「dry development」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability and in stability of a silver image after heat development while retaining fog and sensitivity and less liable to contaminate the inside of a processing machine.例文帳に追加

カブリ、感度を維持しながら、生保存性と熱現像後における銀画像の安定性に優れ、かつ現像機内汚染の少ない銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor and a photosensitive resin composition to form a flexible printed circuit board having small warpage and high flame-retardancy from a dry film having high folding resistance and little development residue.例文帳に追加

高い折り曲げ耐性、少ない現像残渣のドライフィルムから、少ない反り、高い難燃性のフレキシブルプリント基板となるポリイミド前駆体及び感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for dry development with which it is possible to form a high resolution pattern with low line edge roughness in a silylation process, and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

シリル化プロセスにおいて、低ラインエッジラフネスで、高解像度なパターンの形成が可能となるドライ現像用の感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

LIQUID DEVELOPER OF ALKALI DEVELOPMENT TYPE DRY FILM RESIST, INKJET HEAD MANUFACTURED WITH USE OF THE LIQUID DEVELOPER, MANUFACTURING METHOD FOR THE INKJET HEAD, AND INKJET TYPE RECORDING APPARATUS WITH THE INKJET HEAD例文帳に追加

アルカリ現像型ドライフィルムレジストの現像液、該現像液を用いて製造されたインクジェットヘッド、及び該インクジェットヘッドの製造方法、並びに該インクジェットヘッドを備えたインクジェット式記録装置 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability and stability of a silver image after heat development while maintaining low fogging and sensitivity, and an image recording method for the same.例文帳に追加

低カブリ、感度を維持しながら、生保存性と熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びその画像記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner having a function of self restoring a scattered toner formed on a transfer material after transferring an image in an electrophotographic dry toner development.例文帳に追加

電子写真方式の乾式トナー現像において、転写後に転写材上に形成されているチリトナーを自己修復する機能を有するトナーを供給する事を目的とする。 - 特許庁

Next, a dry film is laminated on the metal thin film 2, and then subjected to exposure and development, thereby forming a plating resist 3 with the resist having a pattern opposite to a conductor pattern 4 in a later process.例文帳に追加

続いて、金属薄膜２上にドライフィルム等をラミネートし、露光および現像することにより、後工程で形成される導体パターン４とは逆パターンのめっきレジスト３を形成する。 - 特許庁

To provide a thermal recording material which has excellent color-developing properties and less texture fog to the dry heat and heat/moisture of a non-color development part (an unused part) and outstanding shelf stability of a color-developed image.例文帳に追加

発色性に優れ、未発色部（未使用部）の乾熱及び湿熱に対する地肌かぶりが少なく、発色画像の保存安定性の優れた感熱記録材料の開発。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material which has high dispersibility of a photosensitive emulsion dispersion, high sensitivity, low fog and high maximum density, is excellent in image preservability after development and suppresses occurrence of density unevenness by heat development and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

感光性乳剤分散液の分散性が高く、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、現像処理後の画像保存性に優れ、熱現像処理による濃度ムラの発生が抑制された銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having high sensitivity, less liable to fog in long-term storage, excellent in stability of a silver image after heat development, capable of reducing the amount of silver and ensuring a suppressed change of photographic performance in continuous heat development.例文帳に追加

高感度で、長期保存したときに生ずるカブリが少なく、かつ熱現像後における銀画像の安定性に優れ、銀量を低減でき、また、連続して熱現像処理を施した場合に、写真性能の変動が改良された銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photothermographic dry imaging material and an image forming method having satisfactory conveyance properties at high-speed development and high image density without unevenness in the density during the thermal development, and superior in a silver tone and image preservability under light irradiation.例文帳に追加

本発明の目的は、高速現像での搬送性が良好で、画像濃度が高く、熱現像時の濃度むらの発生がなく、銀色調、光照射画像保存性に優れた光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

