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diffraction analysisの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 108件
DIFFRACTION CONDITION SIMULATION DEVICE, DIFFRACTION MEASUREMENT SYSTEM, AND CRYSTAL ANALYSIS SYSTEM例文帳に追加
回折条件シミュレ—ション装置、回折測定システムおよび結晶分析システム - 特許庁
ISOTROPIC HIGH-PRESSURE APPLYING DEVICE FOR X-RAY DIFFRACTION ANALYSIS例文帳に追加
X線回折解析用等方性高圧力印加装置 - 特許庁
METHOD FOR ANALYSIS OF ELECTRON BEAM DIFFRACTION IMAGE AND TRANSMISSIVE ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加
電子線回折像の解析方法及び透過型電子顕微鏡 - 特許庁
INTENSITY CALCULATION METHOD OF DIFFRACTION SPOT IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加
X線構造解析における回折斑点の強度算出方法 - 特許庁
POLARIZATION ANALYSIS SYSTEM USING POLARIZING DIFFRACTION ELEMENT AND DISPENSING WITH REQUIREMENT FOR MECHANICAL DRIVE例文帳に追加
偏光回折素子を用いた機械駆動不要な偏光解析システム - 特許庁
X-RAY DIFFRACTION DEVICE, DATA ANALYSIS METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE, CONTROL METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE AND PROGRAM FOR IMPLEMENTING THE METHOD例文帳に追加
X線回折装置、X線回折装置のデータ解析方法、X線回折装置の制御方法およびその方法を実現するためのプログラム - 特許庁
Incident light is subjected to spectrum analysis by diffraction using a lattice.例文帳に追加
入射光は、格子で入射光を回折させることによりスペクトル分析される。 - 特許庁
The second return light diffracted by the diffraction grating is received as wavelength analysis light.例文帳に追加
回折格子で回折された第2の復路光を波長解析用光として受光する。 - 特許庁
The cement quality control method is carried out by analysis of a mineral composition using Rietvelt analysis of a powder X-ray diffraction chart.例文帳に追加
粉末X線回折チャートのリートベルト解析を利用した鉱物組成の分析によってセメントの品質管理を行う。 - 特許庁
To provide a method and device for X-ray transmission diffraction analysis remarkably improved in particle statistics.例文帳に追加
粒子統計が著しく改善されたX線透過回折分析方法および装置の提供。 - 特許庁
INTENSITY CORRECTION AT OBLIQUE INCIDENCE TO DETECTOR OF DIFFRACTION X-RAY IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加
X線構造解析における回折X線の検出器への斜め入射時の強度補正 - 特許庁
To improve analysis efficiency when X-ray diffraction quantitative analysis of many samples is performed using a base standard absorption correction method.例文帳に追加
多数の試料について基底標準吸収補正法を用いたX線回折定量分析を行う場合の分析効率を向上させる。 - 特許庁
To provide an X-ray analysis device, such as a fluorescent X-ray analysis device of a wavelength dispersion type, an X-ray diffraction device or the like, capable of making a prompt and accurate analysis by continuous scan.例文帳に追加
波長分散型の蛍光X線分析装置やX線回折装置等のX線分析装置において、連続スキャンで迅速かつ正確な分析を行える装置を提供する。 - 特許庁
In the analysis step, parabolic approximation is applied to a relationship between a position of the diffraction spot and diffraction intensity, and a value of diffraction angle at a position corresponding to the vertex of the parabola is set to the diffraction angle at a position corresponding to the center of the gauge volume.例文帳に追加
解析工程では、回折スポットの位置と回折強度とを関係を放物線近似し、かつ、放物線の頂点に対応する位置の回折角の値をゲージ体積中心に相当する位置の回折角に設定することを特徴とする。 - 特許庁
The image analysis section 18 Fourier-transforms the crystal lattice image to acquire a diffraction spot image, and corrects the magnification, aspect ratio, and distortion of the image so that the position of the diffraction spot of the diffraction spot image matches with the position of a theoretical diffraction spot.例文帳に追加
画像解析部18は、結晶格子像をフーリエ変換して回折スポット像を取得し、その回折スポット像の回折スポットの位置が理論上の回折スポットの位置と一致するように画像の倍率、縦横比及び歪みを補正する。 - 特許庁
The determination process and the analysis process can be performed by using an electronic back scattering diffraction image method.例文帳に追加
判定工程と解析工程とは、電子後方散乱回折像法を用いて行うことができる。 - 特許庁
An analysis of the effects of temperature on extinction distances in electron diffraction is given by Howie and Valdre (1967). 例文帳に追加
電子回折における消衰距離に対する温度の影響の解析は、HowieとValdre (1967)によって与えられている。 - 科学技術論文動詞集
