「alignment position」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A position adjusting device 26 can adjust the position of the wafer stage 16 relative to the mask stage 14, and adjusts the position of the wafer stage 16 based upon image data obtained by imaging the mask stage reference mark 15 and alignment mark 44 by the on-axis camera 20.例文帳に追加

位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 - 特許庁

Each of ring A and ring B in formula (I) is a phenylene group wherein a 1-3C alkyl or alkoxy group may be substituted for one or more hydrogen atoms thereof independently and a bonding position of each amino group to the ring A and the ring B is independently a para position or a meta position to an ether bond, and also an alignment layer obtained by susing the composition is provided.例文帳に追加

式（１）中の環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立して１個以上の水素が炭素数１〜３のアルキルまたはアルコキシで置換されてもよいフェニレンであり、環Ａおよび環Ｂへのアミノ基の結合位置は、それぞれ独立してエーテル結合に対してパラ位またはメタ位である。 - 特許庁

The positions of alignment marks 33 and 34 are detected while mutually pressurizing an upper surface plate 13 and a lower surface plate 12 by a pressurizing motor 27 and the position of the lower surface plate 12 is adjusted by a position adjustment table 26 so that the position deviation becomes within 0.3 μm for instance.例文帳に追加

加圧モータ２７により上定盤１３と下定盤１２とを互いに加圧しながら、アライメントマーク３３及び３４の位置を検出し、それらの位置ずれが、例えば０．３μｍ以内となるように位置調整テーブル２６により下定盤１２の位置を調整する。 - 特許庁

Then, when each of the out-in shots is exposed, not only a mask R of the shot is aligned with a pattern image according to the determined alignment of the shots, but also a face position of the wafer is adjusted according to the relative position detected during the measurement of the coordinate position.例文帳に追加

そして、上記の外内ショットを各々露光するときには、上で決定されたショットの配列に基づいて該ショットのマスクＲのパターン像との位置合わせが行われるとともに、座標位置の計測の際に検出された相対位置に基づいてウエハの面位置が調整される。 - 特許庁

An arithmetic part 40 performs packet processing for a packet differing in its field position according to differences of the protocol stack or for the object field by performing shaping processing for register alignment according to the protocol stack position information and field position information by the same program without depending upon the differences of the protocol stack.例文帳に追加

演算部４０は、プロトコルスタックの違いにより、フィールド位置が異なるパケットに対し、プロトコルスタックの違いに依存せずに同一のプログラムにより、プロトコルスタック位置情報及びフィールド位置情報にもとづき、レジスタアライメントの整形処理をして、対象フィールドのパケット処理を行う。 - 特許庁

To solve the problem that the position of an alignment mark 10 is shifted since a core substrate 1 is expanded or contracted and the position of a via-hole 13 formed so as to correspond to the mark is shifted relative to an outer layer land 25 formed on the substrate in a succeeding process.例文帳に追加

コア基板１が伸縮するためアライメントマーク１０の位置がずれ、それに合わせて形成したビアホール穴１３の位置が、後の工程で基板に形成する外層ランド２５に対してずれる問題を解決する。 - 特許庁

Depending on the distance L between a carrying position of a paper sheet P and a standard alignment member 9a, knobs 5a of right and left adjusters 5 are turned to be projected from a paper feeding part 3 so that the storage position of the paper feeding part 3 becomes closer to a front side by the distance L.例文帳に追加

用紙Ｐの搬送位置と基準整合部材９ａの距離Ｌに応じ、給紙部３の収納位置が距離Ｌだけ手前になるように左右のアジャスタ５のノブ５ａを回し給紙部３から突出させる。 - 特許庁

To provide a printer in which paper head position can be aligned without requiring test print every time when a sheet is set by eliminating error in alignment of paper head position occurring due to visual confirmation.例文帳に追加

頁先頭位置合わせにおいて、目視によって発生する頁先頭位置合わせの誤差を無くし、用紙をセットするたびに試し印刷をする必要の無い頁先頭位置合わせを可能とした印刷装置を提供することである。 - 特許庁

The second alignment stage 6 is equipped with a measuring device 67 to optically image a mark of the mounted reticle to measure the position of the reticle, and drives a stage 60 to correct the position of the reticle R based on the measurement result.例文帳に追加

第２アライメントステージ６は、載置されたレチクルのマークを光学的に撮像してレチクルの位置計測を行う計測装置６７を備えており、この計測結果に基づいてステージ６０を駆動してレチクルＲの位置補正を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor apparatus being position detecting channels by which an alignment mark can more easily and precisely recognized, and a manufacturing method for the semiconductor apparatus for overlaying patterns, using the position detecting channels.例文帳に追加

