ｃを介するか、着色基材上に接着剤を介して貼ることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

An oxide layer 12 is grown on a board 10 and patterned using a first resist as a mask, a tunnel part 24 is etched to expose a part of the board 10 located under the tunnel part 24, an ion-implanted region 18 is formed inside the board 10 by implantation of nitrogen ions, and then the resist is removed.例文帳に追加

基板１０上に酸化物層１２を成長させ第１レジストでパターニングしてトンネル部２４をエッチングして基板を露呈し、窒素イオンを注入して基板１０にイオン注入領域１８を形成した後レジストを除去する。 - 特許庁

After a two layer mask of an aluminum film 102 and an organic film resist 103 is formed on a silicon substrate 101 and patterned through exposure, development and wet etching, first time dry etching is performed to form a recess 104 including a level difference shape of one step.例文帳に追加

シリコン基板１０１上に、アルミニウム膜１０２と有機膜レジスト１０３の２層のマスクを形成し、露光、現像およびウェットエッチングを経てパターニングした後、１回目のドライエッチングを行い、１段の段差形状を含む凹部１０４を形成する。 - 特許庁

Before the pair of glass substrates 1 and 11 are stuck to each other, films on the respective glass substrates 1 and 11 are patterned so that films having absorption coefficients for laser light higher than those of the glass substrates are not present on the irradiation area of the laser light.例文帳に追加

このとき、一対のガラス基板１・１１を貼合わせる前に、レーザ光の照射領域にレーザ光に対する吸収係数がガラス基板よりも高い膜が存在しないように各ガラス基板１・１１上の膜をパターン形成する。 - 特許庁

The timepiece exterior parts can be easily manufactured by transferring a mold face on which the mirror face is machined or various patterns are applied onto a face a product which is not yet machined to provide the mirror face without grinding and polishing and the patterned face without machining such as honing satin.例文帳に追加

鏡面加工あるいは種々の模様付けを施した型面を非加工品面に転写し、研削・研磨加工なしで鏡面になり、ホーニング・サテン等の加工なしで模様付け面になるように、容易に時計外装部品を製造できる。 - 特許庁

The base 1 is provided with a transparent base 11 and conduction pattern parts 12 that are arranged on one face (a face of a fitting object-side to which the base is fitted, namely, a face of a display D-side) of the transparent base 11, and are patterned in prescribed shapes.例文帳に追加

基材１は、透明基材１１と、この透明基材１１の一方の面（基材が取り付けられる取り付け対象側の面、すなわち、ディスプレイＤ側の面）に設けられ、所定の形状にパターニングされた導電パターン部１２とを有する。 - 特許庁

A flexible circuit board 1 includes an insulation layer 2 having a first surface 2a and a second surface 2b facing away from each other, and a wiring layer 3 consisting of patterned conductors and arranged on the first surface 2a of the insulation layer 2.例文帳に追加

フレキシブル回路基板１は、互いに反対側に向いた第１の面２ａおよび第２の面２ｂを有する絶縁層２と、パターン化された導体よりなり絶縁層２の第１の面２ａ上に配置された配線層３とを含んでいる。 - 特許庁

Then, the contact electrode film 2 is patterned such that the contact region is segmented on nearly the entire rear surface of the substrate, more particularly, such that a collective pattern comprised of a number of squares is formed on nearly the entire rear surface of the substrate.例文帳に追加

そして、コンタクト電極膜２は、そのコンタクト領域が基板裏面の略全面にわたって細分化される態様でパターニングされ、詳しくは基板裏面の略全面にわたる多数の正方形からなる集合パターンをもって形成される。 - 特許庁

Here, before the etching process is applied, a portion where a contact hole is formed is covered above peripheral circuit elements constituting a peripheral circuit SK, and the second insulating film 512 is patterned so that a portion other than the portion is opened.例文帳に追加

ここでは、上記のエッチング処理の実施前に、周辺回路ＳＫを構成する周辺回路素子の上方においてコンタクトホールを形成する部分を被覆し、その部分以外の部分が開口するように、第２の絶縁膜５１２をパターン加工する。 - 特許庁

In a servo area 28, a magnetic layer 12 is separated into a plurality of servo pattern unit parts 30 forming specified servo patterns and servo pattern gap filling parts 32 patterned so as to partially fill gaps between the plurality of servo pattern unit parts 30.例文帳に追加

磁性層１２を、サーボ領域２８において、所定のサーボパターンをなす複数のサーボパターン単位部３０と、該複数のサーボパターン単位部３０の間を部分的に充填するようにパターニングしたサーボパターン間充填部３２と、に分離した。 - 特許庁

This method for producing a patterned inorganic burnt coating film by transfer technique comprises using such a mold 1 that the surface of a resin coating layer 3 having specified pattern grooves 4 provided on a mold substrate 2 is coated with an inorganic film 5.例文帳に追加