Analysis light r5 made incident to a diffraction grating G101 is dispersed by the diffraction grating G101 and vertically moves toward an analysis light derivation unit A101 formed on a surface P101 of a first substrate part 101 as dispersed analysis light r6.例文帳に追加
回折格子G101に侵入した分析光r5は、回折格子G101によって分光され、分光された分析光r6として、第1基材部101の表面P101に形成される分析光導出部A101に向かって垂直に進行する。 - 特許庁
A fiber formed product has a crystallization peak in the vicinity of an angle (2θ) of diffraction of 6-10° as a result of analysis by X-ray diffraction method and the formed product is composed of a crystallized single-wall carbon nanotube.例文帳に追加
X線回折法による解析結果、回折角2θ=6〜10°付近に結晶化ピークを有する、結晶化した単層カーボンナノチューブからなる繊維成型体。 - 特許庁
METHOD OF FINDING EXPERIMENTALLY ELECTROSTATIC POTENTIAL BY MEM STRUCTURAL ANALYSIS OF X-RAY DIFFRACTION DATA OF CRYSTAL SUBSTANCE例文帳に追加
結晶物質のX線回折データのMEM構造解析により静電ポテンシャルを実験的に求める方法 - 特許庁
To provide a diffraction grating reducing the occurrence of abnormal peaks of diffraction light occurring by repeated exposure to allow sharp spectroscopy with few abnormal peaks, and to provide a highly precise spectral analysis device by using the diffraction grating.例文帳に追加
繰り返し露光で生じる回折光の異常ピークの発生を抑制し、急峻で異常ピークの少ない分光が可能な回折格子を実現し、この回折格子を用いることで高精度な分光分析装置を提供する。 - 特許庁
ANGLE RESOLVING ELECTRON SPECTROSCOPE OF DIFFRACTION PLANAR APERTURE TRANSMISSIVE ENERGY CONTROL TYPE, AND ANALYSIS METHOD USING THE SAME例文帳に追加
回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法 - 特許庁
The name of an element, characteristic X-ray type and diffraction order for state analysis are input to an input device 12.例文帳に追加
入力装置12から状態分析を行う元素の元素名、特性X線種及び回折次数を入力する。 - 特許庁
Thus, since the diffraction grating G101 is disposed inside an organic sample analysis chip, it is not necessary to disperse the analysis light of a predetermined wavelength from white light before flooding the organic sample analysis chip.例文帳に追加
このように、生体試料分析チップの内部に回折格子G101を配置することによって、生体試料分析チップに投光する前に、白色光から所定波長の分析光を分光する必要がない。 - 特許庁
The first tantalum carbide coating film has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加
第1炭化タンタル被覆膜は、X線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの(311)面の配向角度において80°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁
The tantalum carbide coating film 42 has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加
炭化タンタル被覆膜42は、X線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの(311)面の配向角度において80°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁
A diffraction grating GR of a plane P_C is arranged in a conjugate position of the analysis plane P_D through focal systems O_2, O_3, O_4.例文帳に追加
平面(P_C)の回折格子(GR)は、合焦系(O_2、O_3、O_4)によって解析平面(P_D)と共役な位置に配置になる。 - 特許庁
To provide a structure analysis method of a crystal applicable even to a case where a peak usable as a reference peak cannot be observed near an analysis object peak in an X-ray diffraction method.例文帳に追加
X線回折法において、基準ピークとなるようなピークが解析対象ピークの近傍に観測できないような場合にも適用できる結晶の構造解析方法を提供する。 - 特許庁
The regenerated catalyst is subjected to an X-ray diffraction analysis and/or an X-ray photoelectron spectroscopic analysis of metal pieces to judge whether the regenerated catalyst is to be recovered.例文帳に追加
得られた再生処理後の触媒について、金属種のX線回折分析及び/又はX線光電子分光分析を行い、触媒の回収の要否を判定する。 - 特許庁
In the protective film 9, a peak is present at a diffraction angle, between a diffraction angle at which a peak generates when only one oxide of two oxides is analyzed in X-ray diffraction analysis on a specific azimuth surface and a diffraction angle at which a peak generates, when only the other oxide is analyzed.例文帳に追加
保護膜9は、特定方位面についてのX線回折分析において、2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものである。 - 特許庁
When a powder X-ray diffraction analysis regarding the silicon alloy powder is executed, a high-intensity peak can be provided in a range, belonging to the copper/aluminum-containing phase 12, where a diffraction angle 2θ is 43.5-44.5°.例文帳に追加
