「atomic force microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The depth distribution in the overetched portion of the glass is obtained with an atomic force microscope, and the film thickness to fill the defect is controlled according to the distribution to flatten the surface of the filled transparent film.例文帳に追加

原子間力顕微鏡でガラスのオーバーエッチ部の深さ分布を求め、その深さ分布に従って埋める膜厚を制御し埋めた透明膜表面が平坦になるようにする。 - 特許庁

Alternatively, inclination of the scanning plane and the mask surface is corrected by a biaxial tilt stage provided in an atomic force microscope scanner system to process the mask, while the mask surface is kept parallel to the scanning plane.例文帳に追加

もしくはスキャン面とマスク面の傾きを原子間力顕微鏡スキャナー側に設けた2軸チルトステージで補正してスキャン面とマスク面が平行になる状態で加工を行う。 - 特許庁

A surface analysis method of an insulation material with an atomic force microscope includes performing AFM measurement by suppressing charging of the insulation material due to static electricity under high humidity environment.例文帳に追加

高湿度環境下で絶縁材料の静電気による帯電を抑制してＡＦＭ測定を行う原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。 - 特許庁

A projection aligner 10 is provided with an atomic force microscope(AFM) for measuring a latent image formed on a wafer W with a surface-reaction type resist subjected to silylation as a photosensitive layer.例文帳に追加

露光装置１０に、表面反応型のシリル化レジストを感光層としたウエハＷに形成される潜像を計測するため、原子間力顕微鏡ＡＦＭを備える構成とした。 - 特許庁

To provide a cantilever control device preventing the stop of the self-oscillation of a cantilever and the contact of the probe of the cantilever with a measuring target in an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡において、カンチレバーの自励振動の停止を防止でき、カンチレバーの探針が測定対象物と接触することを防止できるカンチレバー制御装置の提供。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope and its measurement setting method capable of specifying a measuring spot on the sample surface highly accurately at high speed, and aligning the spot with a probe, to thereby heighten measurement efficiency by an atomic force microscope or the like.例文帳に追加

試料表面の測定箇所を高速にかつ高精度に特定して探針との位置合わせを行い、原子間力顕微鏡等により測定の効率を高める走査型プローブ顕微鏡およびその測定設定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tapping mode atomic force microscope (AFM) allowing measurement of a delicate sample or a flexible material, and capable of reducing impact force between a probe and the sample acting during collision; and its operation method.例文帳に追加

繊細な試料や柔軟な素材の計測を可能にする、衝突の間に作用するプローブと試料の間の衝撃力を低減する実施可能なタッピングモード原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）及びその操作方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the extremely small optical waveguide is characterized by that the oxide film is formed by anodizing the surface of the metallic substrate by using a probe tip of an atomic force microscope, etc.例文帳に追加

また、本発明の極微小光導波路の製造方法は、金属基板表面を原子間力顕微鏡等の探針先端を用いて陽極酸化して酸化膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To detect the information of a phase delay even if a plurality of kinds of polymers are in rubber states, when analyzing a composite material including the plurality of kinds of polymers by using an atomic force microscope.例文帳に追加

複数種類のポリマーを含む複合材料を、原子間力顕微鏡を用いて解析する際、複数種類のポリマーがゴム状態にある場合でも位相遅れの情報を検出する。 - 特許庁

The atomic force microscope 100 includes a cantilever 130 having a probe 142 at the tip, a support 110 supporting the cantilever 130, and a vibration generating part 120 giving vibration to the cantilever 130.例文帳に追加

原子間力顕微鏡１００は、先端に探針１４２を有するカンチレバー１３０と、カンチレバー１３０を支持する支持部１１０と、カンチレバー１３０に振動を与える振動発生部１２０とを備えている。 - 特許庁

