「alignment position」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a position adjusting device and a position adjusting method by which the relative alignment of a lamp (light source part) to a reflection mirror (light condensing mirror) is accurately performed.例文帳に追加

ランプ（光源部）と反射ミラー（集光ミラー）との相対的な位置合わせを高精度に行うことができる位置調整装置及び位置調整方法を得ること。 - 特許庁

To align a wafer and an exposure mask with high accuracy by providing the center position and another position of the mask base body with marks for alignment with a semiconductor substrate.例文帳に追加

露光用マスクとウェハとの露光位置合わせを高精度に行うことができる露光用マスク、位置合わせ基準ウェハおよび露光位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a non-contact type position sensing device capable of sensing the position of a shift lever simply and accurately and making alignment with shift lever easily and precisely.例文帳に追加

シフトレバーの位置を簡単且つ正確に検出でき、シフトレバーとの位置合わせを容易に且つ精度良く行うことができる無接触式位置検出装置を提供する。 - 特許庁

A controller 40 executes alignment based on the position information of the mask stage mark 20 and the position information of the wafer stage mark 42 imaged by the imaging apparatus 48.例文帳に追加

制御部４０は、撮像装置４８によって撮像されたマスクステージマーク２０の位置情報とウェハステージマーク４２の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 - 特許庁

In a state where the position alignment has been performed in this way, a mutual position shift is avoided by locally emitting light on a plurality of spots 93 in an image display area.例文帳に追加

また、このように位置合わせされた状態にて、画像表示領域中の複数のスポット93に局部的に光照射を行うことで、相互に位置ズレ不能とする。 - 特許庁

Alignment of a curved mirror 12 and the detector 13 is adjusted so as to converge the probe light on an appropriate position of the detector 13 in the state of the first rotational position.例文帳に追加

第１の回転位置の状態で、プローブ光が検出器１３の適切な位置に集光するように、曲面鏡１２及び検出器１３のアライメントを調整する。 - 特許庁

A substrate alignment device 51 comprises a substrate position detecting unit 30a, a moving stage 12a, a moving stage driving unit 53a, a stage position detecting unit 27a, and a total control unit 50.例文帳に追加

基板アライメント装置５１は、基板位置検出部３０ａと、移動ステージ１２ａと、移動ステージ駆動部５３ａと、ステージ位置検出部２７ａと、全体制御部５０とからなる。 - 特許庁

The position of the center of rotation of the substrate W is corrected through centering processing using substrate rotation center position information generated by imaging an alignment mark 204 with a low magnification.例文帳に追加

低倍率でアライメントマーク２０４を撮像した基板回転中心位置情報を用いるセンタリング処理によって基板Ｗの回転中心位置を位置補正する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge device in which alignment accuracy between a striking position of a droplet and an irradiation position of a laser beam is improved and a shape controlling property of a pattern is improved.例文帳に追加

液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

An analyzing position is specified by irradiating the surface of the sample with a laser beam, in alignment with the optical axis of secondary ions and observing the position of the laser spot generated on the surface of the sample.例文帳に追加

二次イオンの光軸に一致させて試料表面にレーザ光を照射させ、試料表面に生じたレーザスポットの位置を観察することで分析位置を特定する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and an alignment method by which drawing can be carried out at an accurate position on a substrate even when a positional relation between a light irradiating unit and an alignment camera changes, without using a high-performance driving mechanism for the alignment camera.例文帳に追加

アライメントカメラに高性能な駆動機構を使用することなく、光照射部とアライメントカメラとの位置関係が変化した場合であっても、基板上の正確な位置に描画を行うことができるパターン描画装置およびアライメント方法を提供する。 - 特許庁

A work W is mounted on the alignment stage AS, the stage AS or alignment microscope 4 is fed in steps at intervals where work marks WAM are formed, and the alignment microscope 4 detects the array of the work marks WAM, and position coordinates thereof are stored.例文帳に追加

一方、アライメントステージＡＳにワークＷを載置し、ワークマークＷＡＭの形成されている間隔でステージＡＳまたはアライメント顕微鏡４をステップ送りし、アライメント顕微鏡４によりワークマークＷＡＭを並びで検出し、その位置座標を記憶する。 - 特許庁

As the first and second alignment holes 14, 15 are disposed with the centers to be positioned on the scanning line S of the measurement light, misalignment of the irradiation position of the measurement light from the actual center positions of the alignment holes is detected to carry out alignment, according to deformation of the substrate 20.例文帳に追加

第１及び第２アライメント穴１４、１５は、中心が計測光の走査線Ｓ上に位置するように設けてあり、計測光の照射位置と各アライメント穴の実際の中心位置とのずれを検出して、基板２０の変形に応じたアライメントを行なう。 - 特許庁

The controller does not supply the mixed gas when the position of the reference mark is detected by the first detector, but it detects the position of the alignment mark in the mixed gas atmosphere, and exposes a resist while driving the substrate stage based on the detected results of the reference mark position and alignment mark position.例文帳に追加

