Patternsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 21466件
The reinforcing members 4 are formed into the plane patterns of the meshes of various knitted fabrics such as tricot in a planar shape.例文帳に追加
そして、この補強部材4は、その平面形状がトリコットなどの各種編物の編目の平面パターンに象られている。 - 特許庁
In this case, position discrimination patterns are arranged on the pixel control lines or the video signal lines in the pixel circuit alternately or at plural intervals.例文帳に追加
この場合、画素回路内の画素制御線又は映像信号線に位置識別パターンを1又は複数飛ばしで配置する。 - 特許庁
A low permittivity layer 22 and an insulating layer 16B exist between coils 18A, 20A of the conductor patterns 18, 20.例文帳に追加
前記導体パターン18,20のコイル部18A,20Aの間には、低誘電率層22と絶縁体層16Bが存在している。 - 特許庁
To provide a feature extraction technique from image patterns that can obtain a high character identification performance with a small amount of data.例文帳に追加
少量のデータで高い文字識別性能がを得ることができる画像パターンからの特徴抽出技術を提供する。 - 特許庁
To provide a lithography apparatus that forms an accurate and consistent patterns on a substrate, and a method of manufacturing a device.例文帳に追加
正確で、且つ、矛盾のないパターンを基板に形成することができるリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
The multi-tone optical mask includes a light-blocking layer pattern formed on a base substrate and two or more semi-transmitting layer patterns.例文帳に追加
多重トーン光マスクは、ベース基板上に形成された光遮断層パターン、及び2個以上の半透過層パターンを含む。 - 特許庁
(1) Resist ink containing microparticles is used as the resist ink used for forming resist patterns by the direct resist drawing method.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、微粒子を含有したレジストインクを用いる。 - 特許庁
A stencil mask is composed of a membrane region having stencil patterns formed therein and a bulk region 102 surrounding the membrane region.例文帳に追加
ステンシルパターンが形成されるメンブレン領域と、前記メンブレン領域を取り囲むバルク領域102とからなるステンシルマスクである。 - 特許庁
To magnify a source image such that noise and patterns which are included in the source image and are inconspicuous before magnification are inconspicuous even after the magnification.例文帳に追加
拡大前の原画像に含まれ目立たなかったノイズや模様は拡大後も目立たないように原画像を拡大する。 - 特許庁
Besides, some or all images are extracted from stored photographed images to be also registrable as mask patterns.例文帳に追加
また、記憶されている撮影画像から一部の像または全部の像を抽出してマスクパターンとして登録することもできる。 - 特許庁
To provide a method for decomposing a target pattern to be printed on a wafer into multiple patterns upon using double patterning techniques.例文帳に追加
ダブルパターニングを使用する際に、ウェーハに印刷されるターゲットパターンを複数のパターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁
Alignment marks are formed at one part of region, except for the region where the absorber patterns are formed such as the peripheral part of a mask.例文帳に追加
マスクの周辺部等の吸収体パターンが形成される領域以外には、その一部にアライメントマークが形成されている。 - 特許庁
To solder an FP coil and an FP wiring board so that solder fusing and flowing at soldering is not connected to other patterns.例文帳に追加
FPコイルとFP配線板を半田付けする際に溶けて流れる半田が別のパターンと接続しないように半田付けする。 - 特許庁
Reinforcing patterns 11A, 14A, 17A, and 20A are formed in the same surface, as that in the wiring layer in a peripheral region R2 of the package.例文帳に追加
このパッケージの周辺領域R2において当該配線層と同じ面内に補強パターン11A,14A,17A,20Aが設けられている。 - 特許庁
The total width of the opposite projections 11, 11 and the gap 12 is not larger than the width of the wiring patterns 1a, 1b.例文帳に追加
対向する両突起部11,11とギャップ12との合計幅は、配線パターン1a,1bの幅より大きくなっていない。 - 特許庁
The patterns such as a scenery, postcard, calendar and mini-label selected from the menu are made composed with the established image, and the composite is made printed.例文帳に追加
このメニューから選択された背景、絵葉書、カレンダー、ミニラベルなどの絵柄と確定済みの画像とを合成して印刷する。 - 特許庁