The invention relates to a method for estimating physical strength of a film from the observation of the surface conditions of the film of an aqueous acrylic-modified polyurethane resin in air and in water by using atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いての水性アクリル変性ポリウレタン樹脂被膜の、空気中と水中の表面状態の観察から被膜の物理強度を予測する方法により解決する。 - 特許庁

(1) This composite yarn comprises the modified cross-section regenerated cellulose fibers having 1.1-10 degree of modified cross section of the fibers and 10-50 nm fiber surface roughness parameter Ra measured under an atomic force microscope.例文帳に追加

(1) 繊維の異型度が１．１〜１０で、原子間力顕微鏡で測定した繊維表面粗度パラメーターＲａが１０〜５０ｎｍである異型断面再生セルロース繊維を含有する複合糸。 - 特許庁

To provide a probe and a cantilever for realizing an AFM (Atomic Force Microscope) having high resolution, and a method for manufacturing the probe and the cantilever easily and surely.例文帳に追加

高い分解能を有するＡＦＭを実現し得るプローブ及びカンチレバーと、それらプローブ及びカンチレバーを簡易且つ確実に製造することが可能な製造方法とを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface observation method using a scanning probe atomic force microscope capable of observing various differences of the surface state, especially the difference of hydrophobicity or hydrophilicity of the surface.例文帳に追加

表面状態の種々の相違、特に表面の疎水性あるいは親水性の差を観察することができる走査プローブ原子間力顕微鏡を用いた表面の観察方法を提供する。 - 特許庁

The silver halide photographic emulsion contains ≥50% by number of silver halide grains each having ≥10 nm thickness of a short-range repulsion region measured by a force curve method using an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いたフォースカーブ法によって測定される、近距離反発力領域の厚さが、１０ｎｍ以上であるハロゲン化銀粒子を粒子個数比率で５０％以上含有することを特徴とするハロゲン化銀写真乳剤である。 - 特許庁

A surface of a sample placed on a sample table 15 of an atomic force microscope and a probe provided on an end of a cantilever are brought close to each other and surface data of the sample are obtained based on an elastic deformation of the cantilever caused by interatomic force produced between the two.例文帳に追加

原子間力顕微鏡の試料台上に載置された試料表面とカンチレバー先端に設けられた探針とを近接させて両者間の原子間力によるカンチレバーの弾性変形に基づいて試料の表面情報を得る。 - 特許庁

The ferroelectric capacitor includes a first ferroelectric layer in which a ferroelectric is sandwiched between a pair of electrodes and the ferroelectric has a surface roughness (RMS), measured by an atomic force microscope, of not lower than 10 nm; and a second ferroelectric layer which is formed on the first ferroelectric layer and has a surface roughness (RMS), measured by the atomic force microscope, of not higher than 5 nm.例文帳に追加

一対の電極間に強誘電体を挟持させてなり、該強誘電体が、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さ（ＲＭＳ）が１０ｎｍ以上である第１強誘電体層と、該第１強誘電体層上に形成され、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さ（ＲＭＳ）が５ｎｍ以下である第２強誘電体層とを有する強誘電体キャパシタである。 - 特許庁

To provide radial clusters of sharp-ended multiwalled carbon nanotubes, which are new carbon nanostructures useful as a probe for STM (scanning tunneling microscope) or AFM (atomic force microscope), a field emission electron source of a display element, a display, or the like, and to provide a method for preparing the radial clusters.例文帳に追加

ＳＴＭやＡＦＭ用探針、表示素子、ディスプレイ等の電界放出電子源などとして有用な、新規なカーボンナノ構造物である鋭端多層カーボンナノチューブ放射状集合体とその製造方法鋭端多層カーボンナノチューブ放射状集合体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The plated material for the terminal or the connector has the Au plating layer formed on the surface of a base material composed of the stainless steel thin plate, wherein the arithmetic surface roughness (Ra) of the plating layer measured by an atomic force microscope is 3.0 nm or less.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ（Ra）が３．０ｎｍ以下であるＡｕめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 - 特許庁