前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 - 特許庁

To provide an aligner which can convey a honeycomb structure and a mask while a position is matched after alignment and can efficiently carry out alignment and a method using the aligner.例文帳に追加

位置合わせ後に位置をあわせた状態でハニカム構造体及びマスクを搬送可能であり、かつ、位置合わせを効率よく行なえる位置合わせ装置及びこれを用いた方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the sum of the detection positions is constant, and the change amount of the sum of the detection positions is equal to the position detection error caused by alignment change of the scattering light from the alignment mark.例文帳に追加

従って、検出位置の和は一定になるはずであり、検出位置の和の変化量はアライメントマークからの散乱光の配向変化に起因する位置検出誤差に相当するものといえる。 - 特許庁

To provide a position detection method by which a relative positional relationship with an alignment mask and a substrate can be detected accurately in proximity exposure where the alignment mask is arranged close to the substrate.例文帳に追加

基板に対して露光マスクが近接して配置される近接露光において、露光マスクと基板との相対的な位置関係をより正確に検出することが可能な位置検出方法を提供する。 - 特許庁

An Alignment judging processing part 23 judges whether or not a writing processing of data is Alignment by a logical address to indicate a starting position of writing of the received data and data size.例文帳に追加

Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ判定処理部２３は受信したデータの書き込み開始位置を示す論理アドレスとデータサイズよりデータの書き込み処理がＡｌｉｇｎｍｅｎｔであるかどうかを判定する。 - 特許庁

In the bonding part of the photodiode 111, an alignment marker 115 at the position facing the alignment marker 105 on the Si substrate 101 side and an Sn electrode 118 composed of Sn are formed.例文帳に追加

受信用フォトダイオード１１１の接合部には，Ｓｉ基板１０１側のアライメントマーカ１０５と対向する位置にアライメントマーカ１１５，および，Ｓｎから成るＳｎ電極１１８が形成されている。 - 特許庁

When the electron beam trajectory rises toward the right, the alignment is carried out with SF marks of SF no.1 to SF no.10 and parameters such as the position and rotation of the reticle required for the reticle alignment are calculated from these results.例文帳に追加

電子ビーム軌道が右上がりの場合、ＳＦナンバー#１〜#１０までのＳＦのマークでアライメントを行い、これらの結果からレチクル位置、回転などのレチクルアライメントに必要なパラメータを計算する。 - 特許庁

Based on the electric characteristics provided, when a protruding pattern alignment conductor part contacts the alignment wiring, a position where the protruding pattern is press- fitted is decided, so that a conductor is embedded in the low dielectric constant film resin.例文帳に追加

凸パタン目合わせ導体部と目合わせ配線とが接触させられた時に得られた電気的特性に基づいて、凸パタンを圧着させる位置が定められ、低誘電率膜樹脂に導体を埋え込む。 - 特許庁

A reduction projection exposure system is equipped with a wafer stage 8 on which a wafer 11 with an alignment mark on its surface is placed and an alignment measuring device 10 which measures the position of the wafer 11.例文帳に追加

縮小投影露光装置には、表面にアライメントマーク２７が形成されたウェハ１１がウェハステージ８上に載置され、ウェハ８の位置を計測するアライメント計測装置１０が設けられている。 - 特許庁

The radii of the plurality of circles and the radius of the work alignment mark are compared to select the circle having the most approximate radius among the plurality of circles, and the center of the selected circle is made the position of the work alignment mark.例文帳に追加

この複数の円の半径と、ワーク・アライメントマークの半径とを比較し、上記複数の円のなかから半径が最も近い円を選択し、その円の中心位置をワーク・アライメントマークの位置とする。 - 特許庁

The axis alignment tool B is mechanically coupled to the optical element 20 while the tool B is inserted into the connector main body A and the optical element 20 is properly displaced to an axis alignment position by the mechanical coupling.例文帳に追加

軸合わせ治具Ｂは、コネクタ本体Ａに挿入された状態で光素子２０と機械的に結合されると共に、その機械的な結合により光素子２０を軸合わせ位置へ変位させる。 - 特許庁

The method detects a first lateral interval of an edge of a belt loop supported by rollers in an apparatus using a first sensor to find an amount of a difference amount of the alignment of the edge of the belt loop relative to a known alignment position.例文帳に追加

装置内のローラが支持するベルトループのエッジの第１の側方間隔を第１のセンサを用いて検出し、既知の整列位置に対するベルトループのエッジの整列誤差量を見いだす。 - 特許庁

By rotating a member (32) to be processed for which an alignment mark is formed on a first layer, scanning it by a fine beam spot (21) and detecting (22) the reflected light quantity, the position (AL) of the alignment mark is detected.例文帳に追加

第１の層にアライメントマークが描かれた被処理部材(32)を回転させ、微少なビームスポット(21)で走査し、その反射光量を検出する(22)ことによってアライメントマークの位置(AL)を検出する。 - 特許庁

According to one embodiment, the alignment structure includes a second alignment structure 28 for facilitating the measurement of the position of the at least one optical waveguide in the plane of the at least one optical waveguide.例文帳に追加

