「base roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Ra ratio=Ra [base material]/Ra [calibration plate] (1), where Ra [base material] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of the base material (without coating), and Ra [calibration plate] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of calibration plate.例文帳に追加

Ｒａ比率＝Ｒａ[基材]／Ｒａ[校正板] …（１） ただし、 Ｒａ[基材]； 前記基材（皮膜を持たないもの）の算術平均粗さＲａ（μｍ） Ｒａ[校正板]； 校正板の算術平均粗さＲａ（μｍ） - 特許庁

The surface roughness Rz of the metal base is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less.例文帳に追加

金属基材の表面粗さＲｚが、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Mass-production is attained at a low cost by setting the lower limit of the surface roughness of the base material to 0.2 mm.例文帳に追加

基材の表面粗さの下限を０．２ｎｍとすることにより安価で大量生産できる。 - 特許庁

To provide a polishing slurry, especially a slurry for reducing the surface roughness of a metallic base material.例文帳に追加

研磨スラリー、特に、金属基材の表面荒さを低減させるためのスラリーを提供する。 - 特許庁

The surface of the grain-oriented electromagnetic steel sheet having the base iron exposed thereon has preferably a roughness of 0.4 μm or less by the arithmetic mean roughness Ra.例文帳に追加

この発明において、地鉄が露出した方向性電磁鋼板表面の粗さは算術平均粗さＲａで0.4μｍ以下であることとするのが好ましい。 - 特許庁

To improve surface roughness of a polishing surface of a base board with a metallic film without reducing productivity.例文帳に追加

生産性を低下させずに、金属膜付基板の研磨面の面粗さを改善しようとするものである。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a base material before being coated with the hard carbon thin film is ≤ 0.03 μm.例文帳に追加

硬質炭素薄膜の被覆前における基材の表面粗さが、Ｒａで０．０３μｍ以下である。 - 特許庁

The surface roughness Rz of the metal base is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less.例文帳に追加

前記金属基材の表面粗さＲｚは、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好適である。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the base material film is preferably 0.5-1.6 μm for the wafer full-cut dicing tape.例文帳に追加

前記ウエハフルカット用ダイシングテープの基材フィルムの面粗度（Ｒａ）は、好ましくは、０．５〜１．６μｍである。 - 特許庁

An arithmetic average roughness Ra on an adhesive face between the base 10 and the sleeve 11 is 0.1-1.0 μm.例文帳に追加

ベース１０とスリーブ１１の接着面の算術平均粗さＲａは０．１〜１．０μｍの範囲にある。 - 特許庁

Surface roughness of the base body in the areas α1 and β1 is determined for Rmax 0.4 μm or below for a reference length 5 μm.例文帳に追加

領域α1とβ1における基体の表面粗さが基準長さ5μmに対してRmax0.4μm以下とする。 - 特許庁

A diamond-like carbon film is provided on the surface of a rubber base, having a surface roughness of 0.001-10 μmRa.例文帳に追加

表面粗さが０．００１〜１０μｍＲａのゴム基材の表面にダイヤモンド状炭素膜を設ける。 - 特許庁

At least, one surface of the memory card base material 1 is provided with a print surface 2 of a surface roughness of 2-20 μm.例文帳に追加

メモリカード用基材１の少なくとも片面に表面粗さが２〜２０μｍの印刷面２を設ける。 - 特許庁

A surface roughness Ra is 0.03-0.2 μm in a portion covered with the DLC layer D out of the base material.例文帳に追加

母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲａは０．０３〜０．２μｍである。 - 特許庁

The metal film (19b) is formed on the surface which is on the side opposite to the base material side, with the surface having a surface roughness larger than the surface on the base material side of the insulating film (19a).例文帳に追加

絶縁フィルム（19a）の基材側の面よりも面粗度が大きく且つ該基材側とは反対側の面上に、金属膜（19b）を形成する。 - 特許庁

The surface layer part of the base material is made multiply porous by combining coarse holes having the same μm-order diameter as the surface roughness with fine pores having a mm-order diameter extremely smaller than the surface roughness.例文帳に追加