A dry type analyzing element is provided where a hydrophilic polymer layer is provided on an impervious supporting body, on which a development layer comprising a porous material is provided with a spacer in between.例文帳に追加

上記課題は、水不透過性支持体の上に親水性ポリマー層が設けられ、その上にスペーサーを介して多孔性材料からなる展開層が設けられている乾式分析要素によって解決される。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material using a small amount of silver and excellent in storage stability of the color tone and image density of a silver image after heat development while having high sensitivity and low fogging.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、熱現像後の銀画像の色調及び画像濃度の保存安定性に優れ、銀使用量の少ない銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in stability of a silver image after heat development while retaining fog and sensitivity and to provide an image recording method by use thereof and a method for producing the same.例文帳に追加

カブリ、感度を維持しながら、熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その画像記録方法およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry toner for developing an electrostatic latent image which makes it possible to recover residual toner after transfer simultaneously with development even when a blade cleaning process for promoting friction of an electrostatic latent image carrier is omitted.例文帳に追加

静電潜像担持体摩擦を促進させるブレードクリーニング工程を有しても有さずとも、現像と同時に転写後残トナーを回収可能な静電潜像現像用乾式トナー等を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive emulsion having high sensitivity, low fog, excellent raw stock preservability and excellent stability of a silver image after heat development and to provide a silver salt photothermographic dry imaging material and an image recording method.例文帳に追加

高感度、低カブリであり、生保存性に優れ、且つ熱現像後における銀画像の安定性に優れた感光性乳剤、銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像記録方法の提供。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in storage stability while having high sensitivity and low fog, and excellent also in storage stability of a silver image after heat development, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、保存安定性に優れ、かつ熱現像後の銀画像の保存安定性に特に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material for a silver salt laser imager excellent in raw stock preservability before development and an image forming method, and to further provide a silver salt photothermographic dry imaging material for a silver salt laser imager having no environmental dependence of exposure, high sensitivity, little fog, a good silver tone and superior light resistance of an image after development and an image forming method.例文帳に追加

現像処理前の生保存性に優れた銀塩レーザーイメージャー用銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像形成方法、さらに、露光環境依存性がなく高感度で、カブリが少なく、銀色調が良好で、且つ、現像後の画像の耐光性に優れた銀塩レーザーイメージャー用銀塩光熱写真ドライイメージング材料銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: a coating step to apply paste containing AlN powder, glass frit and a solvent on a substrate; a drying step to dry the paste applied and to form a dry coating film; a laser drawing step to draw conductive patterns on the dry coating film by irradiation of laser beams; and a development step to remove unirradiated part of laser light out of the dry coating film by using a developer.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成方法によれば、ＡｌＮ粉末、ガラスフリット及び溶剤を含むペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー光の照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー描画工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザー光の未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

In a resist film forming unit 23, which forms a resist film by a dry process with a substrate G, there are provided development process unit 24 which exposes the resist film formed on the substrate to a prescribed pattern before development in a drying process, and a transfer mechanism 32 for transferring the substrate G to the resist film forming unit 23 and the development process unit 24, which are configured as one body.例文帳に追加

基板Ｇに対してドライプロセスによりレジスト膜を形成するレジスト膜形成ユニット２３と、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光後、ドライプロセスにより現像する現像処理ユニット２４と、これらレジスト膜形成ユニット２３および現像処理ユニット２４に対する基板Ｇの搬送を行う搬送機構３２とを具備し、これらが一体的に構成されている。 - 特許庁

The pattern forming method includes an applying process for applying a mixture containing inorganic powder, a glass frit and a solvent to a substrate, a dry process for drying the applied mixture, a laser irradiation process for drawing a pattern on the coating film which has passed through the dry process by laser irradiation, and a development process for developing the pattern.例文帳に追加