このケイ素合金粉末について粉末X線回折分析を行うと、銅・アルミニウム含有相12に帰属する回折角度2θが43.5°〜44.5°の範囲内に高強度の回折ピークが得られる。 - 特許庁
To calibrate the intensity of X-rays with high accuracy for a short time in quantitative analysis by an X-ray diffraction method using a monochromator.例文帳に追加
モノクロメータを用いたX線回折法での定量分析において、短時間で高精度なX線強度の較正を実現する。 - 特許庁
The resultant crystal was succeedingly used for succeed crystal structure analysis with resolution of 2.2 Å by multiwavelength anomalous diffraction method (MAD method).例文帳に追加
得られた結晶を用いて、多波長異常分散法(MAD法)により分解能2.2Åの結晶構造解析に成功した。 - 特許庁
Further, the half peak width obtained by the X-ray diffraction analysis of martensite of the rolling element 3 is ≤7.6° for all rolling elements.例文帳に追加
また、転動体3のマルテンサイトのX線回折分析により得られたピークの半価幅は、全転動体ともに7.6°以下である。 - 特許庁
An electron density distribution is found by applying the MEM structural analysis to an X-ray diffraction data obtained experimentally, and an X-ray diffraction data not observed is predicted based thereon to find the electrostatic potential.例文帳に追加
実験的に得られるX線回折データにMEM構造解析を適用することで詳細な電子密度分布を求め,これをもとに観測されていないX線回折データを予測することで静電ポテンシャルを求める。 - 特許庁
The high frequency wave porcelain contains Al, Ti and Mn as metal elements, found no Al2TiO5 phase by X-ray diffraction analysis and baked at 1310°C or less.例文帳に追加
金属元素としてAl、TiおよびMnを含み、X線回折分析によりAl_2TiO_5相が認められず、1310℃以下で焼成される。 - 特許庁
In the analysis method, the governing factor of the spread shape of the peak to be measured is decided in the crystal structure evaluation through X-ray diffraction.例文帳に追加
X線回折により結晶構造評価を行う際、測定されるピークの拡がり形状の支配要因を判定する解析手法である。 - 特許庁
To provide an inexpensive X-ray analyzer for having fluorescence and diffraction for common use having functions of both of fluorescent X-ray analysis and diffracted X-ray analysis and capable of constituting an optimum X-ray detection system.例文帳に追加
蛍光X線分析と回折X線分析の両方の機能を有するとともに、それぞれ最適なX線検出系を構成できる、安価な蛍光・回折共用X線分析装置を提供する。 - 特許庁
To provide a wave aberration measuring machine using a diffraction grating shearing interferometer for a mirror (reflection) type optical system, which can prevent the analysis of zero-order light or high-order overlapped diffracted light from becoming difficult caused by double diffraction interference.例文帳に追加
ミラー(反射)型光学系に対する回折格子シアリング干渉計を用いた波面収差計測機において、2重の回折干渉を行うので0次光や高次の回折光が重なってしまい解析が困難になってしまうことを防止する。 - 特許庁
Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM).例文帳に追加
また、その組織構造は、X線回折法によるパターン解析により金属Si及びSi化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁
In code analysis at a far distance separated by several tens of meters, the center of a code image is quickly specified by using diffraction light condensed by the lens function.例文帳に追加
数十m離れた遠距離でのコード解析にあっては、上記レンズ機能によって集光された回折光を利用してコード画像の中心を高速に特定する。 - 特許庁
The nucleating agent consists of a compound expressed by formula (1), having ≤10 μm mean particle diameter and essentially exhibits no crystalline peak in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加
下記一般式(1)で表される化合物からなり、平均粒径10μm以下で且つX線回折分析で結晶性ピークを実質的に有しない造核剤。 - 特許庁
To provide a spectroscopic analysis device that is miniaturized and performs measurement more accurately than the use of a conventional diffraction grating or an optical thin-film filter.例文帳に追加
小型化が可能で従来の回折格子や光学薄膜フィルターを使用した場合に比べて精度の高い測定が可能な分光分析装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a simple method for quickly synthesizing a heavy atom-substituted protein suitable for the X-ray crystal structural analysis for protein, particularly phase determination by MAD(multiwavelength anomalous diffraction) method.例文帳に追加
タンパク質のX線結晶構造解析、特にMAD法による位相決定に適した重原子置換体タンパク質の迅速且つ簡便な合成方法を提供する。 - 特許庁
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