転写法によるパターン状無機質焼成被膜の製造方法において、成形型として、型基板２上に形成された所定のパターン溝４を有する樹脂被膜層３の表面に無機質被膜５がコーティングされてなる成形型１を用いる。 - 特許庁

A patterned resin layer 3 expressing a marble pattern is formed on the molding surface 2 of a casting mold 1 and, thereafter, a base resin composition 4 is injected in the casting mold 1 to be molded and cured to manufacture artificial marble.例文帳に追加

注型用金型１の成形面２に大理石柄を表現する模様付き樹脂層３を形成した後、注型用金型１内にベース樹脂組成物４を注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法に関する。 - 特許庁

The silicon layer (110) is masked with a mask sidewall that lies in parallel with the surface of the silicon layer (110), and is etched so as to remove unmasked portions and to leave the patterned silicon layer (110) having a vertical silicon sidewall (111).例文帳に追加

そして、シリコン（１１０）層面に平行なマスク側壁によってシリコン（１１０）層をマスキングし、そのマスクされていない部分を除去するためにシリコン（１１０）層をエッチングし、垂直シリコン（１１１）側壁を有するパターン形成されたシリコン（１１０）層を残す。 - 特許庁

To provide a washing method of a substrate and a substrate washing device which do not over-etch a thin insulating film, a lower film, inappropriately by effectively removing an etching residue and a metal polymer formed in a patterned metal surface on the substrate.例文帳に追加

基板上にパターン化された金属の表面に形成されたエッチング残留物や金属ポリマを効果的に除去し、下部膜である薄い絶縁膜を不適切にエッチングし過ぎない基板の洗浄方法及び基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor integrated circuit device, resist 20 is patterned on a semiconductor substrate 11 where a semiconductor circuit 12 is formed by a nano-imprint method so as to form an opening in a scribe area S using a stamper 30.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造方法においては、まず、半導体回路１２が形成された半導体基板１１上にナノインプリント法により、スタンパ３０を用いて、スクライブ領域Ｓに開口部を形成するようにレジスト２０をパターニングする。 - 特許庁

In this method of manufacturing a semiconductor element, a SiO_2 film 22 is patterned on a polysilicon film 21, a polysilicon film 23 is deposited to cover the SiO_2 film 22, and thereafter polysilicon electrodes 23a are formed on sidewall parts of the SiO_2 film 22.例文帳に追加

本発明の半導体素子の製造方法は、ポリシリコン膜２１上にＳｉＯ_２ 膜２２をパターンニングし、ＳｉＯ_２ 膜２２を覆うようにポリシリコン膜２３を堆積した後、ＳｉＯ_２ 膜２２の側壁部分にポリシリコン電極２３ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing discrete track media and patterned media, which enables a magnetic recording layer having excellent magnetic characteristics to be obtained without imparting damage to a crystal orientation control layer which becomes a surface when forming the magnetic recording layer.例文帳に追加

磁気記録層を形成する際の表面となる結晶配向制御層にダメージを与えることなしに、優れた磁気特性を有する磁気記録層を得ることができるディスクリートトラック媒体およびパターンド媒体の製造方法の提供。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display panel having a structure in which an interlayer insulating film above a common electrode is selectively patterned to form a through hole without damaging an ITO film to be formed into the common electrode, and the common electrode and a common lead electrode are directly connected.例文帳に追加

コモン電極となるＩＴＯ膜を損傷することなく、コモン電極上部の層間絶縁膜を選択的にパターニングしてスルーホールを形成し、コモン電極とコモン引き出し電極とを直接接続した構造を備えた液晶表示パネル。 - 特許庁

The method for forming a label on an object comprises steps of coating a surface of the object with optically variable ink and of bonding a patterned structure to the object with a light transmitting adhesive over the optically variable ink.例文帳に追加

物体の表面を光学的可変インクでコーティングするステップと、パターン化された構造を光学的可変インクの上から光透過接着剤を使用して物体に結合するステップとを含む、物体の上にラベルを形成する方法が提供される。 - 特許庁

The method for manufacturing the forming die 10 includes steps of: forming a pattern having a concave portion and a convex portion on a substrate 11; and etching the patterned substrate 11 to form a circular arc at the corner of the convex portion.例文帳に追加

この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a patterned building material with design having a pattern of diatom earth on its surface for allowing a customer to realize that the building material is matched to health consciousness, and capable of being used as an interior material without hanging wallpaper.例文帳に追加

顧客が健康志向にマッチした建材であることを実感できるように、表面に珪藻土によって形成された模様を有し、壁紙を貼ることなく内装材として使用可能な、意匠性を備えた模様付き建材を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

To provide a method of manufacturing patterned media such as discrete track media to be used for a high-density hard disk (HDD) in an ion injection method, which eliminates deterioration of surface flatness due to a resist residue which remains after removing a resist mask layer.例文帳に追加