基体の表層部が表面粗度と同じμｍオーダー径の粗大孔と表面粗度より格段に小さいｎｍオーダー径の微細孔との組合せにより複合的に多孔質化される。 - 特許庁

In the bolt which is obtained by cold-forging the round bar workpiece as a bolt base-stock, the flatness and the surface roughness at the end surface can be improved.例文帳に追加

この丸棒ワークをボルト素材として冷鍛加工されたボルトは、その端面の平面度、面粗さが向上する。 - 特許庁

The surface roughness of a substrate 10 as a base face on which a recording and reproducing magnetic layer is formed or the surface roughness of a dielectric film 5 formed on the surface of the substrate is adjusted to ≤0.3 nm.例文帳に追加

記録再生磁性層が形成される下地面となる基板１０の表面、あるいはこの基板面上に形成される誘電体膜５の表面粗さを０．３ｎｍ以下とするものである。 - 特許庁

In an optical waveguide module, the end face 41b of the base member 41 of an optical fiber array 40 is a rough surface whose average roughness Ra is 0.2μm±o.1μm例文帳に追加

光ファイバアレイ４０のベース部材４１の端面４１ｂは、平均粗さＲａが０．２μｍ±０．１μｍの粗面である。 - 特許庁

Of two base surfaces adjacent on the upper surface 5c, the lower surface 5d and side surfaces 5e, 5f of the ceramic base 5, the base surface having a smaller distance to the inner electrode layer disposed nearest in the plurality of first and second inner electrode layers 7, 8 has a surface roughness larger than the surface roughness of the base surface having a larger distance to the inner electrode layer.例文帳に追加

セラミック素体５の上面５ｃ、下面５ｄ、及び側面５ｅ，５ｆにおいて隣り合う２つの素体面のうち、複数の第１及び第２の内部電極層７，８の中で最も近くに配置された内部電極層との間の距離が小さい方の素体面の表面粗さは、その距離が大きい方の素体面の表面粗さより大きい。 - 特許庁

The peeling member has base material, on the surface of which fine ruggedness is provided and a coating film provided on the surface side of the base material, and is set so that its surface roughness Ra is 0.03 to 1.5μm and its surface roughness Rz is 0.8 to 15 μm.例文帳に追加

剥離部材は、その表面に微小な凹凸が設けられた基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、基材は、表面粗さＲａが０．０３〜１．５μｍであり、かつ、表面粗さＲｚが０．８〜１５μｍである。 - 特許庁

The peeling member has base material on the surface, of which fine ruggedness is provided and a coating film provided on the surface side of the base material, and is set so that its surface roughness Ra is 0.04 to 1.3 μm and its surface roughness Rz is 0.7 to 14 μm.例文帳に追加

剥離部材は、その表面に微小な凹凸が設けられた基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、剥離部材は、その表面粗さＲａが０．０４〜１．３μｍであり、かつ、その表面粗さＲｚが０．７〜１４μｍである。 - 特許庁

The film thickness T of the resin coating film 4 is 0.05 to 1.0 μm, and the surface roughness Ra of the base 2 is 0.1 to 0.8 μm.例文帳に追加

樹脂塗膜４の膜厚Ｔは０．０５μｍ〜１．０μｍであり、基板２の表面粗さＲａは０．１μｍ〜０．８μｍである。 - 特許庁

Also, the film whose surface roughness Ra is within the range of 2.10nm is good in handling as the base film and the running when it is used as a magnetic tape. 例文帳に追加

また、表面粗さRaが2～10nmの範囲にあるものは、ベースフィルム取り扱い性、磁気テープとした時の走行性が良好である。 - 特許庁

The surface roughness on the side of the base 15 on which the selective absorbing film is formed is 0.98μm in center-line average.例文帳に追加

基板１５における選択吸収膜が形成された面の表面粗さを中心線平均粗さで０．９８μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a packaging method which is free from an uncomfortable feeling due to roughness of the surface of a base film and provides a package with good openability.例文帳に追加

基材フィルムの表面の荒れに起因する不快感を覚えることなく、かつ開封性が良好な包装方法を提供する。 - 特許庁

and the end face 51a of the base plate 51 of a high-molecular optical waveguide element 50 is a rough surface whose roughness Ra is 0.2μm±0.1μm.例文帳に追加

