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alignment positionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1249件
The device is comprised of a first and second support stoppers for supporting sheets against gravity at a first non-alignment position.例文帳に追加
デバイスはシートをシートの第1の未整合位置で重力に対し支持するための第1及び第2支持用停止部を有する。 - 特許庁
An operator performs alignment between the optical elements, while detecting the position of the mark 11a-2 with an optical microscope.例文帳に追加
作業者は、そのマーク11a−2の位置を光学顕微鏡によって検出しながら、光学素子間の位置合わせを行う。 - 特許庁
ALIGNMENT-MARK POSITION MEASURING METHOD, PATTERN EXPOSURE SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM MAINTAINING METHOD例文帳に追加
アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁
support consisting of the movable part of a lathe that slides along the bed in alignment with the headstock and is locked into position to support the free end of the workpiece 例文帳に追加
主軸に並んでベッド上をスライドして、工作物の自由な端を支持する位置に固定できる旋盤の可動部分 - 日本語WordNet
To provide a planar optical waveguide apparatus including an alignment structure with which the measurement of the position of the optical waveguide of the apparatus is easily performed.例文帳に追加
装置の光導波路の位置測定を容易にするアライメント構造を含むプレーナ光導波路装置を提供する。 - 特許庁
Next, the TFT substrate 120 on which the solder bump 112 is formed and the OLED substrate 100 are overlapped each other and position alignment is performed.例文帳に追加
次に、ハンダバンプ112を形成したTFT基板120とOLED基板100とを重ねて位置合わせを行う。 - 特許庁
A relative position of the marks on the front and rear sides of the substrate is obtained, and the alignment errors of the front and rear sides of the whole body of the substrate are measured.例文帳に追加
基板の表裏側にあるマークの相対位置を求めて、基板全体での表裏側のアラインメントエラーを計算する。 - 特許庁
The position of a wafer-side mark on a stage reference plate 9 is measured by a TTR alignment scope 20.例文帳に追加
露光装置において、ステージ基準プレート9上のウエハ側マーク位置がTTRアライメントスコープ20を用いて計測される。 - 特許庁
Photographed images are displayed on a display, and the position of an alignment member formed on the glass substrate is adjusted to the reference position of the rod lens array by second position adjusting means, i.e. adjusting pins 81 and 82.例文帳に追加
当該撮影された画像を表示手段に表示して、第2の位置調整手段である調整ピン81、82により、ロッドレンズアレイの基準位置にガラス基板に形成された位置合わせ部材の位置を調整する。 - 特許庁
For an imaging unit for assembling, a chart with an alignment mark irradiated from a light source is imaged by an imaging device through a reference lens adjusted to a required optical axis position and then, the attitude of the imaging unit is controlled so as to perform alignment to the optical axis position, based on the mark position information of the imaged image.例文帳に追加
組立て用の撮像ユニットに対し、光源により照射されたアライメントマーク付チャートを、所要の光軸位置に調整された基準レンズを介して当該撮像素子で撮像させた後、その撮像画像のマーク位置情報に基づいて、上記の光軸位置に合わせるように当該撮像ユニットの姿勢制御を行う。 - 特許庁
The substrate 5 is carried in an exposure apparatus, the position of the alignment mark 6 is detected by an alignment scope 24 to position the substrate 5 at a position where a pattern 8 with a second inspection mark 9 on a mask 1 aligns with the first inspection mark 7 on the substrate 5, and the pattern 8 with the second inspection mark 9 is exposed and transferred onto the substrate 5.例文帳に追加
続いて、露光装置に基板5を搬入して、アライメントスコープ24でアライメントマーク6の位置を検出して、マスク1上の第2の検査マーク9のパターン8が基板5上の第1の検査マーク7と一致する位置に基板5を位置決めした後、第2の検査マーク9のパターン8を基板5上に露光転写する。 - 特許庁
The pattern drawing device 1 has functions of detecting a shift amount in the relative position of respective alignment cameras 41 to 44 with respect to pulse light projected from an optical head 32 and correcting an alignment amount of a substrate 9 and a starting position of drawing on a substrate 9 based on the detected shift amount.例文帳に追加