アライメントマークとしての認識をより容易かつ高精度ならしめる位置検出溝を備える半導体装置、およびその位置検出溝を利用してパターンの重ね合わせを行う半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The rail extension part 19 is turnable with respect to the rail body 18, between a rail extension position located in alignment with the rail body 18 and a rail storage position crossing the straight line along the rail body 18.例文帳に追加

レール延長部１９は、レール本体１８と一直線上に並ぶレール延長位置と、レール本体１８に沿った直線に対して交差するレール収納位置との間でレール本体１８に対して回動可能になっている。 - 特許庁

Regions A1 to A3 for alignment between a reference position of an eye to be examined and an examining section are arranged concentrically in a plane perpendicular to an optic axis O of the examining section contacting a vertex of a cornea when the eye to be examined is in a proper position.例文帳に追加

被検眼の基準位置と検査部との位置合わせの領域Ａ１〜Ａ３を、被検眼が適正な位置に存在するときの角膜の頂点に接する検査部の光軸Ｏに垂直な平面内に同心円状に設ける。 - 特許庁

Then, the position of a mark for alignment regarding at least two exposure regions being selected under the plurality of set arrangement conditions is used, thus calculating each exposure position regarding the plurality of exposure regions.例文帳に追加

そして、設定された複数の配置条件のそれぞれのもとで選択した少なくとも２つの露光領域に関する位置合わせ用マークの位置を使用して、前記複数の露光領域に関するそれぞれの露光位置を算出する。 - 特許庁

One alignment mark 60 included in this image as an image is considered as a noted mark, and the position of the substrate 9 is derived based on the noted mark in the image, so that the position of the substrate 9 can be detected with one imaging.例文帳に追加

そして、この画像中に像として含まれる一つのアライメントマーク６０が注目マークとされ、画像中の注目マークに基づいて基板９の位置が導出されることから、一度の撮像で基板９の位置を検出できる。 - 特許庁

In order to accurately perform alignment in both conditions where a snap ring exists, or a snap ring does not exist, the second position of the magnetic switch 422 is adjusted in relation to the first position of the magnetic field generator 502.例文帳に追加

スナップリングが存在している場合と存在していない場合との２つの状況に対して正確に位置合わせを行うために、磁界発生器５０２の第１の位置に対して磁気スイッチ４２２の第２の位置を調節する。 - 特許庁

To provide a method for adjusting an image forming position by which an image forming position is automatically adjusted at high speed only by printing a pattern for alignment once and measuring the average density thereof, and to provide a color image forming apparatus using the method.例文帳に追加

位置合わせ用パターンを一度印字してその平均濃度を測定するだけで画像形成位置の高速な自動調整が可能な画像形成位置調整方法及びそれを用いたカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When coupling a coated optical fiber (11) to a waveguide type optical element (12), a position of a connection interface (12A) is firstly determined by the active alignment as an aligned position when a maximum optical output (I_0) can be obtained from the wavguide type optical element (12).例文帳に追加

光ファイバ（１１）と導波路型光素子（１２）との結合時、まずアクティブアライメントにより、導波路型光素子（１２）から最大の光出力（Ｉ_０）が得られるときの接続面（１２Ａ）の位置を調心位置として決める。 - 特許庁

An alignment sensor is provided with spot position detecting means (51 and 22) which detect the irradiating position of spotlight on the arranging surface of a substrate based at least on part of reflected light generated when the spotlight is reflected by the substrate.例文帳に追加

スポット光が前記基板において反射することで生じた反射光の少なくとも一部に基づいて、前記基板の配置面における前記スポット光の照射位置を検出するスポット位置検出手段（５１，２２）を備える。 - 特許庁

By acquiring images of the position information marks 2b and 2c by a plurality of image acquiring devices and moving each image acquiring device based on the information of the positions of the alignment marks 2aR, 2aG and 2aB included in the acquired position information marks 2b and 2c, the alignment mark of the mask can be easily put in the field of view of the image acquiring device in a short period of time.例文帳に追加

位置情報マーク２ｂ，２ｃの画像を複数の画像取得装置により取得し、取得した位置情報マーク２ｂ，２ｃの画像に含まれるアライメントマーク２ａＲ，２ａＧ，２ａＢの位置の情報に基づいて、各画像取得装置を移動することにより、画像取得装置の視野内に、マスクのアライメントマークを短時間で容易に入れることができる。 - 特許庁

This creation method of the printing data is provided with steps of: superposing a letter shape of letter data with a datum point of each letter into a dot alignment disposed at predetermined intervals; and when the datum point is not located at a central position of the dots of the dot alignment, moving the whole letter shape so that the datum point becomes the central position of the dots and creating the dot map data.例文帳に追加