To provide an atomic force microscope constituted so as to measure the relative displacement of an article to be inspected and a cantilever and capable of measuring the displacement of the cantilever, even if the article to be inspected is not placed on the stage.例文帳に追加

被検物とカンチレバーとの相対変位を計測する原子間力顕微鏡において、ステージ上に被検物が載置されていなくてもカンチレバーの変位を計測可能な原子間力顕微鏡を提供する。 - 特許庁

Herewith, a CdTe-system semiconductor substrate will be realized in which a projection with a height of ≥5 nm is not observed within the visual field of 10 μm×10 μm when the surface of the substrate is observed by an atomic force microscope.例文帳に追加

これにより、原子間力顕微鏡で基板表面を観察したときに１０μｍ×１０μｍの視野範囲内に高さ５ｎｍ以上の突起が観察されないＣｄＴｅ系半導体基板が実現される。 - 特許庁

A photomask 11 is immersed in cooling water 14 and modified by removal using a probe of an atomic force microscope, whereby adhesion by frictional heat is prevented and it is made easy to remove chips by wet cleaning.例文帳に追加

フォトマスク１１を冷却水１４中に浸して原子間力顕微鏡の探針を用いて除去修正を行うことで、摩擦熱による付着を防ぎ、削り屑もウェット洗浄で除去しやすくするものである。 - 特許庁

A transparent conductive oxide layer 19 is set as an anode, and a probe 21 of an atomic force microscope is placed with a predetermined interval from a surface of the transparent conductive oxide layer 19, which is set as a cathode.例文帳に追加

透明導電性酸化物層１９を陽極とし、透明導電性酸化物層１９の表面から所定の間隔を隔てて原子間力顕微鏡の探針２１を設置しこれを陰極とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をＡＦＭ型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

For example, an interaction between the surface of the ion exchanger and a cantilever that is a probe of an atomic force microscope is measured, and the charge state of the ion exchanger is checked, thereby evaluating the capability of the ion exchanger.例文帳に追加

例えば、原子間力顕微鏡の探針であるカンチレバーとイオン交換体の表面との相互作用を測定し、イオン交換体の電荷の状態を調べることにより、イオン交換体の性能評価を行う。 - 特許庁

The object surface is observed by measuring a horizontal force relative to the object whose surface has a part having different hydrophobicity or hydrophilicity by using the scanning probe atomic force microscope having a probe of a cantilever type modified by an organic compound.例文帳に追加

表面に疎水性または親水性が異なる部分を有する対象物を有機化合物で修飾されたカンチレバータイプの探針を有する走査プローブ原子間力顕微鏡を用いて水平力を測定することで対象物の表面を観察する。 - 特許庁

Otherwise, the foreign substance P is irradiated with an electron beam to deposit a solid material on the foreign substance P in a deposition gas atmosphere in which the solid material is generated by irradiation with the electron beam, and a force by the probe of an AFM (atomic force microscope) is applied to the solid material.例文帳に追加

又は、電子ビームが照射されることにより固体材料が生成されるデポジションガス雰囲気中において、異物Ｐに電子ビームを照射して異物Ｐ上に固体材料を堆積させ、この固体材料に対してＡＦＭの探針により力を印加する。 - 特許庁

Otherwise, the transparent film is deposited to be higher than the normal glass surface, and the portion higher than the glass surface is scraped off by a mechanical process by an atomic force microscope with a fixed height so as to flatten the surface of the filled transparent film.例文帳に追加

透明膜が正常なガラス面よりも高くなるように埋め、ガラス面よりも高い部分を高さを固定した原子間力顕微鏡による機械的な加工で削り取り埋めた透明膜表面が平坦になるようにする。 - 特許庁

To provide an atomic force microscope capable of correcting sequentially a relative displacement between a cantilever used in measurement and a measuring object not affected by thermal expansion or contraction of an instrument or the measuring object, and by instrument vibration or the like caused by floor vibration.例文帳に追加