パターン描画装置1は、光学ヘッド32から照射されるパルス光に対する各アライメントカメラ41〜44の相対位置のずれ量を検出し、そのずれ量に基づいて基板9のアライメント量および基板9の描画開始位置を補正する。 - 特許庁
To prevent the influence of a wafer process as much as possible, to quantitatively optimize a mark for position detection according to a position detection system mounted in a projection aligner to be used, and at the same time to minimize an alignment error due to the wafer process, and to provide a device for improving alignment accuracy.例文帳に追加
ウェハプロセスの影響を受け難く、使用する露光装置の搭載する位置検出方式に応じて位置検出用マークを定量的に最適化でき、且つウェハプロセスや装置起因のアライメント誤差を最小限にして高い位置合わせ精度を実現する。 - 特許庁
The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加
本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。 - 特許庁
The position of a substrate having an existent first pattern on a stage 605 is determined by scanning an alignment mark on this substrate by detecting light from an alignment laser 1001 and detecting reflected light thereof by a detector 1009 and corresponding to that position, a second pattern is corrected and projected.例文帳に追加
ステージ605上の、既に第1パターンがある基板の位置は、整列レーザ1001からの検出光でこの基板上の整列マークを走査し、その反射光を検出器1009で検出して決定し、それに応じて第2パターンを補正して投影する。 - 特許庁
A pattern, in which the gravity position does not change even if deformations are generated due to the approximity effect of pattern and coarse density, is selected at pattern formation as an alignment pattern from the areas near to the target pattern, and its center of gravity position is set to the reference coordinates of alignment (S12).例文帳に追加
ターゲット・パターンの近傍領域の中から、パターンの形成時に、パターンの近接効果や疎密が原因で変形が生じても、重心位置が変化しないパターンをアライメント・パターンとして選択し、その重心位置をアライメント基準座標に設定する(S12)。 - 特許庁
The alignment sensor comprises an image rotary interferometer having an alignment illumination source and receiving electromagnetic radiation from a symmetrical alignment marks illuminated by the illumination source, and a detector for receiving the electromagnetic radiation from the interferometer, thereby obtaining the position of a central location of the alignment mark.例文帳に追加
アライメント照明源を有し、前記アライメント照明源により照明された対称アライメントマークからの電磁放射を受信するイメージ回転形干渉計を有し、イメージ回転形干渉計からの電磁放射を受信する検出器を有し、それにより、対称アライメントマークのセンタロケーションの位置が求められるように構成されていることを特徴とするアライメントセンサ - 特許庁
To correct the position of an alignment unit using a correcting member for each kind of work with a different position of an alignment mark and then to expose a single long strip of a flexible recording medium, containing a plurality of kinds of works with different alignment mark positions, even when the long flexible recording medium cannot be detached from a carrying passage.例文帳に追加
アライメントマーク位置の異なる複数品種を含む一条で長尺の可撓性記録媒体を、搬送経路上から長尺の可撓性記録媒体を取り外すことができない場合でも、アライメントマークが設けられた位置が異なる品種毎に校正部材を利用してアライメント部の位置校正をしてから露光処理可能とする。 - 特許庁
A drawing file is created to assign a preliminarily formed basic recording pattern and representing a drawing pattern to be drawn on a recording medium, while an alignment file is created to designate the position of an alignment mark in the drawing pattern and representing the position of the alignment mark on the drawing pattern.例文帳に追加
予め形成された基本記録パターンを割り付けて、被記録媒体に描画する描画パターンを表記する描画ファイルを作成すると共に、前記描画パターンにおけるアライメントマークの位置を指定し、前記描画パターン上におけるこのアライメントマークの位置を表記してなるアライメントファイルを作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
The device which performs alignment by using a plurality of transport means completes the alignment until a work W is transported to a target position by causing the transport means transport the work W after or while the means makes partial alignment.例文帳に追加
複数の搬送手段を用いてアライメント処理をなすものであって、各搬送手段にアライメント処理を部分的に実行させた後にまたは実行させながらワークWを搬送させ、それによりワークWを目標位置に搬送するまでにアライメントを完了させるものである。 - 特許庁
