「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

The sputtering method has a sub-process area 23 set at a position in the vicinity of a main process area 22 set according to a region to have the circuit corrected and the sub-process area 23 is sputtered before the main process area 22.例文帳に追加

回路修正を行う範囲に対応して設定されるメイン加工エリア２２の近傍位置にサブ加工エリア２３を設定し、メイン加工エリア２２に先立ってサブ加工エリア２３を事前にスパッタする。 - 特許庁

The protection film formed on the organic compound layer has 70 to 100% transmission factor, preventing damage applied to the organic compound layer when the positive electrode is deposited by a sputtering method.例文帳に追加

なお、有機化合物層上に形成された保護膜は、透過率が７０〜１００％であり、また、陽極をスパッタリング法により成膜する際に有機化合物層に与えられるダメージを防ぐことができる。 - 特許庁

In the target material used for a sputtering method, the edge parts thereof are made into an inclination of 5 to 85 degrees, and at least two pieces of the target materials are joined by hot isostatic press (HIP) to obtain the large target material.例文帳に追加

スパッタリング法に使用されるターゲット材において、該ターゲット材の端部を５度〜８５度の傾斜角とし、熱間等方加圧焼結（ＨＩＰ）により、少なくとも２枚を接合してなる大型ターゲット材。 - 特許庁

To provide a sputtering target which can be produced at a low cost and in which abrasive grains or the like are effectively removed, further, the generation of particles is prevented, and initial stability is remarkably improved, and to provide its production method.例文帳に追加

研磨粒などを有効に除去すると共にパーティクルの発生を防止し、初期安定性を著しく向上させ、且つ低コストで製造できるスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which has abrasive particles effectively removed therefrom, does not form particles, thereby has improved initial stability and can be inexpensively manufactured, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

研磨粒などを有効に除去すると共にパーティクルの発生を防止し、初期安定性を著しく向上させ、且つ低コストで製造できるスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a Co-type sputtering target material of low magnetic permeability for magnetic recording medium by which the deposition of a high-performance thin film is made possible without deteriorating the magnetic properties of the thin film.例文帳に追加

薄膜の磁気特性を劣化させることなく、高性能な薄膜の作製を可能にした磁気記録媒体用低透磁率スパッタリングＣｏ系ターゲット材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a cylindrical sputtering target in which a joining material can be densely filled, and also, occurrence of cracking and chipping upon production can be remarkably reduced.例文帳に追加

本発明の課題は、接合材を密に充填でき、且つ製造時の割れ、欠けの発生を著しく低減することができる円筒形スパッタリングターゲットの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical disk capable of giving a change in a color to the optical disk as a product, by providing a colored layer that cannot be assumed heretofore by sputtering, and to provide the optical disk thereof.例文帳に追加

これまでには想定し得なかった着色層をスパッタリングにより設け、製品としての光ディスクに色彩の変化を与えることができる光ディスクの製造方法および光ディスクを提供する。 - 特許庁

By this method, sputtering becomes possible over a wide range on a copper spacer layer for realizing a desirable ferromagnetic coupled magnetic field (HF) between the pinned layers and free layers in a spin valve sensor.例文帳に追加

この方法により、スピン・バルブ・センサにおけるピンド層構造とフリー層構造との間に望ましい強磁性結合磁界（ＨＦ）を実現するための、銅スペーサ層のより広範囲な付着時間が可能になる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for welding which automatically regulates a wire heating current so as to hold a suitable wire melting state by more reducing occurring frequency of sputtering in hot wire welding.例文帳に追加

ホットワイヤ溶接においてスパッタの発生頻度をより少なくして適正なワイヤ溶融状態に保つように、ワイヤ加熱電流の自動調整を行う溶接方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide a reactive sputtering device capable of forming a thin film in which target atoms and reactive gas are sufficiently reacted on the surface of a substrate without reducing the film forming rate and to provide a method therefor.例文帳に追加

成膜速度を低下させることなく、ターゲット原子と反応性ガスとが十分に反応した薄膜を基板の表面に形成することのできる反応性スパッタリング装置とその方法を提供する。 - 特許庁

The Ge nanoparticle is formed by a high-speed sputtering method and has a particle size of 5-50 nm and emits light by infrared rays with a wavelength of 700-1,700 nm.例文帳に追加

高速スパッタリング法により形成されたＧｅナノ粒子であって、粒子サイズが５〜５０ｎｍであり、且つ７００〜１７００ｎｍの赤外光により発光することを特徴とするＧｅナノ粒子。 - 特許庁