Electrodes 3 are provided on the side walls of the patterns A1, B1, A2, and B2, and prescribed voltages are applied to them.例文帳に追加
そして、各パターンA1、B1、A2、B2の側壁部には、電極3が設けられ、図に示すような電圧が印加されている。 - 特許庁
Conductor patterns for inner-layer material are formed on both sides of an insulating substrate having a conductive hole packed with conductive paste.例文帳に追加
導電性ペーストを充填した導通穴を有する絶縁基板の両側に内層材用の導体パターンを形成する。 - 特許庁
Inductor patterns 54a and 54b have the same shapes, stacked by way of sheets 52 and constitute an inductor L1 of duplex structure.例文帳に追加
インダクタパターン54a,54bは同一形状であり、シート52を介して積層され、2重構造のインダクタL1を構成する。 - 特許庁
Thus, classification of types of nephric diseases is realized by comparing dye patterns of the megsin protein in the glomerular epithelial cell.例文帳に追加
このように、腎糸球体上皮細胞におけるメグシンタンパク質の染色パターンの比較による病型分類が可能となった。 - 特許庁
A MaxiCode symbol having a finder pattern is horizontally scanned so that the black and white patterns of the finder pattern can be read.例文帳に追加
ファインダーパターンを有するMaxiCodeシンボルに対して、水平方向に走査して、ファインダーパターンの白黒パターンを読み取る。 - 特許庁
The first and second patterns together define a resistive zone therebetween as an area on the first surface.例文帳に追加
第1及び第2のパターンは、一緒になって、それらの間に第1の表面上の1つの領域として抵抗ゾーンを定義する。 - 特許庁
Conductor patterns 9, 11, 15, 16, 20 having respectively the shapes obtained by the dividing of a coil 23 are provided respectively on insulating substrates 8, 14, 19.例文帳に追加
絶縁基板8,14,19には、コイル23を分割した形状を有する導体パターン9,11,15,16,20を設ける。 - 特許庁
To provide a pneumatic tire equipped with a high water draining effect without changing the tread patterns and exerting an enhanced anti- hydroplaning performance.例文帳に追加
トレッドパターンを変更することなく排水性を高め、耐ハイドロプレーニング性能の向上を図った空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁
In this way, tinned layers S1, S2 are formed so as to cover the surfaces of the wiring patterns W1 and the ground pattern G1.例文帳に追加
これにより、配線パターンW1およびグランドパターンG1の表面を覆うように錫めっき層S1,S2が形成される。 - 特許庁
Alignment marks AM1 to AM4 including a cross pattern and a plurality of concentric circular patterns are formed on an upper surface of the substrate 9.例文帳に追加
基板9の上面に、十字パターンと複数の同心円パターンとを含むアライメントマークAM1〜AM4が形成されている。 - 特許庁
To provide a control device of a particle accelerator, capable of speedily carrying out switching operation of acceleration patterns within one beam cycle.例文帳に追加
加速パターンの切替操作を1つのビームサイクル内で速やかに行える粒子加速器の制御装置を提供することである。 - 特許庁
The printed substrate 1 is composed of a plurality of circuit blocks, and ground patterns 2, 3, 4, 5 are formed on each circuit block respectively.例文帳に追加
プリント基板1は、複数の回路ブロックからなっており、各回路ブロックにはグランドパターン2、3、4及び5が形成されている。 - 特許庁
To improve throughput in compression mode control using discontinuous transmission patterns for handover between different frequencies.例文帳に追加
異なる周波数間のハンドオーバのための不連続送信パターンを用いた圧縮モード制御において、スループットの向上を図る。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus which improves superposition accuracy of function patterns and suppresses increase in the cost of an exposure apparatus.例文帳に追加
機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置の高騰を抑制しようとする露光装置を提供する。 - 特許庁
An edge space calculating part 134 calculates an edge space that is an interval of the annular patterns, based on coordinates of the edge point.例文帳に追加
このエッジ点の座標をもとに、エッジ間隔計算部134は円環パターンの間隔であるエッジ間隔を計算する。 - 特許庁
To enhance the excitement of a game by effectively presenting the variation of patterns in a special pattern game at the time of prize winning in a game machine.例文帳に追加
遊技機での入賞時に行われる特図ゲームでの図柄の変動を効果的に演出し、遊技の興趣を高める。 - 特許庁
The electrodes 14, 15 are made thicker than the connecting patterns 16, 17, and sliding parts 20, 21 are formed on the side with which the connector is insertion engaged.例文帳に追加