高記録密度ハードディスク（ＨＤＤ）等に用いられるディスクリートトラックメディア等のパターンドメディアをイオン注入法において製造する方法において、レジストマスク層除去後に残存するレジスト残りによる表面平坦度の悪化を根絶する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing patterned media such as discrete track media to be used for a high-density hard disk drive, which removes a resist mask layer without deteriorating surface flatness due to a remaining resist mask.例文帳に追加

本発明は、高記録密度ハードディスクドライブに用いられるディスクリートトラックメディア等のパターンドメディアを製造する方法において、レジストマスク層を除去する際に、除去されずに残存するレジストマスクによる表面平坦度の悪化をなくすことを課題としている。 - 特許庁

The transparent sheet with the infrared absorption pattern comprises a visible light transmitting substrate, and a visible light transparent infrared reflecting layer and an infrared absorption patterned layer formed on the visible light transmitting substrate.例文帳に追加

可視光を透過する基材と、前記基材上に形成された可視光透明赤外線反射層およびパターン状の赤外線吸収層とからなることを特徴とする赤外線吸収パターン付透明シートにより上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a photocurable/thermosetting resin composition which is excellent in surface curability and deep-section curability and can be patterned by laser light having a wavelength of 350-410 nm and is usable as a solder resist for laser direct imaging.例文帳に追加

本発明は、表面硬化性と深部硬化性が優れ、波長が３５０〜４１０ｎｍのレーザー光によるパターン形成が可能であり、レーザー・ダイレクト・イメージング用ソルダーレジストとして用いることが可能な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After the edge property of the exposed photoresist layer is varied, an etching process is performed to the wafer by using the exposed photoresist layer as a mask, so as to make a patterned material layer having a uniform critical dimension formed on the wafer.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層のエッジプロパティを変化させた後、露光されたフォトレジスト層をマスクとして使用することによりウエハにエッチングプロセスを行い、ウエハ上に形成された均一な最小加工寸法を有するパターン化材料層を形成する。 - 特許庁

Interface oxide films 5 and 5a, a gate insulating film 6, a metal gate electrode 7 and a polysilicon gate electrode 8 are successively formed on an Si substrate 1 and are patterned, and a silicon oxide film 10 is formed on a side surface, and furthermore, a side wall 17 is formed.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上に、界面酸化膜５，５ａ、ゲート絶縁膜６、金属ゲート電極７およびポリシリコンゲート電極８を順次形成してパターニングし、側面にシリコン酸化膜１０を形成し、さらにサイドウォール１７を形成する。 - 特許庁

A water absorption-resistant ring AHR is constituted of a polysilicon layer 152 patterned to surround at least the fuse 151, and a first-layer metal 182 connected to the polysilicon layer 152 through the opening area 172 of an interlayer insulating layer 16.例文帳に追加

防湿リングＡＨＲは少なくともヒューズ１５１周辺を取り囲むようにパターニングされたポリシリコン層１５２、及びこのポリシリコン層１５２に層間絶縁層１６の開口領域１７２を介して接続された第１層金属１８２で構成される。 - 特許庁

The rigid board connection side vias 14a and 14h are provided at the position where the flexible wiring board is bent, for making the wiring patterned on the surface of a flexible sheet 11 conductive to such surface as no tensile stress of the flexible sheet 11 is applied.例文帳に追加

リジッド基板接続側ビア１４ａ、１４ｈは、フレキシブル配線基板が折り曲げられる位置に設けられ、フレキシブルシート１１の表面にパタニングされていた配線をフレキシブルシート１１の引っ張り応力がかからない面へ導通させる。 - 特許庁

To provide an exposure mask, with which three different layers having the same pattern arranged at a fixed interval can be patterned wit a single exposure mask, and to provide a method of producing a color filter substrate by using that mask.例文帳に追加

それぞれが同一のパターンを有し、互いに一定の間隔で配置された３つの異なる層を、単一の露光用マスクを用いてパターニングすることができる露光用マスクおよびそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate of an electrooptical device has a patterned light shading film 23 formed on a substrate 20 facing the substrate 10 on which switching elements are mounted, and electrodes 21 formed on the substrate 20 including the light shading film 23 and having planarized surfaces.例文帳に追加

スイッチング素子が形成された基板１０に対向する対向基板２０上に形成されるパターン化された遮光膜２３と、前記遮光膜２３を含む前記基板２０上に形成されて、表面が平坦化された電極２１とを具備した。 - 特許庁

The phase shift mask is formed by scanning an alignment groove with an electron beam, the groove patterned in a halftone film by using an alignment mark for a photomask, and then patterning a light shielding film by exposure to an electron beam to remove the scanning track.例文帳に追加