To provide a sputtering target for a permanent magnet thin film which can improve the magnetic properties of a permanent magnet thin film such as an Nd-Fe-B based permanent magnet thin film, and a method for producing the same.例文帳に追加

Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石薄膜などの永久磁石薄膜の磁気特性を向上させることができる、永久磁石薄膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element having a diaphragm structure, in which when covering a wafer with a metal mask and sputtering the wafer, the position of the metal mask for covering the wafer can be accurately determined.例文帳に追加

ウエハをメタルマスクで覆ってスパッタリングを行う際に、ウエハを覆うメタルマスクの位置を精度良く定めることができるダイヤフラム構造体を有する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Si and Mo tend to react, and an MoSix layer 13 whose thickness is about 1 nm is generated on border when alternately depositing is performed by a sputtering method etc., so that deriving is difficult in reflecting property as design.例文帳に追加

ＳｉとＭｏは反応しやすく、スパッタリング法等によって交互に成膜すると境界に略１ｎｍの膜厚のＭｏＳｉｘ層１３が発生し、設計通りの反射特性を得るのが難しい。 - 特許庁

When the electrolyte material is coated on the base plate by the sputtering method, the base plate is heated and a bias for the base plate is set to manufacture the single cell for the solid oxide fuel battery.例文帳に追加

電解質材料を、基板部にスパッタ法を用いて電解質層を被覆するときに、当該基板部を加熱し且つ基板部バイアスを設定して、固体酸化物形燃料電池用単セルを製造する。 - 特許庁

A magnetic medium having the coercive force of 20kOe or more is provided by raising a substrate temperature and depositing an alloy thin film on a substrate in a temperature area where atom diffusion is active by a sputtering method.例文帳に追加

基板温度を上昇させて原子拡散の活発な温度領域で基板上に合金薄膜をスパッタ成膜することによって、２０ｋＯｅ以上の保持力を持つ磁気媒体を提供。 - 特許庁

An antenna coil is directly formed on a base material of an IC card by using a selective film forming system represented by a jet printing method, vacuum deposition using a metal mask and sputtering.例文帳に追加

ＩＣカード基材の上に、ジェットプリンティング方式や、メタルマスクを用いた真空蒸着またはスパッタリングなどを代表とする、選択成膜方式を用いることにより、アンテナコイルを直接形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing optical thin film in which an ion beam 116 is applied to a target 115 and an optical thin film made of multilayer film is formed on a body 119 to be treated by sputtering has the following process.例文帳に追加

イオンビーム１１６をターゲット１１５に照射し、スパッタリングによって被処理物１１９に多層膜による光学薄膜を成膜する光学薄膜の製造方法を、つぎのように構成する。 - 特許庁

As for the method for manufacturing an oxide optical crystal thin film, reactive sputtering which uses the metal target containing only a metal component in the oxide and the reactive gas consisting of oxygen is adopted.例文帳に追加

酸化物の光学結晶薄膜を製造する方法として、酸化物中の金属成分のみを含有する金属ターゲット及び酸素から成る反応性ガスを用いた反応性スパッタリングを採用した。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-purity molybdenum-tungsten alloy powder suitable for a raw powder to be used when producing a sputtering target for forming a film of a liquid crystal and a semiconductor.例文帳に追加

液晶、半導体成膜用等のスパッタリングターゲットを作製する際に用いられる原料粉末として好適な、高純度モリブデン−タングステン合金粉末の製造方法を提供すること - 特許庁

Fe is deposited through a sputtering method on an Si substrate 1 heated up to a temperature of 1,000°C, Si contained in the Si substrate is made to react with Fe to form an α-FeSi2 layer 17 on the Si substrate 1.例文帳に追加

１１００℃に加熱したｎ型のＳｉ基板１上に、スパッタ法によりＦｅを堆積し、Ｓｉ基板１のＳｉとＦｅとを反応させて、Ｓｉ基板上にα−ＦｅＳｉ_2層１７を形成する。 - 特許庁

By a sputtering method, a lower-electrode formation film 15A, whose film thickness is about 20 nm and which is composed of platinum, is deposited over the whole face including the bottom face and the wall surface of openings 14a in an upper interlayer insulating film 14.例文帳に追加

スパッタ法により、上部層間絶縁膜１４の開口部１４ａの底面及び壁面を含む全面に、膜厚が約２０ｎｍの白金からなる下部電極形成膜１５Ａを堆積する。 - 特許庁

To provide a method for adding a new means of increasing degree of vacuum to a film deposition chamber for sputtering, CVD and vapor deposition and to improve the throughput of the system.例文帳に追加

