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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > alignment positionに関連した英語例文

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alignment positionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1249



例文

To provide an alignment method of an FIB processing and an FIB device wherein alignment can be carried out with superior precision and wherein processing can be carried out in a short time for an unrecognizable position as an FIB image and furthermore for an unrecognizable position as an optical image in an object to be processed having a multilayered structure.例文帳に追加

多層構造を有する被加工体において、FIB像として認識不可能な位置、さらには光学像としても認識不可能な位置に対しても、精度よく位置合わせを行うことができ、短時間で加工を行うことができるFIB加工の位置合わせ方法及びFIB装置を提供する。 - 特許庁

While keeping the peak position of alignment sensitivity as an entire second lens array 21e, a light-shielding pattern having, such alignment sensitivity such that a light reduction rate to the peak position becomes large is specified by simulation, and a predetermined cell lens which is shielded from light by a mask 15 is selected, in accordance with the specified light shielding pattern.例文帳に追加

第2レンズアレイ21e全体としてのアライメント敏感度のピーク位置を保ったまま、そのピーク位置に対する減光率が大きくなるようなアライメント敏感度を持つ遮光パターンをシミュレーションにより特定し、特定した遮光パターンに従ってマスク15により遮光する所定のセルレンズを選択する。 - 特許庁

Since a measurement section 110 for measuring the position information of an alignment mark formed on a wafer W is arranged outside an exposure system body 10, the position information of the alignment mark formed on the wafer can be measured at the measurement section in parallel with the exposure of the wafer at the exposure system body.例文帳に追加

ウエハW上に形成されたアライメントマークの位置情報を測定する測定部110が、露光装置本体部10の外部に配置されているので、露光装置本体部でウエハの露光が行われるのと並行して測定部においてウエハ上に形成されたアライメントマークの位置情報を計測することができる。 - 特許庁

In the optical isolator where an optical isolator element consisting of a tabular Faraday rotator and a polarizer placed on an alignment substrate and an arched magnet whose respective end faces abut on two spots on the alignment substrate so as to cover over the Faraday rotator, the alignment substrate has constitution where a level difference whose height is different between in one abutting position and in the other abutting position of the magnet is formed.例文帳に追加

整列基板上に載置された平板状のファラデー回転子と偏光子からなる光アイソレータ素子と、前記ファラデー回転子を覆うように上記整列基板上の2カ所に各端面が当接するアーチ状の磁石とを配置した光アイソレータにおいて、前記整列基板は、前記磁石の一方の当接位置と他方の当接位置の高さが異なる段差が形成されている構成である。 - 特許庁

例文

Alignment marks PMOL, PMOR, FXYO1-FXYO4 for measuring the position of the wafer are formed on the wafer W by exposing alignment patterns PM, FM, provided on a reticle reference plate PL fixed onto a reticle stage RSTG for supporting a reticle.例文帳に追加

ウエハの位置を測定するためのアライメントマークPMOL,PMOR,FXY01−FXY04を、レチクルを支持するレチクルステージRSTG上に固定されたレチクル基準プレートPLに設けたアライメントマークパターンPM,FMを露光することによりウエハWに形成する。 - 特許庁


例文

To provide an ophthalmological instrument which permits both Z-alignment driving over a wide range and accurate driving control to a focusing position to be consistently performed by appropriately changing the detection information of an ultrasonic distance measuring means and an optical Z-alignment sensing means.例文帳に追加

超音波距離測定手段の検出情報と光学式のZアライメント検知手段を適宜変更することにより、広い範囲におけるZアライメント駆動と合焦位置への正確な駆動制御を両立可能な眼科装置を提供すること。 - 特許庁

To facilitate alignment to prevent that a position of a stopper 3 is shifted by pressing force of a customer to an operation unit 1, in an alignment structure fixing the operation unit 1 by a fixed bracket 4 and an adjusting bracket 2 including a stopper 3.例文帳に追加

操作ユニット1を、固定ブラケット4と、ストッパ3を備えたアジャストブラケット2により固定する位置合わせ構造において、当該位置合わせを容易とし、顧客の操作ユニット1への押圧力によりストッパ3の位置がずれないようにする。 - 特許庁

In the ophthalmological device, the movement of the optometry unit is temporarily stopped when an alignment offset amount to a correct position is not more than a specified amount, or when a variation amount of an alignment state before and after the switching of the direction in which the optometry unit should be moved is not more than a specified amount.例文帳に追加