The alignment method includes a step for performing first alignment based on a notch position on the outer periphery of a substrate, a step for performing second alignment based on the outer peripheral shape of the substrate including the notch, and a temperature adjustment step for adjusting the temperature of the substrate to a target management temperature.例文帳に追加
基板の外周上の切り欠き位置に基いて第1の位置合わせを行う工程と、前記基板の切り欠きを含む外周形状に基いて第2の位置合わせを行う工程と、前記基板を目標管理温度に調整する温調工程とを含む位置合わせ方法を行う。 - 特許庁
By looking at the mark part 130 with the alignment part 162 as though in a sighting device, when the mark part 130 is aligned in this way, the mark part 130 is located on the extension line in the extending direction of the alignment part 162 without fail, dislocation of alignment position due to the viewing angle is prevented.例文帳に追加
このように合わせると、位置合わせ部162をあたかも照準器のようにして、マーク部130に視線を合わせれば、必ず、位置合わせ部162の延設方向の延長線上にマーク部130が位置するので、見る角度によって合わせる位置が狂うことがない。 - 特許庁
When press-fitting the mold 3 to a transfer object substrate 1, position coordinates of an alignment mark 8 arranged on the mold 3, are measured by an alignment mark detector 12, and a strain quantity of a transfer pattern area on the mold 3 is calculated by performing a recursive analysis from a displacement quantity of the alignment mark 8 in press-fitting.例文帳に追加
被転写基板1にモールド3を圧着させる際に、モールド3上に設けたアラインメントマーク8の位置座標をアラインメントマーク検出器12により測定し、圧着時のアラインメントマーク8変位量から回帰解析を行いモールド3上の転写パターン領域の歪み量を算出する。 - 特許庁
The cam ring is aligned in the fixed position via a pin inserted through both a select adjustment part and a corresponding alignment part.例文帳に追加
このカムリングは、選択調整部分、および対応する整合部分の双方に挿入されたピンを介して、固定位置に整合されている。 - 特許庁
On the rewiring 18, a mark member 24 is formed, where the mark member 24 provides an alignment mark arranged in a prescribed position relationship with the metal post 16.例文帳に追加
再配線18上に、メタルポスト16と所定の位置関係で配置されたアライメントマークを提供するマーク部材24を形成する。 - 特許庁
At this time, since the side end S2 of the sheet S is removed, the sheet restriction flag 53 is returned to the alignment position and becomes a rough guide in a sheet width direction.例文帳に追加
このとき、シート規制フラグ53は、シートSの側端S2が外れるので、整合位置に復帰し、シート幅方向のラフガイドとなる。 - 特許庁
To enhance the certainty and durability of a locking operation by facilitating the alignment of heights of leading ends of right and left lock members in a neutral position.例文帳に追加
中立位置での左右ロック部材の先端高さが合わせ易く、ロック動作の確実性、耐久性を向上できるようにする。 - 特許庁
Also, the crimping head 71 is provided with a projection part 72 so as to include a position corresponding to the alignment mark 11.例文帳に追加
さらに、圧着ヘッド71に、アライメントマーク11に対応する位置を包含するように突起部72を設けたことを特徴とする。 - 特許庁
To eliminate mechanical alignment by correcting errors of a single rotation position detecting signal using an offset circuit.例文帳に追加
本発明は、オフセット回路を用いて1回転位置検出信号の誤差の補正を行い、機械的位置合わせをなくすことを目的とする。 - 特許庁
To provide a measurement method of measuring a position of an alignment mark in a semiconductor wafer without using cameras except on-axis cameras.例文帳に追加
オンアクシズカメラ以外にカメラを用いることなく半導体ウエハのアライメントマークの位置を測定することができる測定方法を提供する。 - 特許庁
To quickly position laser beams with a high precision by suppressing the degradation of the alignment precision due to resonance of a galvano-meter scanner.例文帳に追加
ガルバノメータスキャナの共振による位置合わせ精度の低下を抑え、レーザビームを高速かつ高精度に位置決めできるようにすること。 - 特許庁
A corresponding set of sensors respectively measures an angle and a position of the set of alignment beams in the vicinity of an entrance of the projection system.例文帳に追加
対応する一組のセンサは、それぞれ一組のアライメントビームの角度および位置を投影系の入射口の近傍で測定する。 - 特許庁
To provide a printing device performing alignment of a label (sensor adjustment) with a proper timing and a label position control method of the printing device.例文帳に追加
