「alignment position」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To perform highly accurate alignment between a mask and a substrate in a short time by quickly and highly accurately detecting a position of an alignment mark on the mask and a position of an alignment mark on a base pattern of the substrate.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を迅速に精度良く検出して、マスクと基板との位置合わせを短時間で高精度に行う。 - 特許庁

A mask alignment scope 11 is loaded on a wafer stage 31 and an alignment mark position on a mask 20 is detected.例文帳に追加

ウエハステージ３１上にマスクアライメントスコープ１１を搭載し、マスク２０上のアライメントマーク位置を検出する。 - 特許庁

Prealignment is performed, based on the alignment position O1, O2 in step S33.例文帳に追加

ステップＳ３３では、アライメント位置Ｏ１、Ｏ２に基づきプリアライメントを行う。 - 特許庁

The position of the feature in the alignment region is known from design.例文帳に追加

アライメント領域内におけるフィーチャの位置は、設計から既知である。 - 特許庁

To accurately measure the position of an alignment mark located at a lower surface of a substrate.例文帳に追加

基板の下面に位置するアライメントマークの位置を正確に測定する。 - 特許庁

To provide a method for position alignment which makes an accurate position alignment possible, an exposure system using the same, and an offset measurement device suitable for the system.例文帳に追加

正確な位置合わせを可能とする位置合わせ方法とそれを用いた露光装置と、それに好適なオフセット計測装置を提供する。 - 特許庁

To decrease a fault error in a position alignment in a microelectronic machine system.例文帳に追加

微小電子機械システムにおける位置合わせ不良誤差を低減する。 - 特許庁

The object has a plurality of alignment marks clarifying a determined position.例文帳に追加

オブジェクトは、所望の位置が分かっている複数のアラインメントマークを有する。 - 特許庁

GLASS SCALE, AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT METHOD AND DEVICE USING IT例文帳に追加

ガラススケール及びそれを用いたメタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁

When the alignment of liquid crystal molecules inside a pixel is divided into plural ones with an alignment division means, an alignment boundary line is generated at a certain position inside the pixel.例文帳に追加

配向分割手段を用いて画素内の液晶分子の配向を複数に分割すると、画素内のいずれかの位置に配向の境界線が生じる。 - 特許庁

To recognize highly accurately the position of an alignment mark whose shape is not completely uniform with respect of the technology of recognizing the position of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置を認識する技術に関し，形状が完全には一様でないアライメントマークの位置を高い精度で認識することを目的とする。 - 特許庁

To provide an accurate position alignment even if an object to be aligned has unevenness.例文帳に追加

位置合わせする物体に凹凸があっても、正確な位置合わせをする。 - 特許庁

To precisely position a substrate even when the precise position of an alignment mark is unknown in the positioning of the substrate provided with the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークを備える基板の位置決めにおいて、アライメントマークの正確な位置が未知である場合においても、正確に基板の位置合せを行なう。 - 特許庁

POSITION DETECTION APPARATUS, ALIGNMENT DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF MICRO DEVICE例文帳に追加

位置検出装置、アライメント装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

To improve position alignment of an image in a tandem type image forming device.例文帳に追加

タンデム型画像形成装置における画像の位置合わせを改良する。 - 特許庁

The position of a product is measured by using an alignment mark on the product.例文帳に追加

製品の位置はその製品上のアライメントマークを使用して測定される。 - 特許庁

METHOD OF DETECTING ALIGNMENT MARK POSITION AND LASER MACHINING DEVICE USING METHOD THEREOF例文帳に追加

アライメントマークの位置検出方法及び該方法を用いたレーザ加工装置 - 特許庁

In order to carry out transfer by using the donor element 20, the position alignment with the element formation base plate is carried out and transferred, by using one alignment mark out of the plurality of alignment marks M1 to M3; afterwards, the transfer is carried out, by carrying out position alignment using another alignment mark to another element formation base plate.例文帳に追加

このドナー要素２０を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークＭ１〜Ｍ３のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。 - 特許庁

To provide alignment equipment capable of detecting a position with high accuracy with respect to any kind of an alignment mark.例文帳に追加

どのような種類のアライメントマークに対しても高精度な位置検出が可能なアライメント装置を提供することである。 - 特許庁

When compared with a case where an alignment pattern is provided only on corners, the alignment accuracy of cutting position can be improved.例文帳に追加

これにより、隅部のみにアライメントパターンを設けていた場合に比べ、切断位置の位置合わせ精度が向上する。 - 特許庁

When the first alignment mark 33a is aligned to a standard, an alignment position is corrected by the misalignment amount Δx.例文帳に追加

第１アライメントマーク３３ａを基準に位置合わせを行なう際に、ずれ量Δｘだけアライメント位置を補正する。 - 特許庁

By pressurizing the alignment lens with the inserted pin, the position in the optical system of the alignment lens is adjusted.例文帳に追加

挿入されたピンを用いて調芯レンズを押圧することによって、調芯レンズの光学系内の位置を調整する。 - 特許庁

A plurality of sample images are acquired at each light source wavelength, and the plurality of sample images are superimposed by performing position alignment or intensity alignment.例文帳に追加

光源波長毎に複数のサンプル像を取得し、複数のサンプル像を位置あわせ・強度合わせして重ね合わせる。 - 特許庁

(c) On the basis of this alignment information, laser beam irradiation is performed at the incident position corresponding to the detected alignment mark.例文帳に追加

（ｃ）この位置合わせ情報に基づき、検出されたアライメントマークに対応する被入射位置にレーザ入射を行う。 - 特許庁

After alignment, chucks 402-- move from the retreat position P1 to the gripping position P2 and grip the bundle of sheets.例文帳に追加