無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁

The silver salt photothermographic dry imaging material contains, on a support, non-photosensitive silver salt of aliphatic carboxylic acid particles, photosensitive silver halide grains, a reducing agent for silver ions and a binder, wherein the silver salt photothermographic dry imaging material has a water content (a) of 0.1-1.5% immediately before heat development.例文帳に追加

支持体上に、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子、感光性ハロゲン化銀粒子、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、熱現像処理直前の含水率（ａ）が０．１％以上、１．５％以下であることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

This dry process various density image processor takes out films 15 before exposure by one sheet each, conveys the films to an exposure means 40 and heats the exposed films 15a irradiated with laser rays of image data signals during the passage through the exposure means 40 by a heating means 50 of a post process step, thereby subjecting the films to dry process development.例文帳に追加

露光前のフィルム１５を一枚ずつ取り出して露光手段４０へ搬送し、該露光手段４０を通過する際に画像データ信号のレーザー光線を照射した露光フィルム１５ａを後工程の加熱手段５０で加熱して乾式現像処理する乾式濃淡画像処理装置である。 - 特許庁

When using the photosensitive dry film resist, by light-shielding only the holes to be filled by a film mask or a straight drawing device and executing full exposure, the dry film resist of a hole part to be filled is removed in development processing, and only the holes desired to be filled are selectively exposed with high accuracy equivalent to a pattern forming technology.例文帳に追加

感光性ドライフィルムレジストを使用する場合には、フィルムマスクまたは直描装置にて埋める穴部のみを遮光し全面露光することで、現像処理にて埋める穴部のドライフィルムレジストが除去され、パターン形成技術と同等の高精度で埋めたい穴のみを選択的に露出させることができる。 - 特許庁

A dry film resist 6 is laminated to a copper-clad laminate board where a copper foil 2 is pasted to a substrate 1, which is heated while moisture is absorbed so that a minute void 11 between the copper-clad laminate and the dry film resist 6 is reduced, and a copper wiring pattern 10 is formed after exposure and development.例文帳に追加

基板１に銅箔２を貼り付けた銅張り積層板にドライフィルムレジスト６をラミネートし、これを加熱、吸湿させ、銅張り積層板とドライフィルムレジスト６との間に発生した微少な空隙１１を減少させ、さらに露光、現像して銅配線パターン１０を形成する高密度プリント配線基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a silver salt light and heat photographic dry imaging material having high sensitivity and low fog and excellent in stability of a silver image after heat development, provide a method of recording the image using the same, and also provide a method of forming the image.例文帳に追加

高感度、低カブリであり、且つ、熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、それを用いる画像記録方法及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to remove efficiently only a resist preventing change in properties of a chrome film and etching thereto, when the resist is removed from blanks prior to exposure and those posterior to exposure and development by means of dry ashing using O_2 gas.例文帳に追加

露光前および露光・現像後のブランクスからレジストをＯ_2ガスを用いたドライアッシングにより除去する場合に、クロム膜の変質やエッチングを防ぎつつレジストだけを能率良く除去することを可能にする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition, from which an interlayer insulating film can be formed, the film having high radiation sensitivity and development margin and excellent heat resistance, solvent resistance, low dielectric property, transmittance for rays, resistance against light and resistance against dry etching.例文帳に追加

放射線感度、現像マージンが高く、耐熱性、耐溶剤性、低誘電性、光線透過率、耐光性、耐ドライエッチング性が優れた層間絶縁膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To make pattern dimension constant even if variation exists in the thickness of an underlayer resist layer, when a three-layer resist process is performed by a dry development method, concerning the method for forming a multylayer resist pattern and the etching method.例文帳に追加

多層レジスト・パターンの形成方法及びエッチング方法に関し、ドライ現像法に依って３層レジスト・プロセスを実施する場合、下層レジスト層の層厚にばらつきが存在しても、パターン寸法が一定となるようにする。 - 特許庁

To prevent a resist layer formed after development from taking a shape with an overhang or undercut, in the case of a photosensitive resin composition suitable for use as a one-pack or dry film type solder resist.例文帳に追加