また、適正位置に対するアライメント偏位量が所定量以下のとき、または検眼部を移動すべき方向の切換わり前後でのアライメント状態の変化量が所定量以下のとき、検眼部の移動を一時的に停止する。 - 特許庁

Next, alignment is executed by superposing the alignment marks 7a in common use as the TCP position checking marks and the round holes of the TCPs corresponding thereto at the time of connecting the source-bus substrates 5 and the TCPs within the device by an ACF (an-isotropic conductive film) or solder.例文帳に追加

次に、ソースバス基板5とTCP9をACFまたは半田にて装置内で接続する際に、TCP位置確認用マーク兼アライメントマーク7aと、これに対応するTCP9の丸穴13を重ね合わせて位置合わせを行う。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a color filter, which can precisely and surely position a mask for black to a substrate by using a substrate-side alignment mark preliminarily formed on the substrate even when the substrate-side alignment mark is covered with a black layer.例文帳に追加

基板上に予め形成された基板側アライメントマークがブラック層により覆われたとしても、基板側アライメントマークを用いて基板に対してブラック用マスクを精度良く確実に位置決めすることができるカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

A sensor 48 for detecting penetration through paper of a punch hole alignment pin 42 is provided and a control means for re-trying penetration action by returning the punch hole alignment pin to an initial position is provided when the time from pin starting to paper penetration exceeds a reference time.例文帳に追加

パンチ穴揃えピン42の用紙貫通を検出するセンサ48を設け、ピン起動から用紙貫通までの時間が基準時間を越えたとき、パンチ穴揃えピンを初期位置へ戻して貫通動作を再試行させる制御手段を設ける。 - 特許庁

A main controller 70 determines focus positions of respective image capturing devices when detecting the position of the alignment mark of the mask and the position of the alignment mark of the underlying pattern on the substrate based upon variation in the image recognition rate, the sharpness value and the contrast value preliminarily detected by the image processing device 50 while moving the focus positions of respective image capturing devices by a focus position moving mechanism.例文帳に追加

主制御装置70は、予め、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点位置を移動しながら、画像処理装置50により検出された画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値の変化に基づいて、マスクのアライメントマークの位置又は基板の下地パターンのアライメントマークの位置を検出する際の各画像取得装置の焦点位置を決定する。 - 特許庁

If the stitching position is on the opposite side across a rear end fence 12 for a home position of the staple unit, the rear end fence 27 is evacuated before starting first alignment operation, and the staple unit 5 is moved to a stitching position W2 in the opposite direction to the rear end fence 27.例文帳に追加

綴じ位置が、ステイプルユニットのホームポジションに対して後端フェンス12を挟んで反対側の場合は、最初の揃え動作の開始前に後端フェンス27を退避させ、ステイプルユニット5を後端フェンス27の反対方向の綴じ位置W2移動させる。 - 特許庁

Once the position of the optical axis is aligned when the lens is assembled, alignment of the optical axis is not necessary when the position of a liquid crystal panel is to be adjusted but only the liquid crystal panel and the cross dichroic prisms are required to be exchanged, therefore, makes the position adjusting work easy.例文帳に追加

組み込んだ際に一度光軸位置を合わせておけば、液晶パネルの位置調整時に毎回光軸位置を合わせる必要がなく、液晶パネルおよびクロスダイクロイックプリズムの交換のみでよいので、位置調整作業を容易に行うことができる。 - 特許庁

To provide an alignment mask and a dot position recognition method used for a dot position correction method for a droplet discharge device capable of highly accurately discharging a functional droplet onto a workpiece regardless of the mechanical accuracy of an X/Y movement mechanism or the like.例文帳に追加

X・Y移動機構の機械的精度等に関らず、ワークに対し、機能液滴を精度良く吐出することができる液滴吐出装置のドット位置補正方法に用いるアライメントマスクを提供する。 - 特許庁

When an identifier indicative of the apparatus side power delivery section exists in the vicinity of the target parking position in the photographed peripheral situation, the controller 60 performs alignment assist control by recognizing the position of the identifier.例文帳に追加

制御装置60は、撮影した周囲状況の目標駐車位置付近に機器側電力授受部を示す識別子が存在する場合に、識別子の位置を認識して位置合わせ支援制御を行なう。 - 特許庁

The sheet aligning device for aligning sheets includes a jogger fence 53 for alignment in a direction perpendicular to a sheet feeding direction, and changes a standby position of the jogger fence 53 according to the position of the sheet coming thereinto.例文帳に追加