本願発明は、スパッタ成膜、ＣＶＤ成膜，蒸着成膜チャンバーに新たな真空度を高める手段を追加する方法を提供し、装置のスループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a combinatorial method for forming a film, which precisely controls various film-forming conditions in a sputtering process, and efficiently produces a coating film in different film-forming conditions, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

スパッタ法などにおける様々な成膜条件を精確に制御し、成膜条件の異なるコーティング膜を効率的に製造することができるコンビナトリアル成膜方法とその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a gas discharge display device and a plasma address liquid crystal display device in which the deterioration of display quality due to the sputtering of cathode layer is prevented and suppressed, and to provide a manufacturing method for the same.例文帳に追加

陰極層のスパッタリングに起因する表示品位の低下が防止・抑制された気体放電表示装置およびプラズマアドレス液晶表示装置ならびにその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a means for efficiently implementing the maintenance method of a vacuum film deposition apparatus, in particular, the method of a system vent when executing maintenance of an in-line type sputtering apparatus under a necessary and sufficient condition, and to provide an optimal vacuum film deposition apparatus.例文帳に追加

真空成膜装置のメンテナンス方法、とりわけ、インライン式スパッタ装置をメンテナンスする場合のシステムベントの方法を必要かつ充分な条件で効率的に行うための手段を提供し、最適な真空成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a transparent insulation film which is thin and has excellent voltage resistance property, and to provide the transparent insulation film produced by the same, and a sputtering target which is used in the production method of the transparent insulation film.例文帳に追加

薄膜で耐圧特性の優れる透明絶縁膜の製造方法、及び該透明絶縁膜の製造方法により製造される透明絶縁膜を提供し、また前記透明絶縁膜の製造方法に用いられるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic thin film capable of performing a regulation at a low temperature rather than a Pt-Fe duality system alloy film, even if any special treatment isn't carried out in physical vapor growth methods for forming general film such as a sputtering method and a deposition method or the like.例文帳に追加

一般的な成膜方法であるスパッタリング法や蒸着法等の物理的気相成長法において、特殊な処理をしなくても、Ｐｔ−Ｆｅ二元系合金膜よりも低温で規則化することができる磁性薄膜を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the barrier laminate having at least one layer of an organic layer and at least one layer of an inorganic layer on a plastic film support, the organic layer is film-formed by a sputtering method while applying a bias to the support.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有するバリア性積層体を製造する方法において、支持体にバイアスを印加しながら前記有機層をスパッタリング法によって成膜する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a diamond-like carbon film which is lowered in a coefficient of friction and is raised in hardness by a method of small surface roughness and little in lowering of a deposition rate by sputtering.例文帳に追加

表面粗さが小さく、自己スパッタによる成膜レートの低下が少ない方法で、摩擦係数を低下させ、且つ硬度を上昇させたダイヤモンド状炭素被膜を形成することができるダイヤモンド状炭素被膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

A sputtering method is used as a nucleus sticking method when forming a detecting electrode composed of platinum on an outer wall of a base body via the nucleus sticking process for sticking a nucleus of platinum to the outer wall of the base body and a growth process for growing the stuck nucleus.例文帳に追加

基体の外壁に白金の核を付着させる核付け工程と、付着した核を成長させる成長工程とを経て、基体の外壁に白金からなる検出電極を形成する際、核付け工程としてスパッタ法を用いる。 - 特許庁

A method for manufacturing the platinum film comprises the steps of forming a seed film in the groove by sputtering metal platinum as a target material, and then decomposing vapor of an organic platinum compound, such as dimethyl platinum cyclooctadiene or the like on the sheet film, through organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加

この白金膜は金属白金をターゲット材にしてスパッタリングにより溝にシード膜を形成した後、シード膜上に有機金属化学蒸着法によりジメチル白金シクロオクタジエン等の有機白金化合物の蒸気の分解により製造する。 - 特許庁

To prepare an amorphous Si thin film produced on a substrate by atmospheric plasma CVD capable of film deposition at a high speed ≥10 times that in the conventional film deposition methods such as an RF sputtering method and a plasma CVD method under the reduced pressure.例文帳に追加

ＲＦスパッタリング法、減圧下でのプラズマＣＶＤ法等の従来の成膜方法による成膜速度より１０倍以上の高速成膜が可能な大気圧プラズマＣＶＤによって基板上に作製したアモルファスＳｉＣ薄膜を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein the magnetic layer having at least a granular structure is deposited on at least one surface of a support, the magnetic layer is deposited by a DC pulse sputtering method.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の面に、少なくともグラニュラ構造を有する磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、上記磁性層は、ＤＣパルススパッタ法により形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method comprises depositing a film of the phosphor emitting light by the irradiation with electrons on a substrate, and the deposition of the film of the phosphor is performed while applying a bias power to the substrate by a sputtering method.例文帳に追加