測定に用いるカンチレバーと被測定物間の相対変位を逐次補正して、装置や被測定物の熱膨張や収縮、床振動による装置振動等の影響を受けない原子間力顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming apparatus by which a pattern in a relatively wide region of a square millimeter or larger can be formed in a short time by electrochemical lithographic pattern forming method and the pattern can be formed without using an expensive apparatus such as an AFM (atomic force microscope) and an STM (scanning tunneling microscope).例文帳に追加

電気化学リソグラフィーによるパターン形成方法において、平方ミリメートル以上の比較的広い領域に渡るパターン形成を、短時間で行うことを可能とするとともに、ＡＦＭ、ＳＴＭなどの高価な装置を用いることなくパターンを形成し得るパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

In this method, a micro phase separation structure film is irradiated with normal-pressure plasma, and the film is etched up to a part allowing confirmation of the micro phase separation structure, and then the surface is observed by an atomic force microscope (AFM), to thereby confirm the micro phase separation structure.例文帳に追加

ミクロ相分離構造膜に、常圧プラズマを照射し、ミクロ相分離構造が確認可能な部分まで膜をエッチングした後、表面を原子力間顕微鏡（ＡＦＭ）で観察することによりミクロ相分離構造を確認する方法である。 - 特許庁

In a glass substrate for an information recording medium, variability of surface roughness (Ra), which is calculated from measurement results of surface roughness (Ra) obtained from 10 or more fields of 10 μm square using an atomic force microscope, is less than 3%.例文帳に追加

情報記録媒体用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ（Ｒａ）を１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、３％以下である。 - 特許庁

In this defect inspecting method for the color filter, a surface potential of the color filter is measured by an atomic force microscope, and a defect in the surface is inspected based on a difference between the maximum value and the minimum value in the surface potential.例文帳に追加

カラーフィルターの欠陥検査方法であって、カラーフィルターの表面電位を原子間力顕微鏡で測定し、表面電位の最大値と最小値の差から表面の欠陥を検査することを特徴とするカラーフィルターの欠陥検査方法。 - 特許庁

A ferro-dielectric thin film 12 is attached onto a base board 11 which forms a work to be processed, and patterns are formed on the thin film using atomic force microscope which has an electroconductive probe 13 so that the desired nano-circuit pattern is partitioned.例文帳に追加

加工物を形成する基板１１上に強誘電体薄膜１２を付着し、次に、導電性探針１３を有する原子間力顕微鏡を用いて、強誘電体薄膜上にパターンを形成して、所望のナノ回路パターンを画定する。 - 特許庁

To provide a frequency detection device of a vibrator capable of being detected in a wide frequency detection range while highly holding detection sensitivity of a resonant frequency of the vibrator, an atomic force microscope, and a frequency detection method and a program of the vibrator.例文帳に追加

振動体の共振周波数の検出感度を高く保ったまま、広い周波数検出範囲で検出可能な振動体の周波数検出装置、原子間力顕微鏡、振動体の周波数検出方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a contact type atomic force microscope capable of rapidly obtaining a stable image of surface shape of a specimen in a state of an atmospheric pressure not in environmental control when the surface shape is measured by a contact mode having high sensitivity for irregularities.例文帳に追加

環境制御がされていない大気圧の状態にある試料の表面形状を、凹凸に対する感度の高いコンタクトモードによって測定するとき、吸着力の影響を回避して安定した表面形状像を迅速に得る。 - 特許庁

A cantilever 12 having a probe 12a for characteristic measurement is resonated by an exciting section 5, the vibration of the cantilever 12 is detected by a vibration detecting section 6, and AFM (Atomic Force Microscope) observation of a sample is determined based on the detection result by a control/arithmetic section 9.例文帳に追加