シートの整合を行うシート整合装置であって、シート搬送方向に直交する方向の整合を行うジョガーフェンス53を備え、ジョガーフェンス53の待機位置を、これに進入するシートの位置によって変化させる。 - 特許庁

To improve exposure accuracy and reproducibility (characteristics with certain accuracy among workpieces and exposure devices) by optimizing the frequency and timing of correcting a position of an alignment camera and correcting a position of an exposure head.例文帳に追加

アライメントカメラの位置の校正、露光ヘッドの位置の校正の頻度やタイミングを最適化して、露光精度の向上、再現性(ワーク間並びに露光装置間において一定の精度を有する特性)の向上を図る。 - 特許庁

Then the position of the wafer W with respect to the direction of the optical axis of the alignment detecting system AS when detecting the wafer mark is decided and the wafer mark is detected at the position.例文帳に追加

そして、その基準位置を基準とする所定範囲内の中から、ウエハマークを検出するときのアライメント検出系ASの光軸方向に関するウエハWの位置が決定され、その位置でウエハマークが検出される。 - 特許庁

The whole area of the position where the alignment marker set on a screen is projected on the FPD is set in advance as a fixed overlapping area (C_top-C_bottom) according to the range of the long-length imaging or the position of the X-ray source.例文帳に追加

長尺撮影範囲やX線源の位置に応じて、衝立に設けられた位置合わせ用のマーカーがFPD上に投影される位置の全域を、予め固定重複領域(C_top〜C_bottom)として設定する。 - 特許庁

To provide a portable power circular saw having such a mechanism as to allow simple and accurate alignment of the cutting position of a work to be cut with a laser beam in a line form indicating the tip position of the saw blade.例文帳に追加

本発明は、携帯用電気丸鋸において被切断材の切断位置と、鋸刃の刃先位置を示すライン状のレーザ光線の位置合わせを簡便かつ正確にできる機構を提供するものである。 - 特許庁

Besides, a reading part 21 is provided with a read position managing part 31 for detecting the position of the head part 11 in the sub scanning direction based upon the length of the alignment patterns P1 and P2 in the main scanning direction read by the head part 11.例文帳に追加

また、読取部21には、ヘッド部11が読取った位置合わせ用パターンP1,P2の主走査方向の長さに基づいてヘッド部11の副走査方向の位置を検出する読取位置管理部31を備える。 - 特許庁

The vertical position is approximately at the center of the cornea and when the center of the cornea is within the field of view of the photographing means 21, it is detectable and a driving means 3 is driven so as to fit the alignment based on the detected position.例文帳に追加

垂直位置は凡そ角膜の中心であり、角膜の中心が撮像手段21の視野内にあれば検出可能であり、検出された位置に基づいてアライメントが合うように駆動手段3を駆動する。 - 特許庁

Then the ferrule 11 is fixed to a fixation part 10 of a member 17 for fixation by laser welding, but the ferrule 11 shifts in position at this time owing to the laser welding and the optical fiber 3 shifts from the alignment position.例文帳に追加

その後に、フェルール11を固定用部材17の固定部10にレーザ溶接によって固定するが、その際に、レーザ溶接に起因してフェルール11が位置ずれして光ファイバ3が調心位置からずれる。 - 特許庁

The process of acquiring an image of an alignment mark M1 on the process substrate and computing the reference position of the process substrate is repeated until the reference position of the mask coincides with the reference position of the process substrate or reaches within a predetermined tolerance, on the basis of the above computed reference position of the mask.例文帳に追加

上記演算したマスク側の基準位置を基準として、マスク側の基準位置と処理基板側の基準位置とが一致若しくは予め設定した許容誤差内となるまで、上記処理基板側のアライメントマークM1の画像を取得して当該処理基板側の基準位置を演算する処理を繰り返す。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、1回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

The starting position jetting of the coloring agent is determined by measuring coordinates of 3 points of a stage position coordinate at the time of forming coating data by applying the coloring agent on a blank 7, a stage position coordinate at the time of photographing the coating data with a CCD camera 5 and a stage position coordinate at the time of photographing the alignment mark of the substrate with the CCD camera 5.例文帳に追加

ブランク7に色剤を塗布して塗布データを形成した時のステージ位置座標と、塗布データをCCDカメラ5にて撮影した時のステージ位置座標と、基板のアライメントマークをCCDカメラ5にて撮影した時のステージ位置座標の3点の座標を測定することにより色剤の吐出開始位置を決定する。 - 特許庁

