「direct exposure method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DIRECT EXPOSURE APPARATUS AND ILLUMINATION ADJUSTMENT METHOD例文帳に追加

直接露光装置および照度調整方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MASK FOR DIRECT PLOTTING AND PLOTTING METHOD例文帳に追加

荷電粒子線露光装置および直描用マスク並びに描画方法 - 特許庁

To provide a direct exposure method and a direct exposure device of low cost and high-precision which will not cause positional deviations of an exposure pattern, resulting from yawing of a stage on which a substrate to be exposed is placed.例文帳に追加

露光対象基板を載せるステージのヨーイングに起因する露光パターンの位置ズレを発生しない、低コストかつ高精度の直接露光方法および直接露光装置を実現する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method in which direct writing can be performed at a high speed without using a photomask and low cost can be achieved.例文帳に追加

フォトマスクを使用しないで高速に直接描画ができ、低コスト化を実現できる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

DATA PREPARATION METHOD, DATA VERIFICATION METHOD, DATA DISPLAY METHOD AND EXPOSURE SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM DIRECT WRITING例文帳に追加

荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus that achieves maskless direct exposure on a general-use photosensitive resin with a high throughput and no defect, and to provide an exposure method and a method for manufacturing a wiring board.例文帳に追加

汎用の感光性樹脂に対するマスクレスでの直接露光を高スループットかつ無欠陥で実現するマスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To attain a method and an apparatus for automatic correction for obtaining a correction amount for correcting the deviation of the mounting position of each exposure head in a direct exposure device comprising a plurality of exposure heads in the direction orthogonal to the relative movement direction of an exposure object wherein the exposure head has a two dimensional array of exposure elements inclined to the relative movement direction of the exposure object.例文帳に追加

露光対象物の相対移動方向に対して傾斜して２次元配列された露光素子を有する露光ヘッドを、相対移動方向に直交する方向に複数備える直接露光装置に対して、露光ヘッドの取付け位置のズレを補正するための補正量を得る自動補正方法および自動補正装置を実現する。 - 特許庁

To provide an exposure pattern data inspection apparatus, method and program which when a printed circuit board is produced by a direct drawing system, enable exposure pattern data for use in the direct drawing process to be accurately inspected in a shorter period of time than before.例文帳に追加

プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LASER DIRECT DRAWING EXPOSURE, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

レーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing direct-imaged flexographic printing elements such that both the front and back exposure times are economically efficient.例文帳に追加

フロント露出時間とバック露出時間が共に経済効率を満たしている直接像フレキソ印刷要素の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a direct aligner and direct exposure method which can control light irradiation on an objective substrate at desired illumination distribution, and can obtain target illumination distribution easily even if exposure condition is changed.例文帳に追加

露光対象基板面上に照射する光を所望の照度分布に制御することができるとともに、露光条件が変更になった場合でも目的の照度分布を容易に得ることができる直接露光装置および直接露光方法を実現する。 - 特許庁

To obtain an exposure method and a system which restricts reduction in throughput, when a dummy pattern is exposed by using an electron beam direct drawing system.例文帳に追加

電子線直接描画露光装置を用いてダミーパターンを露光する場合のスループットの低下を抑える露光方法及び装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for direct dry mastering of a stamper for an optical disk which is capable of lowering the influence of the heat accumulated in a stamper substrate during exposure with a laser beam and an apparatus therefor.例文帳に追加

レーザビーム露光時のスタンパー基板の蓄熱による影響を低下させうる光ディスク用スタンパーのダイレクトドライマスタリング方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive element which has high sensitivity even in direct drawing exposure and which is less affected by a void, and a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、且つ、ボイドの影響が少ない感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加

可変成形型のＥＢ直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming drawing data capable of shortening the time for formation when forming the drawing data constituting the patterns of an exposure mask used in a process for manufacturing semiconductor devices and the patterns for direct exposure in the process for manufacturing the semiconductor devices.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において使用する露光マスクのパターンや半導体装置の製造工程における直接露光用のパターンなどとなる描画データを作成するときに、作成時間を短縮できる描画データの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of plotting a photosensitive material for an ultraviolet ray in a pattern with high throughput by a mask-less direct plotting exposure device having an irradiating light source being an h-line in a main wavelength.例文帳に追加