態様によれば、アライメント構造が、少なくとも１つの光導波路の平面における、少なくとも１つの光導波路の位置の測定を容易にする為の第二のアライメント構造２８を含む。 - 特許庁

A signal database is provided with plural standard waveforms, with which the detected waveforms of plural alignment marks area classified, and the position data of the alignment marks is made to correspond to the respective standard waveforms are in one-to-one correspondence.例文帳に追加

複数のアライメントマークの検出波形を分類した複数の標準波形と、各標準波形に対応するアライメントマークの位置データとを１対１に対応させたシグナルデータベースをする。 - 特許庁

An alignment system for a lithographic apparatus has a source of alignment radiation, a detection system that has a first detector channel and a second detector channel, and a position determining unit that communicates with the detection system.例文帳に追加

リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。 - 特許庁

To obtain a highly accurate intraocular pressure value by changing an alignment position from the deformed state of the cornea of an eye to be examined.例文帳に追加

被検眼角膜の変形状態からアライメント位置を変更することにより、高精度な眼圧値を求めることを可能とする。 - 特許庁

To provide a cable drum driving device of a working vehicle capable of alignment winding of a cable to a drum, without dislocating a position of the drum.例文帳に追加

ドラムの位置がずれることなく、ドラムへのケーブルの整列巻きが可能となる作業車のケーブルドラム駆動装置を提供する。 - 特許庁

After a reticule is loaded in the exposure system, the position of the second alignment mark 51 is measured to obtain data on the loading distortion of the reticule.例文帳に追加

レチクルを露光装置にローディング後に、上記第２のアライメントマーク５１の位置を測定してレチクルのローディング歪データを求める。 - 特許庁

Based on a result of the detection, position information of the alignment mark is calculated and, further, correction information is calculated in a control part.例文帳に追加

この検出結果を基に、制御部にてアライメントマークの位置情報が算出され、更に補正情報が算出される。 - 特許庁

Since the recessed part 18 for an alignment mark is formed after a lamination process and a polishing process, enough position accuracy can be ensured.例文帳に追加

貼り合わせ工程および研磨工程の後にアライメントマーク用凹部１８が形成されるので、十分な位置精度が確保できる。 - 特許庁

To provide a method and lithography for deciding a condition of position detection for alignment mark by which overlay accuracy can be improved.例文帳に追加

重ね合わせ精度を改善できるアライメントマークの位置検出条件を決定する方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

One embodiment can be applied to the measurement of the position of a feature in an alignment region on a mask using a sensor.例文帳に追加

本発明の一実施例は、センサを用いる、マスク上のアライメント領域内のフィーチャの位置測定に適用することができる。 - 特許庁

Three kinds of light-emitting layers are deposited with positional accuracy by performing only one position alignment before light irradiation.例文帳に追加

光の照射前に１回の位置アライメントを行うだけで、３種類の発光層を位置精度良く成膜することができる。 - 特許庁

To correctly detect the pattern position of a work alignment mark (work mark) which can be seen in various manners by edge detection.例文帳に追加

エッジ検出により、見え方が多種多様なワーク・アライメントマーク（ワークマーク）のパターンの位置を、正しく検出できるようにすること。 - 特許庁

The actual picture image of the alignment mark is registered as a template picture image after its displacement from its original position is corrected by sub-pixel shifting.例文帳に追加

アライメントマークの実画像は、サブピクセルシフトにより本来の位置からのズレを修正した後、テンプレート画像として登録する。 - 特許庁

The center position AMO of the alignment pattern AP is identified from the positions of the four centers to acquire a parallel displacement amount of the substrate.例文帳に追加

４つの中心の位置からアライメントパターンＡＰの中心位置ＡＭＯを特定し、基板の平行ずれ量を取得する。 - 特許庁

To precisely and relatively position an optical element and an optical waveguide by suppressing the influence of self alignment action of solder.例文帳に追加

半田のセルフアライメント作用の影響を抑制して光学素子と光導波路とを精密に相対位置決めされるようにする。 - 特許庁

After the exposure, alignment control of a leveling stage 16 which should move a wafer W to a next objective position is made as similarly.例文帳に追加

露光終了後、次の目標位置へウエハＷを移動すべきレベリングステージ１６の位置決め制御を同様に行なう。 - 特許庁

To provide an ophthalmic apparatus which can detect the position of a subject eye assuredly, provides a flicker-free display screen, and has high operability of alignment.例文帳に追加

、被検眼の位置を確実に検出でき、表示画面がちらつかず、アライメントの操作性が高い眼科装置を提供する。 - 特許庁

At this point, when each alignment pattern is inserted, it is checked whether a circuit pattern is present already at the position (S12).例文帳に追加

その際、個々の位置合わせ用パターンの挿入に当たって、その位置に既に回路パターンが存在するかどうかを調べる（Ｓ12）。 - 特許庁

To make alignment for accurate control of position of a substrate in a process chamber even if a plurality of process chambers are provided.例文帳に追加

複数の処理室を有する場合でも、処理室内での基板位置を正確に制御できるように位置合わせすること。 - 特許庁