適切なタイミングでラベルの位置あわせ(センサ調整)を行う印刷装置および印刷装置のラベル位置制御方法を提供する。 - 特許庁
The end point of plasma cleaning is detected by monitoring an alignment position of an automatic load matching device 3 for microwave band.例文帳に追加
クリーニング中に、マイクロ波帯自動負荷整合器30の整合ポジションをモニタすることとにより、プラズマクリーニングの終点を検出する。 - 特許庁
The radar image data approximated to the white and black panchromatic image characteristic and the optical image data are subjected to position alignment, and then synthesized together.例文帳に追加
そして、その白黒パンクロマチック画像特性に近似されたレーダ画像データと光学画像データの位置合わせを行い合成する。 - 特許庁
With the alignment marks 41, 42 as position references, the resin insulating layers 20, 21, 31, 32 are irradiated with laser beams to form via holes 25, 27.例文帳に追加
位置合わせマーク41,42を位置基準として樹脂絶縁層20,21,31,32にレーザを照射してビア穴25,27を形成する。 - 特許庁
The signal from the photoelectric conversion element where the accumulation time is set appropriately in this manner is used for detecting the position of an alignment mark AM.例文帳に追加
こうして蓄積時閑雅適切に設定された光電変換素子からの信号を用いて、アライメントマークAMの位置を検出する。 - 特許庁
PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF DETERMINING POSITION OF ALIGNMENT MARK OF SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加
リソグラフィ投影装置、基板の整合マークの位置を決定するための方法、デバイス製造方法およびそれにより製造されるデバイス - 特許庁
To improve the recording position precision of a recorder by reducing an error by alignment in the recorder to which an ink jet system is applied.例文帳に追加
インクジェット方式を適用した記録装置において、アライメントによる誤差を小さくし、記録装置の記録位置精度の向上を図る。 - 特許庁
To enable position alignment of core wires to be performed as easy as possible when the core wires of a plurality of wires are connected to each other.例文帳に追加
複数の電線の芯線同士を接続する際に、位置揃え作業をなるべく容易に行えるようにすることを目的とする。 - 特許庁
To precisely determine a position and an angle of a distal bone cutting face using an intramedullary alignment rod by properly reflecting individual differences of patients.例文帳に追加
患者の個人差を適正に反映して、髄内アライメントロッドを用いる遠位骨切り面の位置及び角度を正確に決定する。 - 特許庁
A position alignment unit aligns the positions of a plurality of the second images based on the processing result of the association unit and the displacement.例文帳に追加
また位置合わせ部は、関連付け部による処理結果及び変位量に基づいて、複数の第2画像間の位置合わせを行う。 - 特許庁
To detect the position of a line string pattern more accurately in template matching using the line string pattern in the alignment of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置のアライメントにおける、線列パターンを用いたテンプレートマッチングにおいて、より精度よく線列パターンの位置検出を行う。 - 特許庁
An alignment process includes a process of searching for a position where a photocurrent by a light receiving element is set at a peak in X-, Y-, Z-axis directions.例文帳に追加
調芯工程は、受光素子による受光電流がピークとなる位置をX、Y、Z軸方向でサーチする工程を含む。 - 特許庁
Photographed image data is image-processed to compute positional displacements of the suction position of each IC chip T with reference to the alignment marks.例文帳に追加
撮影した画像データの画像処理を行ない、アライメントマークを基準として、各ICチップTの吸着位置の位置ズレを演算する。 - 特許庁
To enable calibration to be easily and accurately performed in a system needing position alignment between a real object and a virtual object.例文帳に追加
現実物体と仮想物体との位置合わせが必要なシステムにおけるキャリブレーションを容易に、かつ精度良く実施可能とすること。 - 特許庁
To provide method of alignment of a laser working device capable of correctly positioning a wafer, retained by a chuck table, at a predetermined position.例文帳に追加
チャックテーブルに保持されたウエーハを所定位置に正確に位置付けることができるレーザー加工装置のアライメント方法を提供する。 - 特許庁
Focus shift due to flexure of the chuck 4 is prevented by controlling the height position of the chuck 4 under scan alignment according to the proximate plate.例文帳に追加
この近似面に従って、スキャン露光中のチャック4の高さ位置を制御することで、チャック4のたわみによる焦点ぼけを防ぐ。 - 特許庁
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