主波長がｈ線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with sufficient sensitivity and resolution, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board using the composition.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

This water-based silicate composite coating is characterized in that a coating film obtained by coating the composite coating has a whiteness change (ΔL) of ≤5, after an expose test according to JIS Z2381 direct exposure test method for three months.例文帳に追加

塗工して得られる塗膜について、３ヶ月間、ＪＩＳ Ｚ２３８１ 直接暴露試験法に従って暴露試験を行った後の白色度変化（ΔＬ）が５以下である水系シリケート複合塗料を用いる。 - 特許庁

To provide a conductive pattern material of wide application having high sensitivity to exposure and capable of direct pattern formation on the basis of digital data by operating a visible range laser, and also to provide a method for forming the conductive pattern material.例文帳に追加

露光に対し高感度でありかつ可視域レーザ等を操作することによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な応用範囲の広い導電性パターン材料及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive element having high sensitivity, even in direct plotting exposure with a less degradation change of sensitivity, even when leaving the photosensitive element coated with a protective film over a long period and to provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity for direct drawing exposure and which has favorable resolution, adhesion and peeling property, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board which uses the photosensitive resin composition.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、解像度、密着性及び剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus, an image processor, an image processing method, and an image processing program which achieve more appropriate correction processing according to over-exposure or under-exposure of a principal subject, a scene with backlight or direct light, or the like to obtain a more appropriate corrected image by determining a photographic scene from image data with a higher precision.例文帳に追加

画像データからより高精度に撮影シーンを判別することによって、主要被写体のオーバー、アンダー露光、順光、逆光シーンなどに応じた、より適切な補正処理を達成し、より適切な補正画像を得ることができる撮像装置、画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a developing method in which a negative waterless planographic printing plate whose exposed areas become ink receiving areas, a positive waterless planographic printing plate whose exposed areas become ink repelling areas, and a direct imaging waterless planographic printing plate using an exposure system with a laser as a light source for exposure are processed by the same developing means.例文帳に追加

露光部がインキ着肉部となるネガ型水なし平版印刷版と露光部がインキ反発部となるポジ型水なし平版印刷版とレーザーを露光光源に備えた露光装置を使用する直描型水なし平版印刷版を同一の現像手段にて処理する現像方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a ground anchor construction method for suppressing gushing-out of underground water completely even in the ground of high artesian water to improve workability and preventing intrusion of mud and water due to direct exposure of an anchor tendon to the underground water even temporarily.例文帳に追加

高被圧水の地盤においても地下水の噴出を完全に抑えて作業性を向上させ、及びアンカーテンドンが一時的にせよ地下水に直接晒されて泥や水が侵入しないようにするグラウンドアンカー工法の提供。 - 特許庁

To provide a simple evaluation method which easily decides the state of plate making conditions of a positive type image forming material for IR lasers for direct plate making and a quality management method for maintaining the quality of a planographic printing plate constant by feeding the results thereof back to an exposure/developing stage.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型画像形成材料の製版条件の状態を容易に判定する簡易な評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a negative photosensitive lithographic printing original plate capable of direct plate making by recording from digital data of a computer or the like with a solid laser and a semiconductor laser, not requiring heat treatment after exposure, and having high sensitivity and excellent printing durability, and a plate making method.例文帳に追加

固体レーザー及び半導体レーザーを用いてコンピューター等のデジタルデータから記録することにより直接製版が可能で、露光後に加温処理の必要が無く、高感度で耐刷性に優れたネガ型感光性平版印刷版原版の製造方法ならびに製版方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can cope with both wavelengths used for a direct drawing exposure method, has excellent photo sensitivity, and can improve the tent reliability and adhesion of a formed resist film and the resolution of a formed resist pattern.例文帳に追加

直接描画露光法に用いられる両波長に対応可能で、光感度に優れ、形成したレジスト膜のテント信頼性や密着性及び形成したレジストパターンの解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the display device by forming a laminate of material layers of the prescribed patterns by a photolithography technique using a resist film on the surface of the substrate comprises forming the latent image of the resist film by combining both of a simultaneous exposure process using light and a direct drawing exposure process using an energy beam.例文帳に追加