高分子光導波路素子５０の基板５１の端面５１ａは、平均粗さＲａが０．２μｍ±０．１μｍの粗面である。 - 特許庁

The certified recording medium has a hologram layer formed as a base material light scattering prevention layer on a paper base material for the certified recording medium with a centerline average roughness (Ra) of 0.5 to 80.0 μm.例文帳に追加

認証記録媒体は、中心線平均粗さ（Ｒａ）０．５〜８０．０μｍからなる認証記録媒体用紙基材上に、基材光散乱防止層として、ホログラム層を形成している。 - 特許庁

Alternatively, the member consists of an isotropic graphite base material and a glassy carbon body which has the above surface roughness values (i.e., Ra is ≤0.8 μm and Rmax is ≤10 μm) and a 0.1-10 mm thickness and is joined to the isotropic graphite base material.例文帳に追加

また、この表面粗さ性状を備えた厚さ０．１〜１０mmのガラス状カーボンが等方性黒鉛基材に接合されてなる液相エピタキシャル成長用部材。 - 特許庁

The hot rolled steel plate is characterized in that the volume fraction of magnetite in the scale layers is 60% or more, the average crystal grain size of the magnetite is 3 μm or less, and the average roughness of the scale/base iron interface is 1.5 μm or less by the average roughness Ra.例文帳に追加

スケール層中のマグネタイトの体積分率を６０％以上、かつ、前記マグネタイトの平均結晶粒径を３μｍ以下とし、スケール／地鉄界面の粗さを平均粗さＲａで１．５μｍ以下とする。 - 特許庁

The value of a difference Rz2-Rz1 obtained by subtracting the ten-point average roughness Rz1 of the base material 11A from the ten-point average roughness Rz2 of the negative electrode collector 11 is set to be not less than 0.2 μm and not more than 5.1 μm.例文帳に追加

負極集電体１１の十点平均粗さＲｚ２から基材１１Ａの十点平均粗さＲｚ１を引いた差Ｒｚ２−Ｒｚ１の値は０．２μｍ以上５．１μｍ以下とされている。 - 特許庁

To provide a radar device cover, capable of preventing defective appearance due to surface roughness of In bright film layer induced from paint solvent of suppressive paint film layer without base coat paint film, while avoiding defective appearance due to surface roughness of In bright film layer caused by the defects of base coat paint film layer.例文帳に追加

ベースコート塗膜層の欠陥に起因するＩｎ光輝膜層の肌荒れ外観不良をなくすことができるとともに、ベースコート塗膜層がなくても、おさえ塗膜層の塗料溶剤に起因するＩｎ光輝膜層の肌荒れ外観不良を防ぐことができるレーダー装置カバーを提供する。 - 特許庁

The magnetic resistance element is formed by forming a base film on a substrate, heating the base film at 400°C or higher, emitting an ion beam over the base film to reduce its surface roughness, and forming a ferromagnetic layer and a magnetic layer.例文帳に追加

この素子は、基板上に下地膜を形成し、この下地膜を４００℃以上で熱処理し、この下地膜の表面にイオンビームを照射して表面粗さを低減し、強磁性層および磁性層を形成して得ることができる。 - 特許庁

In a base electrode forming process, an electrode film is formed and is then annealed, and then minute roughness is formed on the surface of electrode film.例文帳に追加

下地電極形成工程において、電極膜形成した後これをアニールし、引き続いて電極膜表面に微細な荒れを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can form a base mount efficiently on which an imaging element is mounted, with practically sufficient roughness.例文帳に追加

撮像素子が搭載される基台を、実用的に十分な平坦度をもって、効率的に作製することが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface roughness of the base material 2 is ≤0.1 μm by Ry (maximum height), and the hard carbon film 3 is deposited by a sputtering process.例文帳に追加

基材２の表面粗さはＲｙ（最大高さ）で０．１μｍ以下であり、硬質炭素被膜３はスパッタリング法により成膜されている。 - 特許庁

Further, in the base material consisting of the base material mainly made of the thermoplastic resin and an ink accepting layer formed on one side of the base material, the ten-point means roughness (Rz) of the other side, on which the ink accepting layer is not laminated, of the base material is set to be 2 μm or more.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂を主成分として構成された基材と、該基材の一方の表面に形成されたインク受容層とからなるインクジェット印刷シートにおいて、前記基材の前記インク受容層が積層されていない側の表面の十点平均粗さ（Rz）を２μｍ以上とする。 - 特許庁