フォトマスク用アライメントマークを用いてハーフトーン膜にパターニングされたアライメント用溝部を電子ビームによりスキャンした後、スキャン跡を除去するように電子ビーム露光を用いて遮光膜をパターニングすることにより位相シフトマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is alkali-developable, has high sensitivity, gives a pattern without generating development scum, and can form a polyimide film which is patterned on a metal without corroding the base metal.例文帳に追加

アルカリ現像可能で、高感度であり、現像スカムを生じることなくパターンが得られ、かつ金属上でパターン加工を行った場合でも下地金属を腐食しないポリイミド膜を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A TiN film is formed on the whole face, the TiN film is patterned, and an upper electrode 41a of the capacitance element 44 and an extraction electrode 44b which externally connects the upper electrode 41a to the wire 39b of the layer 39 are formed.例文帳に追加

その後、全面にＴｉＮ膜を形成し、このＴｉＮ膜をパターニングして、容量素子４４の上部電極４１ａと、この上部電極４１を第３配線層３９の配線３９ｂに電気的に接続する引出配線４１ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film with a transparent conductive layer patterned in which deterioration of appearance due to difference of hue of reflection light between a pattern portion and the immediately below the pattern opening part can be controlled, and a touch panel using the same.例文帳に追加

透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁

When the plurality of fine particles are arranged on a substrate surface, the fine particles are arrayed in a self-aligning manner according to the particle size, and thereby, the nanocarbon material grown through the gaps among the fine particles grows while patterned on the substrate surface.例文帳に追加

複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己整合的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。 - 特許庁

To provide a bonding method by which two members can be bonded together through a bonding film after the bonding film is transferred to one of the members while the bonding film included in a bonding film transfer sheet is patterned into a predetermined pattern.例文帳に追加

２つの部材同士を、接合膜転写シートが備える接合膜を所定形状にパターニングした状態で、これらのうち一方の部材に転写した後、この接合膜を介して接合することができる接合方法を提供すること。 - 特許庁

This latent image-patterned form is of the following construction: a first pattern is formed by arranging a plurality of first recessed elements to the base material, and the first pattern is constituted of a latent image part formed to the first depth and a background part formed to the second depth different from the first depth.例文帳に追加

基材に、凹形状の第１の要素を複数配置して第１の模様を形成し、第１の模様は、第１の深度で形成される潜像部と第１の深度と異なる第２の深度で形成される背景部を備える構成とする。 - 特許庁

Using a highly flexible basic material, e.g. a polyimide resin sheet, heating resistors, discrete electrodes, signal input electrodes and a protective film are formed on one plane of the basic material using sputtering and a photolithographic process and then it is patterned.例文帳に追加

さらに、端面に発熱抵抗体を形成しパターニングを行う面が増える為、成膜やフォトリソの工数が増加するとともに、平面部と端面との電極の連続性を保つことも技術的に困難であり、量産性に問題があった。 - 特許庁

According to various embodiments, a system includes: a gasifier (106) that includes a shell (156) made of a first material exposed to a gasification region inside the gasifier; and a patterned anode layer (169) coupled to the shell (156) inside the gasifier (106).例文帳に追加

種々の実施形態によれば、システムは、内部のガス化領域に曝される第１の材料から作られたシェル（１５６）を含むガス化装置（１０６）と、ガス化装置（１０６）内部でシェル（１５６）に結合されるパターン形成されたアノード層（１６９）と、を備える。 - 特許庁

Then, the film 106 is patterned to form the film 106 into island-like silicon layers 108 and thereafter, a thermal oxidation treatment of the layers 108 is performed in an oxidizing atmosphere containing a halogen element, whereby island-like silicon layers 109 from which a trap level and a defect are removed, are obtained.例文帳に追加

次に単結晶シリコン薄膜１０６をパターニングして島状シリコン層１０８とした後、ハロゲン元素を含む酸化性雰囲気中で熱酸化処理を行うことで、トラップ準位や欠陥の除去された島状シリコン層１０９を得る。 - 特許庁

This method for producing the patterned honeycomb-formed porous material comprises a process of bringing the honeycomb-formed porous material consisting of a non-water soluble polymer in contact with a mold having a pattern consisting of a relief and/or slit to transfer printing the pattern on the honeycomb-formed porous material.例文帳に追加

非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び／又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて該パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法。 - 特許庁

To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

An intermediate layer 4 is patterned along an ink channel pattern into a serrated shape 5 having a large number of much smaller protrusions and recesses to the channel pattern, and at least a part of the serrated pattern adheres to an ink channel-forming member 8.例文帳に追加

中間層４がインク流路パターンに沿って、流路パターンに対してより微少な凹凸を多数有する鋸歯状５にパターニングされており、前記鋸歯パターンの少なくとも一部がインク流路形成部材８と密着する構成とする。 - 特許庁