基板の表面にレジスト膜を用いたフォトリソグラフィ技術によって所定パターンの材料層の積層体を形成する表示装置の製造方法において、前記レジスト膜の潜像を光を用いた一括露光方法とエネルギービームを用いた直接描画露光方法の両方を組み合わせて行うことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

The through hole patterns 10A are formed on a surface side and a back side of each metallic thin film 10 successively via steps of forming photoresist film, of drawing patterns by the laser direct exposure method, of developing a photoresist film, of performing the etching, of peeling the photoresist film, and of water-rinsing and drying.例文帳に追加

透過孔パターン１０Ａは、金属薄膜１０の表面側および裏面側に、フォトレジスト膜の形成、レーザダイレクト露光法によるパターンの描画、フォトレジスト膜の現像、エッチング、フォトレジスト膜の剥離、水洗乾燥の工程をこの順に経て形成する。 - 特許庁

To provide a simple evaluation method for easily judging the platemaking conditions of a positive lithographic printing original plate for IR laser for direct plate making, in particular, for judging the activity state of a developer, and to provide a quality control method for keeping the quality of the lithographic printing plate constant by using the evaluation result as a feedback to the exposure/developing process.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の活性状態を容易に判定する簡易な評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide an easy evaluation method for easily judging the platemaking conditions of a positive lithographic printing original plate for IR laser for direct plate making, in particular, for judging the activity state of a developing solution, and to provide a quality control method for keeping the quality of the lithographic printing plate constant by using the evaluation result as a feedback to the exposure/development process.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の活性状態を容易に判定する簡易な評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a substrate with a high density and high reliability, by forming a resist pattern through coating of a photosensitive material on an electroless copper plating layer, exposure to light and development, and then preparing a bump pad by pulse plating and direct current plating of the resist pattern.例文帳に追加

無電解銅鍍金層に感光材を塗布した後に露光現像してレジストパターンを形成してパルス鍍金と直流鍍金をしてバンプパッドを形成させることにより高密度で高信頼性の基板を製造するフリップチップバンプパッド形成方法及びその構造に関する。 - 特許庁

To provide an image forming material, by which a highly sensitive image having high resolution and high sharpness can be obtained through exposure to light or heating without employing a complicated process and a valuable device and, at the same time, on which a direct image formation can be possible based on digital data with infrared laser or the like, and an image forming method.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、露光或いは加熱により高感度で、高解像度で鮮鋭度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等によりデジタルデータに基づき直接画像形成が可能な画像形成材料及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, which has an extremely high curing rate, is appropriately applicable to clear pattern exposure or direct drawing with the use of an energy ray, and has extremely good adhesiveness with a base material and to provide an image pattern forming method using the negative resist.例文帳に追加

硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test method whereby a specimen, which is preferably protected from direct contact to a worker or exposure to the outer environment from the viewpoint of hygiene like a specimen to be used in testing an infectious bacterium or virus, can be safely and effectively handled and treated; and a test kit.例文帳に追加

感染性の細菌やウイルスの検査などに用いられる検体のように、衛生上の見地から取り扱い者に触れたり、外部環境に露出することが望ましくないような検体を安全に、かつ効率よく取り扱い、処理することが可能な検査方法および検査キットを提供する。 - 特許庁

To provide a quality control method for keeping the quality of a planographic printing plate to be constant and for continuously forming a uniform image, by easily deciding the platemaking conditions of a negative planographic printing original plate for IR laser for direct platemaking, in particular, deciding the state of a developing solution and back feeding the result to exposure/development steps.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の状態を容易に判定し、その結果を露光／現像工程にフィードバックすることで、平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a packaging material used for packing a metal coil, a metal sheet or the like which does not discolor the outer circumference thereof even when subjected to exposure of the direct sunshine after the packing when applying resin excellent in recyclability and visibility to the packaging, a packed body packed by the packaging, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リサイクル性や視認性に優れた樹脂を包装材に適用するに当たり、梱包後直射日光の暴露をうけても外周に変色を及ぼす事のない金属コイル又は金属シート材等を梱包するために用いられる包装材と、その包装材により梱包された包装体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加

この方法は、マスク１０の欠陥Ｄを含む一部領域を遮光した状態で、マスク１０を介して基板１２に対して露光を行う第１の露光工程と、第１の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板１２上の領域に、直接露光により描画を行う第２の露光工程と、を備える。 - 特許庁