１液タイプ又はドライフィルムタイプのソルダーレジストとして好適に用いられる感光性樹脂組成物において、現像後に形成されるレジスト層がオーバーハングやアンダーカットを有する形状となることを防止すること。 - 特許庁

To provide a fiber glaze capable of exhibiting firing color development meeting the diversity of design which is impossible in conventional three glazing methods such as wet, dry and volatile and to provide a method for producing a fiber-glazed product using the same.例文帳に追加

従来の、湿式、乾式、及び揮発法という三項目の施釉では不可能であったデザインの多様性に対応した焼成発色が出来る繊維釉薬と、これを用いた釉襷製品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a lip cosmetic which has an effect of preventing secondary attachment and a reduced dry feeling of the lips, furthermore excels in color development, has good color durability, and maintains uniform coated film.例文帳に追加

本発明は二次付着防止効果があり、唇の乾燥感が低減された口唇化粧料において、更に、発色に優れ色持ちが良く、均一な塗布膜が持続する口唇化粧料に関するものである。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic image development excellent in negative charging characteristics, low-temperature fixability, hot offset resistance and hot storage resistance and excellent also in environment resistance, and to provide a dry developer.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーにおいて、負帯電特性、低温定着性、耐高温オフセット性、耐熱保存性に優れ、且つ耐環境特性にも優れた静電荷像現像用トナーおよび乾式現像剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability while having high sensitivity and low fog and excellent in stability of a silver image after heat development and to provide an image recording method therefor and an imaging method.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、生保存性に優れ、かつ熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その画像記録方法、及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material which generates fog that is low in heat development (the so-called "instantaneous fog") and excels in raw stock preservability, an image forming method using the same, and a method for manufacturing the material.例文帳に追加

熱現像時のカブリ（いわゆる「即カブリ」）が低く、かつ生保存性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、それを用いた画像形成方法、及び当該材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability while having high sensitivity and low fog and excellent also in stability of a silver image after heat development and to provide an image recording method for the material.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、生保存性に優れ、且つ熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びその画像記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, high resolution and good low scum properties and which is useful for DFR (dry film resist) for manufacturing printed circuit boards of an alkaline development type, lead frames and semiconductor packages.例文帳に追加

高感度、高解像度であり、良好な低スカム性を有する、アルカリ現像型のプリント回路板、リ−ドフレ−ム及び半導体パッケ−ジ製造用のＤＦＲに有用な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A substrate coated with a negative type photoresist is rotated and is continuously subjected to surface exposure, heat treatment, development by a dry process, etching and resist removal, thereby, signal projections are formed on the substrate surface and the substrate is worked to have a stamper size.例文帳に追加

ネガタイプフォトレジストを塗布した基板を回転させ、表面露光、加熱処理、ドライプロセスによる現像及びエッチング及びレジスト除去を連続して行い、基板表面に信号突起を形成し、スタンパーサイズに加工する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in storage stability while having high sensitivity and low fog and excellent also in silver image stability after heat development and to provide an image recording method therefor and an image forming method therefor.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、保存安定性に優れ、かつ熱現像後の銀画像安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その画像記録方法及びその画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material having high sensitivity and high resolution to high energy-beam exposure, small line-edge roughness because of controlled swelling at the time of development, small residual dross after development, excellent dry etching resistance, and suitably usable also for liquid immersion lithography, and provide a method for forming patterns by using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability while having high sensitivity and low fog and excellent also in stability of a silver image after heat development and to provide an image recording method and an imaging method for the material.例文帳に追加

高感度、低カブリでありながら、生保存性に優れ、且つ熱現像後における銀画像の安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その画像記録方法、及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin composition having high transparency for radiation rays, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, a pattern shape and the like, and reduced in line edge roughness of the pattern after development.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れるとともに、現像後のパターンのラインエッジラフネスを低減する。 - 特許庁