A CPU 22 is provided with first alignment processing for paying attention to the order from the head of respective arrays for the symbols of plural array elements, dividing the plural array elements into plural groups based on the symbol at the position under consideration and aligning the array elements of the respective groups and recursively executes the first alignment processing to the array after alignment.例文帳に追加

CPU22は、複数の配列要素のシンボルに対して各配列の先頭から順番に注目し、その注目位置のシンボルに基づいて複数の配列要素を複数のグループに分け、各グループの配列要素を整列する第1の整列処理を含み、その整列後の配列に対して第1の整列処理を回帰的に実施する。 - 特許庁

In an alignment mark position measuring method for sequentially measuring positions of a plurality of alignment marks on an object necessary for aligning the object, every time the positions of one or a predetermined number of alignment marks are measured (step S3), an error measurement or the presence or absence of deterioration of a predetermined measuring accuracy is detected (step S9).例文帳に追加

対象物の位置合せに必要な前記対象物上の複数のアライメントマークの位置を順次計測するアライメントマーク位置計測方法において、1または所定数のアライメントマークの位置計測(ステップS3)毎に、誤計測または所定の計測精度の劣化の有無を検出する(ステップS9)ことを特徴とするアライメントマーク位置計測方法。 - 特許庁

To provide a time alignment control method in a TDMA-type mobile communication system where a mobile wireless station is provided with a mobile wireless station position detector and a time alignment amount estimate section and the mobile wireless station estimates a time alignment amount on the basis of positional information of the mobile wireless station and positional information of a wireless base station so as to adjust transmission timing.例文帳に追加

移動無線局に移動無線局位置検出装置とタイムアライメント量推定部とを備え、移動無線局の位置情報と無線基地局の位置情報とから移動無線局でタイムアライメント量を推定し、送信タイミングの調整を行なうTDMA方式移動体通信システムにおけるタイムアライメント制御方法を提供する。 - 特許庁

A pattern drawing device 1 measures an irradiation position of an optical head 32 and irradiation positions of respective alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44 by using a common calibration camera, and corrects the positions of the alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44 to optimize relative positional relationship between the optical head 32 and alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44.例文帳に追加

パターン描画装置1は、光学ヘッド32の照射位置と各アライメント描画ヘッド41,42,43,44の照射位置とを共通のキャリブレーションカメラを使用して計測し、アライメント描画ヘッド41,42,43,44の位置を補正することにより、光学ヘッド32とアライメント描画ヘッド41,42,43,44との相対的な位置関係を適正化させる。 - 特許庁

To provide a sheet accumulation device capable of accumulating sheets from a sheet ejecting passage at a predetermined position and positively and accurately aligning the sheets such as alignment.例文帳に追加

排紙経路からのシートを所定の位置に集積し、整合などシートの位置合わせも確実かつ正確に行うことの可能なシート収積装置を提供する。 - 特許庁

The position of the alignment gauge 20 is adjusted, in advance, depending on misregistration or tilt in posture of the connector joint 110 within a predetermined range, or follow-up movement is carried out at insertion.例文帳に追加

所定範囲内におけるコネクタ接続部110の位置ずれ、姿勢傾きに応じて、アライメントゲージ20の位置が事前調整され、又は、挿入時に追従移動する。 - 特許庁

To make an accurate alignment for the beginning position at a station without BD sensor in an image formation device with a 1 polygon 2 stations optical system.例文帳に追加

1ポリゴン2ステーション光学系を有する画像形成装置において、BDセンサを持たないステーションにおける書き出し位置を精度よくあわせることを目的とする。 - 特許庁

To provide an image reader in which a plurality of light guide paths are formed and the alignment of the illuminating position of illuminating light to a document is facilitated by a simple configuration.例文帳に追加

簡易な構造で複数の導光経路を形成できると共に原稿への照射光の照射位置の位置合わせが容易な画像読取装置を提供する。 - 特許庁

The relative position in the y-axis direction is adjusted, based on alignment errors Δy1 and Δy2 in the y-axis direction between the two y-axis marks and the marks for the masks corresponding to them.例文帳に追加

2つのy軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのy軸方向の位置合わせ誤差Δy_1及びΔy_2に基づいてy軸方向の相対位置を調節する。 - 特許庁

Then, an X-Ytable 4 is moved so that the welding starting position of the object 3 to be welded coincides with the laser beam spot 13; thereby weld line detection and alignment are performed.例文帳に追加