各文字について基準点を持った文字データの文字形状を、所定の間隔で配置されたドット配列に重ねる工程と、前記基準点が前記ドット配列のドットの中心位置にない場合には、前記基準点がドットの中心位置になるように文字形状全体を移動させてドットマップデータを作成する工程とを有する。 - 特許庁

A pressing face part 20T of a pressing member 20 for selectively holding the semiconductor device DV is supported in free movement up and down so as to make access to and get separated from an alignment plate 32 in accordance with up-and-down movement of a cover member 12 as well as in free turning between a position right above the alignment plate 32 and a given standby position.例文帳に追加

半導体装置ＤＶを選択的に保持する押圧部材２０の押圧面部２０Ｔが、カバー部材１２の昇降動に応じて整列板３２に対し近接または離隔するように昇降動可能に支持されるとともに、整列板３２に対し真上となる位置と所定の待機位置との間を回動可能に支持されるもの。 - 特許庁

When a pattern on another wafer with the same pattern as the one used last time baked in the same alignment or on the same wafer as the one used last time is observed, the previous movement target instruction position to the sample stage is changed in consideration of the previous observation visual field position slippage registered in the corresponding observation position, and the sample stage is moved according to the instruction position.例文帳に追加

先と同じパターンを同じ配列で焼き付けされた別のウェーハ又は先と同じウェーハ上のパターンの観察を行うときに、対応する観察位置に登録された前回までの観察視野位置ずれ量を考慮して前回までの試料ステージへの移動目標指示位置に変更を加え、その指示位置に従い試料ステージを移動させる。 - 特許庁

Therefore, liquid crystal which corresponds to the position of a sub-pixel electrode and is in an effective display area as a display part is hardly affected by alignment disorder of the liquid crystal caused at the part of the contact hole to prevent the alignment disorder of the liquid crystal in the effective display area.例文帳に追加

よって、サブ画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。 - 特許庁

The second alignment stage 6 has fixing pins 68a, 68b and movable pins 68c, 68d, and mechanically corrects the position of the reticle R by moving the movable pins 68c, 68d to bring the reticle on the second alignment stage 6 into contact with the fixing pins 68a, 68b.例文帳に追加

また、第２アライメントステージ６は固定ピン６８ａ，６８ｂ及び可動ピン６８ｃ，６８ｄを備えており、可動ピン６８ｃ，６８ｄを移動させて第２アライメントステージ６上のレチクルを固定ピン６８ａ，６８ｂに当接させることによりレチクルＲの位置補正を機械的に行う。 - 特許庁

The control unit 10 calculates an alignment correction for correcting a relative positional shift of the stage 2 from the light irradiating unit 6 when the aligner is adjusted, and the aligner carries out an exposure process controlling the position of the stage 2 on the basis of the calculated alignment correction.例文帳に追加

制御部１０は、露光装置の調整を行なった際に、光照射部６に対するステージ２の相対的位置ずれを補正するためのアライメント補正量を計算により求め、算出したアライメント補正量に基づいてステージ２の位置を制御しながら露光処理を行なう。 - 特許庁

In the base plate for transfer (donor element 20), formed by forming a light emitting layer 23 on a supporting base plate 21, a plurality of alignment marks M1 to M3 performing a position alignment with an element formation base plate to be an object of transfer are formed on the support base plate 21, coping with the matching relations different from each other.例文帳に追加

本発明は、支持基板２１に発光層２３が成膜されて成る転写用基板（ドナー要素２０）において、支持基板２１には、転写対象となる素子作成用基板との位置合わせを行うアライメントマークＭ１〜Ｍ３が、異なる合わせ関係に対応して複数設けられている。 - 特許庁

The wiring board includes an insulating layer and the alignment mark formed inside of a recess formed on a surface of the insulating layer, wherein one face of the alignment mark is roughened and is exposed at a position recessed from the surface of the insulating layer.例文帳に追加

本配線基板は、絶縁層と、前記絶縁層の表面に形成された凹部内に設けられた位置合わせマークと、を有し、前記位置合わせマークの一方の面は、粗化面とされており、前記一方の面は、前記絶縁層の前記表面に対して窪んだ位置に露出している。 - 特許庁

When a pattern formed on a specimen is tested by using a scanned electron microscope, and optically aligning the specimen put on a specific position of the scanned electron microscope, light used for alignment is obliquely cast on the specimen and alignment is performed by using the obtained image information of the pattern.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡を用いて試料に形成されたパターンを検査において、試料を走査型電子顕微鏡の所定の位置に載置する光学的なアライメントを行う際に、アライメントに用いる光を試料に斜めから照射して、これにより得られたパターンの画像情報を用いて行う。 - 特許庁