電極14,15は接続パターン16,17より厚くし、コネクタが嵌合される側には摺動部20,21が形成される。 - 特許庁
An image input part 101 reads patterns, provided in the prescribed area of a recognizing object 100 and inputs pattern images.例文帳に追加
画像入力部101は、認識対象物100の所定領域に有するパターンを読取ってパターン画像を入力する。 - 特許庁
Cantilever structures with the electron emission ends 31 of the emitter constituting patterns 32 lifted from the substrate 10 are made by removing the sacrifice layer hill 20.例文帳に追加
犠牲層丘20を除去し、エミッタ構成用パタン32の電子放出端31が基板10から浮いた片持ち梁構造を作る。 - 特許庁
The substrate 11 and a target substrate 22 are pressed to sequentially transfer the plurality of thin film patterns 14a, 14b to the target substrate 22 side.例文帳に追加
基板11とターゲット基板22とを押圧し、順次複数の薄膜パターン14a,14bをターゲット基板22側に転写する。 - 特許庁
To provide a superior positive type photoresist composition excellent in resolving power and developability and ensuring suppressed jumping of isolated patterns.例文帳に追加
解像力、現像性に優れ、とりわけ孤立パターン飛びが抑制された優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device, the method forming patterns with smaller spaces than an exposable limit dimension.例文帳に追加
露光可能限界寸法よりも小さい間隔のパターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The die for the clay which is constituted of a transparent plastic molded body wherein recess-shaped patterns are formed is provided.例文帳に追加
前記課題を解決するために、凹状の絵柄を形成した透明プラスチック成形体からなる粘土用押し型を提供する。 - 特許庁
Similar partial graphs frequently appearing in these stem graphs are extracted frequently appearing stem patterns representing RNA secondary structure motifs.例文帳に追加
それらステムグラフに頻出する類似した部分グラフが、RNA2次構造モチーフを表す頻出ステムパターンとして抽出される。 - 特許庁
To provide a mask for sequential lateral solidification preventing the deformation of patterns due to laser beams, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
レーザービームによるパターン変形を防止できる逐次的横方向結晶化用のマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Given circuit patterns 24, 34 are formed and electronic components are mounted on an inner face of each divided housing 20, 30.例文帳に追加
各分割ハウジング20,30の内面には、所定の回路パターン24,34が形成されると共に電子部品が実装されている。 - 特許庁
A pair of patterns 3 for center detection is arranged symmetrically to the center 7 of a code pattern 2 for scale in a disk 1.例文帳に追加
ディスク1において、目盛り用のコードパターン2の中心7に対称に一対の中心検出用パターン3を配置する。 - 特許庁
On the second insulating layer 42, a pattern W2 for wiring and wiring patterns R1 and R2 for reading are formed.例文帳に追加
第2の絶縁層42上に書込用配線パターンW2および読取用配線パターンR1,R2が形成されている。 - 特許庁
The information 14 indicates positions of a plurality of chip patterns in a reticle to be used in stepper lithography.例文帳に追加
露光ショット内位置情報14とは、ステッパー露光に使用するレチクル内の複数のチップパターンの位置を表す情報である。 - 特許庁
A substrate 1 where resist patterns are formed on the front and rear surfaces 1a and 1b is transferred in a state where it is stood vertically in an etching tank 10.例文帳に追加
表裏面1a,1bにレジストパターンが形成された基板1を、エッチング槽10内で鉛直に立てて搬送する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which process control is performed considering information on a plurality of masks with different patterns.例文帳に追加
パターンの異なる複数のマスクの情報を考慮したプロセス制御が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern recognition device for performing accurate pattern recognition by extracting features effective for identification from patterns.例文帳に追加
パターンから識別に有効な特徴を抽出することで高精度なパターン認識を行うパターン認識装置を提供する。 - 特許庁
The metal patterns can be one, two, or three dimensional and have high resolution resulting in feature sizes in the order of micron down to nanometers.例文帳に追加
このパターンは一次元、二次元または三次元で、高い解像度であり、ミクロンからナノメーターのオーダーの特徴サイズをもたらす。 - 特許庁
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