電子を照射することにより発光する蛍光体を基板上に成膜する方法であって、前記蛍光体の成膜をスパッタリング法により前記基板にバイアス電力を印加しつつ行うことを特徴とする蛍光体の成膜方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a plasma display panel, the method for stably manufacturing the high quality plasma display panel, because a protective film which has sputtering resistance and is excellent on secondary electron emission characteristics, is stably manufactured.例文帳に追加

耐スパッタ性を有した２次電子放出特性に優れた保護膜を安定して生産することが可能となり、高品質のプラズマディスプレイパネルを安定して生産することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL element comprises a process 1 of vapor-depositing a material containing alkali metal or alkali earth metal on the surface of a sputter target for a cathode electrode material, and a process 2 of forming a cathode electrode film by a sputtering method.例文帳に追加

カソード電極材用スパッタターゲット表面に、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属元素を含む材料を蒸着する工程１と、カソード電極をスパッタ成膜する工程２を有する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for optical media which includes relatively inexpensive aluminum as a principle component, in which no rare earth metal is used, and which is excellent in surface smoothness, a method of manufacturing the same, and an optical medium and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

比較的価格の安いアルミを主成分としかつ希土類金属を使用しない、表面平滑性に優れた光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、及び、光メディア及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus capable of producing an electrolyte thin film free from damage to the surface due to energy in plasma, to provide a method for producing a solid electrolyte thin film using the apparatus, and to provide a method for producing a thin film solid lithium ion secondary battery.例文帳に追加

プラズマ中のエネルギによる表面のダメージがない薄膜電解質を製造できるマグネトロンスパッタ装置、この装置を用いて固体電解質薄膜を製造する方法、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To reduce with superior reproducibility in-plane uniformity of a TaN film to be used as a barrier layer of a semiconductor element by a method wherein the peak intensity in a specified direction measured by an X rays diffraction method is specified on the surface of a sputtering target composed of high pure TaN.例文帳に追加

Ｃｕ配線のバリア層などとして用いられるＴａＮ膜において、膜厚の面内均一性を例えば5%以下とすることが望まれており、そのようなＴａＮ膜を再現性よく得ることを可能にしたスパッタターゲットが求められている。 - 特許庁

To provide a pulsed direct-current sputtering film deposition method which can perform film deposition securing high film performance in terms of film thickness, film quality or the like on the inner wall faces of a contact hole, a through-hole, a wiring groove or the like, and to provide a film deposition apparatus for the method.例文帳に追加

コンタクトホールやスルーホール、配線溝等の内壁面に対して、膜厚や膜質などの点で高い膜性能を確保した成膜を行い得るパルス状直流スパッタ成膜方法及びこの方法のための成膜装置を提供する。 - 特許庁

When niobium metal is used as a target and a niobium oxide thin film is deposited on the surface of a base material by a sputtering method, the amount of a reactive gas to be introduced is controlled by a plasma emission monitoring (PEM) method, and the strength of plasma generated from the niobium metal is controlled.例文帳に追加

ニオブメタルをターゲットとして、スパッタリング法により基材表面に酸化ニオブ薄膜を成膜する際に、プラズマエミッションモニタリング（ＰＥＭ）法により反応性ガスの導入量を調整し、前記ニオブメタルから発生するプラズマの強度を制御する。 - 特許庁

As to the method for forming a laminated film in which metallic oxide thin films and metallic thin films are deposited on a substrate in a laminated manner by a sputtering method, the concentration of oxygen in an atmospheric gas at the time of depositing the metallic oxide thin films is controlled to 5 to 15 vol%.例文帳に追加

スパッタリング法により、基板上に金属酸化物薄膜と金属薄膜とを積層形成する積層膜の形成方法において、金属酸化物薄膜を形成する際の雰囲気ガス中の酸素濃度を５〜１５ｖｏｌ％とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for manufacturing a perpendicular magnetic recording medium with stable product quality by organizing a production apparatus to conduct stable surface working and a manufacturing method to install the surface working in-line immediately before a sputtering step.例文帳に追加

安定した表面加工を行う生産装置と、それをスパッタ工程の直前にインラインで構成する製造方法の構築により、安定した製品品質の垂直磁気記録媒体が生産できる製造方法、及び装置を提供する。 - 特許庁