Liquid crystal in the effective display region which corresponds to the position of the sub-pixel electrodes and becomes the display part is hardly affected by disturbance in alignment of liquid crystal occurring in the part of the contact hole and can prevent the disturbance in alignment of liquid crystal in the effective display region from occurring.例文帳に追加

サブ画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。 - 特許庁

Then, when performing in-plane position alignment, the optical path detouring optical reflection unit 11 is removed from the optical path, and the alignment light from a light source means 8 for transmission is allowed to enter the lens surface 1a of the lens 1 to be inspected, and its transmitted light is allowed to pass the enlarging optical system 6.例文帳に追加

次いで、平面内位置アライメントを行なう際には、光路迂回用光反射ユニット１１を光路から退避させ、透過用光源手段８からのアライメント光を被検レンズ１のレンズ面１ａに入射し、その透過光は拡大光学系６を通過させる。 - 特許庁

In the position measuring method of this invention, when wafer alignment is conducted for two search shots and eight EGA shots, the two search shots are made common with shot to EGA shot, and the same common mark of the alignment mark is used in the search measurement and the EGA measurement.例文帳に追加

本発明の位置計測方法では、２箇所のサーチショットと８箇所のＥＧＡショットを対象としてウエハアライメントを行う際に、２箇所のサーチショットはＥＧＡショットとの共用ショットとし、アライメントマークもサーチ計測とＥＧＡ計測とで同一の共用マークを用いる。 - 特許庁

The first alignment mark 11 and the second alignment mark 12 viewed from a direction vertical to the facing surface of the interposer substrate 4a are mutually separated at an allowable distance as a laminated position when the LCD driver 3 and the interposer substrate 4a are laminated.例文帳に追加

第１アライメントマーク１１と第２アライメントマーク１２とを、インターポーザ基板４ａの上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ３とインターポーザ基板４ａを貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。 - 特許庁

To reproduce contents decided from a reference point of a thigh bone knee joint using a special jig installed perioperatively in an intramedullary alignment rod after the position and angle of a distal osteotomy surface to which the intramedullary alignment rod is used is decided accurately by properly reflecting individual differences of a patient.例文帳に追加

患者の個人差を適正に反映して、髄内アライメントロッドを用いる遠位骨切り面の位置及び角度を正確に決定した上で、術中に上記髄内アライメントロッドに装着する専用の治具を用いて大腿骨膝関節の参照点から決定した内容を再現する。 - 特許庁

When forming a via hole in the insulating layer or the like in the succeeding process, a corresponding alignment mark among the plurality of alignment marks is detected by the light made to pass through the openings by using the light irradiation member, and positioning is performed with the detected mark as a position reference.例文帳に追加

以降の工程において絶縁層にビアホールの形成等を行う際に、上記の光照射用部材を用いて上記の開口部を通過させた光により、上記の複数のアライメントマークのうち対応するアライメントマークを検出し、検出したマークを位置基準として位置合わせを行う。 - 特許庁

In using the marker structure, the optical alignment is performed by; providing at least one light beam directed to the marker structure; detecting the light received from the marker structure by a sensor; and determining alignment information from the detected light, wherein the alignment information includes information relating a position of the substrate to the sensor.例文帳に追加

使用に際して、前記マーカ構造は、 前記マーカ構造上に向けられる少なくとも１本の光ビームを提供すること、 前記マーカ構造から受け取った光をセンサで検出すること、および 前記基板の位置を前記センサに関連づける情報を含む位置合わせ情報を前記検出光から求めることに基づいて前記光学的位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

For use, the marker structure enables optical alignment by providing at least one light beam directed on the marker structure, detecting light received from the marker structure via a sensor, and obtaining alignment information from the detected light, the alignment information including information relating a substrate position to the sensor.例文帳に追加

使用に際して、前記マーカ構造は、前記マーカ構造上に向けられる少なくとも１本の光ビームを提供すること、前記マーカ構造から受け取った光をセンサで検出すること、および前記基板の位置を前記センサに関連づける情報を含む位置合わせ情報を前記検出光から求めることに基づいて前記光学的位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

The method includes bringing the imprint template alignment grating 24 and the substrate alignment grating 23 sufficiently close together such that they form a composite grating, guiding an alignment radiation beam to the composite grating while modulating the relative position of the imprint template 21 and the substrate 20, detecting a luminous intensity of alignment radiation which is reflected from the composite grating, and determining the offset by analyzing the modulation of the detected luminous intensity.例文帳に追加

