「RA」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The operation front case 11 of the operation case 3 has a second annular part 55 which wraps and holds the collar 61 around the rotation axis RA.例文帳に追加

操作筐体３の操作フロントケース１１は、回転軸ＲＡ回りにカラー６１を包んで保持する第２環状部５５を有する。 - 特許庁

The link ID of the record Ra is {nw11, nw12}, and the link ID of the record Rb is {nw98, nw99}.例文帳に追加

レコードＲａのリンクＩＤは、｛ｎｗ１１，ｎｗ１２｝であり、レコードＲｂのリンクＩＤは、｛ｎｗ９８，ｎｗ９９｝であるため、リンクＩＤは不一致である。 - 特許庁

In the pretreatment process, the surface roughness is adjusted to 1.0μm≤Ra≤3.0μm.例文帳に追加

そして、前処理工程においては、Ｒａ１．０μｍ以上３．０μｍ以下となるように表面の粗さが調整される。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the secondary structure surface possesses a region of 50 nm or less in a range of at least 0.25 μm standard length.例文帳に追加

二次構造体表面は、その算術平均粗さＲａが、少なくとも0.25μｍの基準長さの範囲において50nm以下である領域を有する。 - 特許庁

To provide apparatuses and methods for handling timers for RA update procedures or attachment procedures without integrity protection.例文帳に追加

完全性保護のないＲＡ更新手順又はアタッチ手順用のタイマを処理する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The protective glass sheet 2 and the glass substrate 3 preferably have surface roughness Ra of each contact surface side being ≤2.0 nm.例文帳に追加

好ましくは、前記保護ガラス２及び前記基板ガラス３の夫々の接触面側の表面粗さＲａは２．０ｎｍ以下である。 - 特許庁

After deciding the candidate artery region Ra, a candidate region for lesion Rp is decided based on a TTP image A1 to An.例文帳に追加

動脈候補領域Ｒａを決定した後、ＴＴＰ画像Ａ１〜Ａｎに基づいて、病変部の候補となる病変部候補領域Ｒｐを決定する。 - 特許庁

The cutting tool 2 rotates about a rotation axis RA, and its tip end part has a tapered shape.例文帳に追加

この切削工具２は、その回転軸ＲＡを中心に回転し、その先端部分が先細りな形状を呈している。 - 特許庁

The intermediate transfer belt 14 is configured such that surface roughness is at least Ra=0.08 μm or more and Rz=0.8 μm or more.例文帳に追加

中間転写ベルト１４は、表面の粗さが少なくともＲａ＝０．０８μｍ以上で且つＲｚ＝０．８μｍ以上であるように構成される。 - 特許庁

On a surface of a steel sheet having an arithmetic average roughness Ra of ≤0.3 μm, a coating material is applied by a roll coating method and glazed.例文帳に追加

算術平均粗さＲａが０.３μｍ以下の鋼板の表面に、塗料をロールコート法で塗布し、塗料を焼き付ける。 - 特許庁

To provide a tunnel junction type magnetoresistive effect element with little degradation of an MR ratio in a region where area resistance RA is ≤1.0 Ωμm^2.例文帳に追加

面積抵抗ＲＡが１．０Ωμｍ^2以下の領域で、ＭＲ比の劣化の少ないトンネル型磁気抵抗効果素子を得る。 - 特許庁

The thick conductor layer 2 has its surface flattened by wet blast processing to a surface roughness Ra of at most 0.02 μm.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

A lock-on switch provided in an operation part is pushed when a portion such as the lesion part comes within the assigned area frame Ra.例文帳に追加

この指定領域枠Ｒａ内に病変部などの部位が入ったときに、操作部に設けられたロックオンスイッチを押圧する。 - 特許庁

When receiving a control signal Im1 from a tempo operator 18, the control unit 100 extracts a numeric value Ra included in the control signal Im1.例文帳に追加

また、制御部１００は、テンポ操作子１８から制御信号Ｉｍ１を受け取ると、これに含まれる数値Ｒａを抽出する。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the conductor layer 10 on the opposite non-contacting surface side of the first insulating layer 21 is 0.1 μm or less.例文帳に追加

導体層１０の第一絶縁層２１と反対側の非接着面側の表面粗度Ｒａは０．１μｍ以下になっている。 - 特許庁

To obtain a TMR head which allows reduced deterioration in the MR ratio in a region in which area resistance RA of a TM sensor is 1.0 Ωμm^2 or less.例文帳に追加