特性計測用プローブ１２ａが形成されたカンチレバー１２を励振部５により共振させ、カンチレバー１２の振動を振動検出部６で検出し、その検出結果に基づいて試料のＡＦＭ観察を制御・演算部９で求める。 - 特許庁

An atomic force microscope with a probe in its light condensing system is installed in the cathode luminescence composite device which detects light from a sample irradiated by a electron beam.例文帳に追加

試料に電子線を照射して、その電子線照射により試料から発生した光を検出するカソードルミネッセンス装置において、集光システムとして探針をプローブとする原子間力顕微鏡を設けたことを特徴とするカソードルミネッセンス複合装置。 - 特許庁

Then, before actually exposing the pattern of a reticle R onto the wafer W, is the pattern of the reticle R is illuminated with an EUV beam EL to measure a latent image formed on the resist subjected to silylation with the atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

そして、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に本露光するに先立って、レチクルＲのパターンをＥＵＶ光ＥＬで照明することによってシリル化レジストに形成された潜像を、原子間力顕微鏡ＡＦＭで計測する構成とした。 - 特許庁

This method is applied for the scanning type probe microscope provided with a measuring part for measuring atomic force or the like as to the sample surface by scanning a sample 12 using a probe 25, a fine motion mechanism 24 for moving the probe finely, a prove approaching mechanism 11 for changing a space between the probe and the sample, the optical microscope 22, and a focusing driving mechanism 21.例文帳に追加

この焦点合せ方法は、探針２５で試料１２を走査して試料表面に関する原子間力等を測定する測定部と、探針を微動させる微動機構２４と、探針と試料の間隔を探針接近機構１１と、光学顕微鏡２２と、その焦点合せ用駆動機構２１を備える走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

In the method for inspecting the compound semiconductor substrate, the surface roughness Rms of the compound semiconductor substrate is measured by using an atomic force microscope at pitches of 0.4 nm or less in a visual field in a square of 0.2 μm or less.例文帳に追加

化合物半導体基板の検査方法は、化合物半導体基板の表面の検査方法であって、０．２μｍ以下四方の視野で、０．４ｎｍ以下のピッチで、原子間力顕微鏡を用いて化合物半導体基板の表面粗さＲｍｓを測定する。 - 特許庁

Next, the humidity-adjusting pin 14 of the measuring cell 8 is loosened to expose the surface of the resin base material 1 of the sample 7 to a high-humidity atmosphere and the surface shape of the same place as a dry state measured first by the atomic force microscope 20 is measured, after a fixed interval.例文帳に追加

次に、測定セル８の湿度調整ピン１４を緩め、試料７の樹脂基材１の表面を高湿雰囲気に晒し、一定時間後に原子間力顕微鏡２０により始めに測定した乾燥状態と同じ箇所の表面形状を測定する。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

The cross section of chemically treated hair, which is obtained by twice treating hair with a commercial high bleaching agent, and that of treated hair obtained by treating hair with a 2% amino acid aqueous solution are respectively measured by an atomic force microscope to obtain an amplitude image shown in Fig.1 and a phase image shown in Fig.2.例文帳に追加

毛髪を市販のハイブリーチ剤で２回ブリーチ処理を行った化学処理毛と、更に２％アミノ酸水溶液で処理したトリートメント処理毛との断面を、それぞれ、原子間力顕微鏡で測定し、図１に示すamplitude像と、図２に示すphase像とを得た。 - 特許庁

A static eliminator 4 and a charge monitor 3 are arranged and the charge monitor 3 is controlled on the basis of the position of the probe 2 of the atomic force microscope by a monitor position control means 7 so as to measure the charge quantity in the periphery of the position of the probe 2 of the sample 1.例文帳に追加

除電装置４と、帯電モニタ３を配置し、原子間力顕微鏡の探針２の位置に基づいて、試料１の探針２の位置周辺の帯電量が測定されるように帯電モニタ３をモニタ位置制御手段７により制御する。 - 特許庁