整合後、チャック４０２，４０２が退避位置Ｐ１からグリップ位置Ｐ２に移動しシート束をグリップする。 - 特許庁

Position detecting means 11, 12 of the substrate stage ST used for positioning at an exposure position and position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST used for detecting alignment information at an alignment position are disposed so that the Abbe error about the exposure position and alignment position is approximately zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Also, the position detecting means 11 and 12 of the substrate stage ST used for positioning on the exposure position, and the position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST to be used for detection of alignment information on the alignment position are arranged in such a manner that the Abbe error to exposure position and alignment position becomes almost zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

In addition, position detecting means 11 and 12 of a stage ST which is used for positioning a substrate to an exposing position and the position detecting means 11 and 13 (11 and 14) of the stage ST used for detecting the alignment information at an alignment position are arranged, so that the Abbe's aberration become nearly zero with respect to the exposing position and alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Position detecting means 11 and 12 for the wafer stage ST, which are used for positioning at an exposure position and position detecting means 11 and 13 (11 and 14) for the wafer stage ST, which are used for alignment information detection at an alignment position, are so provided that Abbe error is almost zero relative to the exposure position and alignment position, respectively.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

In this case, the alignment is performed by detecting, in the position detecting part D, the position of the pipe fixed by the fixing part B and adjusting the position.例文帳に追加

その際、位置検出部Ｄで固定部Ｂに固定されたパイプの位置を検出して、位置調整しながら位置合わせする。 - 特許庁

The position of the alignment mark on the substrate excluding the deformation component and the shot offset component is obtained (step 306) to check whether or not the obtained position is within an allowable range from the position of the alignment mark on the mask after alignment (step 307).例文帳に追加

変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め（ステップ３０６）、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する（ステップ３０７）。 - 特許庁

To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.例文帳に追加

光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁

A control part 50 operates the position of a alignment mark of the wafer W mounted on the rotary stage 6 from position information of the alignment mark formed on the wafer W, the singular point and the edge position.例文帳に追加

制御部５０は、ウエハＷに形成されたアライメントマークの位置情報と、特異点及びエッジ位置より、回転ステージ６上に載置されたウエハＷのアライメントマークの位置を演算する。 - 特許庁

In that case, alignment can be performed by redetermining the position of the alignment mark 6a only once, and by using the stored position information on the position of the process area during the processing.例文帳に追加

この場合に、アライメントは、加工時にアライメントマーク６ａの位置を１回だけ再測定し、加工領域の位置に関する保存された位置情報を使用することにより行うことができる。 - 特許庁

To detect a position of an alignment mark on a mask and a position of an alignment mark in a base pattern of a substrate with high accuracy by acquiring sharp images of the alignment mark on the mask and of the alignment mark in the base pattern of the substrate and carrying out an image recognition process.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

Before the relative position to an alignment position is reached, the amplifier 16 is made to perform logarithmic amplification; and after the approach of the relative position to the alignment position, the amplifier 16 is made to perform linear amplification.例文帳に追加

前記相対的な位置が調芯位置に近づく前には、増幅部１６に対数増幅を行わせ、前記相対的な位置が調芯位置に近づいた後には、増幅部１６に直線増幅を行わせる。 - 特許庁

To surely perform the alignment of a sheet in any matching position.例文帳に追加

どのような整合位置においても、シートの整合を確実に行えるようにする。 - 特許庁

To measure alignment deviation at an arbitrary position without using any inspection marks.例文帳に追加

検査用マークを用いることなく、任意の位置における合わせずれを計測する。 - 特許庁

Thereby, the position of the alignment mark on the object is detected with high accuracy.例文帳に追加

これにより、対象物上のアライメントマークの位置が高精度に検出される。 - 特許庁

SUBSTRATE, POSITION MEASURING DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND ALIGNMENT METHOD AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

基板、位置計測装置、露光装置および位置合わせ方法並びに露光方法 - 特許庁

To perform position alignment of a mask and a work piece by detecting two alignment marks located outside the depth of focus range without moving an alignment microscope in an optical axis direction.例文帳に追加

アライメント顕微鏡を光軸方向に移動させることなく、焦点深度範囲外にある２つのアライメントマークを検出しマスクとワークの位置合せをすること。 - 特許庁

At this time, at the same time, the alignment marker 43 is formed on the substrate using the material of the transparent electrode and the alignment marker 43 is used for the alignment of position in panel assembling.例文帳に追加

その際、同時に透明電極材料によるアライメントマーカー４３を基板上に形成し、そのアライメントマーカー４３をパネル組み立てにおける位置合わせに用いる。 - 特許庁

When alignment of liquid crystal molecules in a pixel is divided into a plurality of fractions, by using an alignment division means, a boundary line of the alignment is produced in a certain position in the pixel.例文帳に追加

配向分割手段を用いて画素内の液晶分子の配向を複数に分割すると、画素内のいずれかの位置に配向の境界線が生じる。 - 特許庁

When the alignment of liquid crystal molecules in a pixel is divided into a plurality of fractions by using an alignment division means, a boundary line of the alignment is produced at a certain position inside the pixel.例文帳に追加

配向分割手段を用いて画素内の液晶分子の配向を複数に分割すると、画素内のいずれかの位置に配向の境界線が生じる。 - 特許庁

The detector transmits an alignment signal to a processor that calculates the two-dimensional position of the mark M3, based on the alignment signal.例文帳に追加

検出器は、位置合わせ信号をプロセッサに送り、プロセッサは、位置合わせ信号に基づきマークＭ３の２次元位置を計算する。 - 特許庁