ＴＭＲセンサの面積抵抗ＲＡが1.0Ωμm^2以下の領域で、ＭＲ比の劣化の少ないＴＭＲヘッドを得る。 - 特許庁

Herewith, it is verified by actual measurement that the arithmetic average roughness (Ra) of the surfaces of the corner cut parts or orientation flat parts attains to 0.8-1.0 μm.例文帳に追加

これにより、コーナーカット部又はオリフラ部の面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．８〜１．０μｍとなることが実測により確認された。 - 特許庁

The desiccant air conditioning system may be of a type which does not include the cold water coil 4 or of a type wherein the return air RA does not return to air on the process side.例文帳に追加

また、冷水コイル４を備えないタイプであってもよく、還気ＲＡを処理側の空気に戻さないタイプであってもよい。 - 特許庁

Part of the return air RA may be discharged to the outside world and only small amount of part of the outside air OA may be mixed with the supply air SA side.例文帳に追加

なお、還気ＲＡの一部を外界へ排出したり、外気ＯＡの一部を少しだけ給気ＳＡ側に混ぜるようにしたりしてもよい。 - 特許庁

The collecting roller 23 is made of a metal, and has a surface roughness Ra of ≥0.08 μm.例文帳に追加

回収ローラ２３は、材質が金属で、表面粗さがＲａ０．０８μｍ以上の範囲であることを特徴とする。 - 特許庁

Next, the average roughness Ra of the center line on the surface of the raceway 1c is finished to be ≥0.35 μm by turning.例文帳に追加

次いで、旋削によって当該軌道部１ｃの表面の中心線平均粗さＲａを０．３５μｍ以上に仕上げる。 - 特許庁

If the desired PER characteristics can be acquired, it is judged whether or not the characteristics can be acquired when the communication is performed in PHY(k+1, RA[J, k+1]).例文帳に追加

所望のＰＥＲ特性が得られる場合には、通信をPHY（k+1,RA[j,k+1]）にて行った場合に所望の特性が得られるかどうかを判断する。 - 特許庁

A minute irregularity surface having a surface roughness Ra of 0.1-10 μm is formed on an adhesive surface 36 of a sealing glass 32 by shot blast.例文帳に追加

ショットブラストによって、封止ガラス３２の接着面３６に、面粗度Ｒａ＝０．１〜１０μｍとなる微小の凹凸面を設けた。 - 特許庁

The arithmetic average roughness (Ra) and the maximum projection height (Rp) on a second surface of the base material 11 are preferably 5-50 nm and 40-300 nm, respectively.例文帳に追加

基材１１の第２の面における算術平均粗さ（Ｒａ）は、５〜５０ｎｍであり、最大突起高さ（Ｒｐ）は、４０〜３００ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the first main surface of the GaN substrate is set at 20 nm or smaller and that of the second main surface set to 20 μm or smaller.例文帳に追加

ＧａＮ基板の第１の主面の表面粗さＲａを２０ｎｍ以下、第２の主面の表面粗さＲａを２０μｍ以下とする。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the upper and lower planes 14 and 15 of the pedestal 10 is preferably 0.23 μm or less.例文帳に追加

台座１０の上・下平面１４、１５の表面粗さは、Ｒａが０．２３μｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁

A nozzle for applying the paste on spaces between the ribs Ra of the substrate K is provided with a distance sensor (for example, non-contact type triangulate sensor) 19.例文帳に追加

かかる基板ＫのリブＲａ間にペーストを塗布するノズルには、距離センサ（例えば、非接触式三角測式センサ）１９が設けられている。 - 特許庁

In order to attain sufficiently high level of effects, the surface roughness of the ribbon should preferably be 0.45μm or less as measured by Ra.例文帳に追加

また、本発明の効果を十分に発揮するためには、その表面粗さをＲａで０．４５μｍ以下とすることが好ましい。 - 特許庁

The plain glass 10 has a surface to which surface-roughening processing is applied by etching so that arithmetic average roughness Ra is, for example, 0.7nm-70nm.例文帳に追加