この方法は、前記インプリントテンプレートアライメント格子２４および前記基板アライメント格子２３を、複合格子を形成するべく十分に近づけることと、前記インプリントテンプレート２１および前記基板２０の相対位置を変調させる間に前記複合格子にアライメント放射ビームを誘導することと、前記複合格子から反射されたアライメント放射の光度を検出することと、前記検出された光度の変調を分析することにより前記オフセットを特定することと、を含む。 - 特許庁

Alignment marks which are disposed on positioning objects of mounting positions of electronic parts and a display substrate are imaged, when performing alignment of the positioning objects on the basis of the imaging data, one side alignment mark of the positioning objects is imaged first and is moved to the position of the other side positioning object while integrating the one side positioning object having the imaged alignment mark and the imaged imaging means, and the other side positioning object is imaged.例文帳に追加

電子部品と表示基板の搭載位置の位置合せ対象に設けたアライメントマークを撮像し、その撮像データに基づいて前記位置合せ対象をアライメントする際に、前記位置合せ対象のうち一方のアライメントマークを最初に撮像し、前記撮像したアライメントマークを有する一方の位置合せ対象と前記撮像した撮像手段とを一体にして他方の位置合せ対象の位置に移動し、前記他方の位置合せ対象を撮像することを特徴とする。 - 特許庁

To efficiently and easily perform the change and alignment of the boring position of a boring means with small labor while being able to surely bore at a predetermined boring position even if boring a plurality of places in the circumferential direction of a pipe inside wall.例文帳に追加

管内壁の周方向複数箇所に穿孔する場合でも、所定穿孔位置で確実に穿孔することができるものでありながら、穿孔手段の穿孔位置の変更及び位置合わせを少ない労力で能率良く容易に行う。 - 特許庁

To provide a component mounting apparatus and a lighting device equipped with the component mounting apparatus which makes the position alignment of electronic components to a mounting body easy, and is easy to visually check the position misalignment after the mounting of the electronic components.例文帳に追加

電子部品の装着体への位置合わせを容易にすることができると共に、電子部品装着後、位置ずれを容易に目視確認することができる部品装着装置及び該部品装着装置を備える照明装置を提供する。 - 特許庁

Each mask M is aligned to the reference bar by displacing each mask holding part 11 to a predetermined position, based on relative position information read by the camera 59, between the reference marks 55 of the reference bar 51 and the alignment mark 45 of the mask M.例文帳に追加

カメラ５９が読み取った、基準バー５１の基準マーク５５と、マスクＭのアライメントマーク４５と、の相対的な位置情報に基づいて、各マスク保持部１１を所定の位置に変位させることによって各マスクＭを基準バーに対してアライメントする。 - 特許庁

To provide an alignment method in a board inspection apparatus and a board inspection apparatus capable of carrying out inspection, after accurately ascertaining the position at which the board is loaded, when the inspection is carried out by loading the board, which is the object to be inspected, at a predetermined inspecting position.例文帳に追加

検査対象となる基板を所定の検査位置に載置して検査を行う場合に、基板の載置される位置を正確に把握して検査を行うことを可能とする基板検査装置における位置合わせ方法及び基板検査装置の提供。 - 特許庁

A position alignment device has a table 3 provided so that it can be elevated in vertical direction, and a plurality of gage pins 4 each having a tilt portion coming into contact obliquely with an outer peripheral bottom end portion of the wafer and fixed at a predetermined circumferential position of the table 3.例文帳に追加

位置アライメント装置は、上下方向に昇降可能に設けられたテーブル３と、ウェハの外周底端部に斜めに接触する傾斜部を有しテーブル３の周囲の所定位置に固定された複数の位置決めピン４とを備える。 - 特許庁

The amount of shift between the position of the plate-side mark PPM transferred to the adjustment substrate AW and the position of the substrate-side mark WM is measured to calculate an alignment correction amount of the adjustment substrate AW relative to the printing plate on the basis of the amount of shift.例文帳に追加

調整用基板ＡＷに転写された版側マークＰＰＭの位置と基板側マークＷＭの位置とのずれ量を測定し、そのずれ量に基づいて印刷版に対する調整用基板ＡＷの位置調整補正量を算出する。 - 特許庁

An exposure system comprises: a detector for detecting an alignment mark provided in a movable member movable within a predetermined plane including a position to be irradiated with exposure light; and a first interferometer system for measuring the position information of the movable member.例文帳に追加

露光装置は、露光光が照射される位置を含む所定面内を移動可能な移動部材に設けられているアライメントマークを検出する検出装置と、移動部材の位置情報を計測する第１干渉計システムとを備えている。 - 特許庁