次に、被溶接物3の溶接開始位置とレーザビームスポット13とが一致するように、X−Y−θテーブル4を移動し、溶接線検出及び位置合せを行なう。 - 特許庁

To highly precisely detect a position of an alignment mark on an object via an optical system for drawing by an observation light, with a wavelength which is different from that of a drawing light.例文帳に追加

描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して対象物上のアライメントマークの位置を高精度に検出する。 - 特許庁

Lengths of the images 72XP1 to 72XP5 of the formed mark group are measured by a laser step alignment sensor, and the best focusing position is obtained based on the measured values.例文帳に追加

形成された楔型マーク群の像72XP1〜72XP5の長さをレーザ・ステップ・アライメント方式のセンサにより計測し、この計測値に基づいてベストフォーカス位置を求める。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer, a method capable of forming an alignment mark in an optional position in the depth direction of the semiconductor wafer by laser beam machining.例文帳に追加

レーザ加工によって半導体ウェーハの深さ方向の任意の位置にアライメントマークを形成することが可能な半導体ウェーハの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To facilitate alignment of a relative position to an X-ray vessel and to secure safety without impairing portability by providing an appropriate X-ray shielding part.例文帳に追加

X線管球との相対位置を容易にアライメント可能で、適切なX線遮蔽部を設けることにより安全性を確保し、可搬性を損うことがないようにする。 - 特許庁

When the sheet-like material 1 is turned, the front edge 23 of the sheet-like material 1 is kept in an alignment position.例文帳に追加

整列が回転部材(25)によって行われ、この場合、枚葉紙状材料(1)が表面側及び裏面側を印刷するためにその中央軸線を中心として転回される。 - 特許庁

To achieve a high accuracy in the alignment between a semiconductor bare chip and a planned position for mounting the chip on a printed-circuit board, regarding a device for mounting a semiconductor bare chip.例文帳に追加

本発明は半導体ベアチップ実装装置に関し、半導体ベアチップとプリント基板上の実装予定部とのアライメントの高精度化を図ることを課題とする。 - 特許庁

The light-receiving part 20 is mounted on an XYZ-stage 2, and its position can be adjusted in the XYZ-axis directions for optical axis alignment of the light-emitting elements 11.例文帳に追加

受光部20は、XYZステージ2に取付けられており、発光素子11の光軸合わせのため、XYZ軸方向に位置調整できるようになっている。 - 特許庁

To reduce the number of processes when entering identification information into a wafer by utilizing photolithography with an alignment mark formed first as a position reference.例文帳に追加

ウェハに対して、最初に形成されるアライメントマークを位置の基準として、フォトリソグラフィを利用して識別情報を記入する場合において、工程数を少なくする。 - 特許庁

To provide an alignment winding NC traverser device devised not to cause winding turbulence by correcting a change of a drum position at the time of aligning and winding a wire rod on a drum.例文帳に追加

線材をドラムに整列巻き取りする際に、ドラム位置の変化を補正して巻き乱れが生じないようにした整列巻きNCトラバーサ装置を提供する。 - 特許庁

In the corner mirror part, etching is performed by self alignment while a pattern of the first resist 1 is maintained, so that position deviation is not generated throughout dry etching of two times.例文帳に追加

またコーナーミラー部は第一のレジスト1のパターンを維持したままセルフアラインにてエッチングが行われており、二回のドライエッチングを通して位置ずれを起こすことがない。 - 特許庁

The relative position the in x-axis direction is adjusted based on an alignment error Δx1 in the x-axis direction between one x-axis mark and a mark of the mask corresponding to it.例文帳に追加

1つのx軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのx軸方向の位置合わせ誤差Δx_1に基づいてx軸方向の相対位置を調節する。 - 特許庁

A light irradiation section 1 irradiates a mask M with exposure light, and an alignment microscope 10 receives a projection image of a mask mark MAM, and position coordinates of the projection image are found and stored.例文帳に追加

光照射部1からマスクMに露光光を照射し、アライメント顕微鏡10でマスクマークMAMの投影像を受像し、その位置座標を求め記憶する。 - 特許庁

例文

To mount a resonator at a prescribed position of a circuit board side with high accuracy by providing an alignment mark to the resonator so as to enhance characteristics such as a Q and the reliability.例文帳に追加

共振器に位置合わせマークを設けることにより、共振器を回路基板側の所定位置に高い精度で搭載し、Q値等の特性や信頼性を向上させる。 - 特許庁




  
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