In a piston base 11 (base) in which admittance of an anodic oxidation coating layer 13 is within a specified range (for example, 0.9 to 2.0 mS) by specifying the surface roughness of the piston base 11 (base) to be 3.0 μmRa or less, good adhesion of a chromium plating layer is reliably obtained in a chromium plating process.例文帳に追加

ピストン基体１１（基体）の表面粗さを3.0μmRa以下と規定することで、陽極酸化皮膜層１３のアドミッタンスが規定範囲（例えば0.9〜2.0mS）内であるピストン基体１１（基体）においては、クロムめっき処理工程において、確実に、クロムめっきの良好な密着性を得ることができる。 - 特許庁

This insulating-layer-forming method comprises forming an inorganic coating with a surface roughness of 0.1 to 0.4 μm by arithmetic mean roughness Ra on the surface of the grain-oriented electromagnetic steel sheet having the base iron exposed thereon; and forming the phosphate-based insulating layer containing no chromium on the inorganic coating.例文帳に追加

地鉄が露出した方向性電磁鋼板表面に表面粗さが算術平均粗さＲａで0.1〜0.4μｍの無機質被膜を形成し、該無機質被膜上にクロムを含まないリン酸塩系絶縁被膜を被成する。 - 特許庁

In a discrete track type vertical two-layer film medium, the surface of a magnetic recording layer side of soft magnetic base layer and the surface of a non-magnetic substrate side of the soft magnetic base layer are not parallel to each other, or their surface roughness is different.例文帳に追加

ディスクリートトラック型の垂直二層膜媒体において、軟磁性下地層の磁気記録層側表面と非磁性基板側表面とが平行でないか、あるいはその表面粗さが異なる。 - 特許庁

To provide electrolytic copper foil which has an about middle roughness in spite of thick copper foil, assures adhesion of a specified level or above of an insulation resin base material and permits the use of the thinner insulation resin base material.例文帳に追加

厚い銅箔であっても、中程度の粗度を有し、絶縁樹脂基材との一定レベル以上の密着性を確保し、且つ、より薄い絶縁樹脂基材の使用が可能な電解銅箔を提供する。 - 特許庁

This product has a base metal 1 composed of stainless steel and a covering layer 2 covered on the surface of the base metal 1 and composed of porcelain enamel having hydrophilic properties, and the ten-point average roughness (Rz) of the covering layer is <20 μm.例文帳に追加

ステンレスからなる母材１と、母材１の表面に被覆され、親水性を有する琺瑯ガラスからなる被覆層２とを有し、被覆層は、十点平均粗さ（Ｒ_Z）が２０μｍ未満である。 - 特許庁

As the method of coating the resin base material with the silicone resin with a high adhesion, after at least a surface roughness of Ra of 50 nm-500 μm is formed on the surface of the resin base material, the silicone resin is coated thereon.例文帳に追加

樹脂基材上にシリコーン樹脂を密着性高くコーティングする方法として、少なくとも、樹脂基材の表面にＲａ ５０ ｎｍ〜５００μｍの凹凸を設けた後、シリコーン樹脂を塗布する。 - 特許庁

To color a base material having roughness and fine ruggedness on the surface thereof in addition to a base material having surface glossiness, in an optional color without using a pigment and a dye in a simple process.例文帳に追加

簡易な工程で、また顔料や染料を用いることなく、表面光沢を有する基材の他、表面にざらつきや微細な凹凸形状などを有する基材も任意の色彩に着色する。 - 特許庁

The surface roughness of a DLC (diamond-like carbon) film 30 of the base material 28 of a needle bar 11 is made smaller than that of the base material 32 of a needle bar support member 12 while the DLC film 30 is formed harder than the base material 32 of the needle bar support member 12.例文帳に追加

針棒１１の基材２８のＤＬＣ皮膜３０の表面粗さが針棒支持部材１２の基材３２の表面粗さよりも小さく、且つ、ＤＬＣ皮膜３０が針棒支持部材１２の基材３２よりも硬く形成される。 - 特許庁