素ガラス１０は、エッチングにより算術平均粗さＲａが例えば０．７ｎｍ〜７０ｎｍになるように粗面化処理された表面を有する。 - 特許庁

A flatness of the polished glass substrate 15 is 10 μm or less, and a surface roughness (Ra) is set 0.0005-0.05 μm.例文帳に追加

研磨されたガラス基板１５の平面度を１０μｍ以下、且つ表面粗さ（Ｒａ）を０．０００５〜０．０５μｍにする。 - 特許庁

The porous silica film has a pore diameter of 0.5-100 nm, a void content of 35% or more and surface roughness Ra of 10 nm or less.例文帳に追加

空孔径０．５〜１００ｎｍ、空隙率３５％以上であり、かつ表面粗さＲａ＝１０ｎｍ以下であることを特徴とする多孔性シリカ膜。 - 特許庁

It is preferable that surface coarseness in each contact surface contacting with the O-ring in the wafer holder and the flange is ≤2.0 μm by Ra.例文帳に追加

ウエハ保持体及びフランジ部のＯ−リングと接触する各接触面の表面粗さは、Ｒａで２.０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The permission upper limit value of surface roughness of a rolling surface of the outer ring 51 is 0.3 μm at a central line average roughness (Ra) and 0.2 μm at a lower limit value.例文帳に追加

外輪５１の転走面の面粗度の許容上限値は、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．３μｍであり、下限値が０．２μｍである。 - 特許庁

The fluid resin raw material M is poured into the storing chamber Ra from a raw material pouring opening 55e formed on the second storing chamber forming body 552.例文帳に追加

前記第２貯留室形成体５５２に形成された原料注入口５５ｅから流動性樹脂原料Ｍを貯留室Ｒａに注入する。 - 特許庁

The surface of the base material 1a is adjusted so that the arithmetic mean roughness Ra is ≤0.5 μm and a maximum roughness Rz is ≤5 μm.例文帳に追加

基材１ａの表面は算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、最大粗さＲｚが５μｍ以下となるように調整されている。 - 特許庁

Preferably, the surface mean roughness (Ra) after the pickling is 1.5 to 2.5 μm, and Rmax is 10 to 20 μm.例文帳に追加

また、酸洗後の表面平均粗度（Ｒａ）が１．５μｍ以上２．５μｍ以下で、Ｒmax が１０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the polished margin part 52 is set to be the range of 0.1 μm to 0.3 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工が施されたマージン部５２の表面粗さＲａを、０．１μｍ〜０．３μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

In a dielectric element 1a, a side face 2E is roughened so that the surface roughness Ra is 15 nm or greater.例文帳に追加

誘電体素子１ａにおいて、側面２Ｅの表面粗さＲａが１５ｎｍ以上と粗面化されている。 - 特許庁

The surface state of the side face of the rib 4a may have a surface coarseness Ra of 6 μm or less.例文帳に追加

また、前記リブ部４ａの側面の表面状態は、表面粗さＲａが６μｍ以下になるようにしてもよい。 - 特許庁

The surface of the thick film conductor layer 2 is flattened to surface roughness Ra of 0.02 μm or less by wet-blast treatment.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

Roughness of at least one of the sides of the film is 0. 02-1 μm in center line average roughness (Ra).例文帳に追加

また、前記ポリエステルフィルムは少なくとも片面の粗さが、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．０２〜１μｍである。 - 特許庁

It is desirable that arithmetic surface roughness (Ra) on the surface 133A of the board 133 is set to be 1 to 10 μm.例文帳に追加

防着板１３３の表面１３３Ａも、算術表面粗さ（Ｒａ）が１μｍ以上１０μｍ未満とされていることが好ましい。 - 特許庁

As the metallic foil, one having a surface roughness Ra of 1.5 μm-20 μm on the adhesive layer 5 side is used.例文帳に追加

金属箔として、接着層５側の表面粗さＲａが１．５μｍ〜２０μｍの範囲のものを用いる。 - 特許庁

A conveying pallet P is housed in a housing part Ra of a conveying rail R so as to move in a longitudinal direction.例文帳に追加

搬送パレットＰは、搬送レールＲの収容部Ｒａ内にその長手方向に移動可能に収容される。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the discharge processing roll is 1.8-3.2 μm and PPI thereof is 150-300.例文帳に追加

前記放電加工ロールは、表面粗さＲａが１．８〜３．２μｍかつＰＰＩが１５０〜３００の範囲内にある。 - 特許庁