「electron transfer system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

HOLLOW BEAM EVALUATION METHOD AND HOLLOW BEAM ADJUSTING METHOD IN ELECTRON BEAM TRANSFER EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

電子線転写露光装置におけるホロービーム評価方法及びホロービーム調整方法 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system which can reduce the memory of an electron beam exposure device and can eliminate the transfer of pattern data and conversion to control data for each electron beam exposure device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置のメモリを軽減でき、電子ビーム露光装置毎のパターンデータの転送及び制御データへの変換をなくす電子ビーム露光システムを提供できる。 - 特許庁

This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加

本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能６１の最悪値がパターン中の最小線幅の０．９〜１．０倍である。 - 特許庁

To provide a method which disposes of electron beam transfer exposure with one transfer without using a complementary mask, in exposure of a mix and match system of light and electron beam.例文帳に追加

光と電子線のミックス・アンド・マッチ方式の露光において、電子線転写露光をコンプリメンタリーマスクを使わないで１回の転写で済ませる方法を提供する。 - 特許庁

A specimen transfer system S used for a semiconductor scanning electron microscope is equipped with a specimen chamber 1, a specimen replacing chamber 2, a loading board 11, a specimen transfer path, a transfer means of the specimens 13, and a control device of controlling the transfer means.例文帳に追加

半導体用走査電子顕微鏡用の試料搬送システムＳは、試料室１、試料交換室２、ロードポート１１、試料搬送経路、試料１３の搬送手段、搬送手段を制御する制御装置を備えている。 - 特許庁

The invention relates to the redox reaction system and to the enzymatic reaction system based on the reaction system characterized by carrying out electron transfer between the oxidation-reducing agent and a substance subjected to the oxidation-reduction through a single walled carbon nanotube as the hydrophobic electron transfer substance.例文帳に追加

疎水性電子伝達物質として単層カーボンナノチューブを用い、これを介して、酸化還元剤と被酸化還元物との間で電子授受を行うことを特徴とする酸化還元反応システム及びこの反応システムに基づいた酵素反応システム。 - 特許庁

This electron beam transfer equipment is provided with an illumination optical system which illuminates a reticle 12 having a pattern to be transferred on a wafer 16 with electron beam, and a projection optical system which projects an electron beam which passes the reticle 12 and is patterned and forms an image on the wafer 16.例文帳に追加

本装置は、ウエハ１６に転写するパターンを有するレチクル１２を電子ビームで照明する照明光学系と、レチクル１２を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１６上に投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁

An electron beam transfer device is provided with an illumination optical system to sequentially illuminate each small area on a reticle 10 with the electron beam, and a projection optical system to sequentially project and form an image of the electron beam patterned through each small area at the position on a wafer 14.例文帳に追加

本電子線転写装置は、レチクル１０上の各小領域を電子ビームで順次照明する照明光学系と、該小領域を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１４上のしかるべき位置に順次投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁

DYE-SENSITIZED SOLAR CELL, CELL DESIGN SYSTEM BASED ON SELECTION METHOD OF SENSITIZED DYE, AND ESTIMATION METHOD OF PHOTOINDUCED ELECTRON TRANSFER SPEED AT SEMICONDUCTOR INTERFACE例文帳に追加

色素増感太陽電池、増感色素の選定方法および半導体界面での光誘起電子移動速度の推定方法に基づく電池設計システム - 特許庁

To make a drawing pattern highly accurate and to improve the throughput of a batch transfer system of electron-beam direct drawing technology.例文帳に追加

電子線直接描画技術の一括転写方式における描画パターンの高精度化およびスループットの向上を図る。 - 特許庁

To improve a pattern in joining accuracy, in an exposure method of division transfer system in which an electron beam is used.例文帳に追加

電子線を用いたいわゆる分割転写方式の露光方法において、パターンのつなぎ合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

An electron transfer member in an oxidized state is used to measure NAD or reduced type NADH without fixing enzyme or the electron transfer member to an electrode system comprising an insulating substrate and the acting electrode and counter electrode formed on the insulating substrate.例文帳に追加

絶縁性基板、並びにその上に形成された作用電極および対向電極よりなる電極系に、酵素や電子伝達体を固定しないで、酸化状態にある電子伝達体を使用してＮＡＤまたは還元型ＮＡＤＨを測定する。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

An illumination optical system of an electron beam transfer device is provided with an electron gun 1 having a cathode 1a to emit the electron beam substantially only from a concentric ring-like part 2 on a discharge surface, and a beam part in the vicinity of a cross-over formed by the electron gun and approximately uniform in intensity distribution is image-formed on a surface which is optically conjugate with a reticle.例文帳に追加

本発明の電子線転写装置の照明光学系は、実質的に放電面上の同心リング状の部分２のみから電子線を放出するカソード１ａを有する電子銃１を備え、電子銃が作るクロスオーバの近傍の、ほぼ強度分布が一様なビーム部分をレチクルと光学的に共役な面に結像させる。 - 特許庁

In the case of operating the full frame transfer type CCD element 109 in the frame transfer system, and electron beam interruption plate 112 shields part of electron beams emitted onto a scintillator 107 to form a light shield area in part of the full frame transfer type CCD element 109, and the part is used for a memory section.例文帳に追加

フルフレームトランスファ型ＣＣＤ素子１０９をフレームトランスファー方式で動作させるときは、電子線遮断板１１２によってシンチレータ１０７に照射される電子線の一部を遮断してフルフレームトランスファ型ＣＣＤ素子１０９の一部に遮光領域を作り、そこをメモり部として利用する。 - 特許庁

To provide a mapping type electron microscope in where a projection imaging optical system is provided with a zooming transfer lens system for improving the geometrical aberrations in low-magnification imaging and space-charge effect in the zooming range.例文帳に追加

投影結像光学系にズーム型トランスファー・レンズ系を用いて、低倍結像の幾何収差とズーム範囲での空間電荷効果とを改善する写像型電子顕微鏡を提供すること。 - 特許庁

The mapping type electron microscope includes an illuminating system which irradiates a primary electron beam onto a sample, and the projection imaging optical system 24 which guides a secondary beam irradiated from the sample to a detection system, and the projection imaging optical system 24 is provided with the transfer lens system 24b, having a first zooming lens 6a and a second zooming lens 6b.例文帳に追加

試料を照射する１次電子ビームを放出する照射系と、試料から放出された２次電子ビームを検出系へ導く投影結像光学系２４とを備える写像型電子顕微鏡の投影結像光学系２４は、第１のズームレンズ６ａと第２のズームレンズ６ｂとを有するトランスファー・レンズ系２４ｂを備える。 - 特許庁

To provide a master disk for magnetic transfer having a reference servo pattern for transfer suitable for a method for scanning and drawing an electron beam in an circumferential direction corresponding to a reference servo signal of a spiral system; to provide a drawing method of a pattern for magnetic transfer; and to provide a magnetic recording medium to which the magnetic transfer pattern is transferred.例文帳に追加

スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

In this case, Δ resize is a dimensional correction quantity, DB is distribution of a backscattered electron quantity and B is distribution of the beam blur which occurs in a transfer optical system.例文帳に追加

ここで、Δｒｅｓｉｚｅは寸法補正量であり、Ｄ_Bは後方散乱電子量の分布であり、Ｂは転写光学系で生じるビームボケの分布である。 - 特許庁

Using this reticle, the sensitive substrate is subjected to a primary light exposure process by the use of a self-projection or split transfer-type electron beam projection exposure system.例文帳に追加

そして、このレチクルを用いて、セルプロジェクション又は分割転写方式の電子線投影露光装置を用いて感応基板に一次露光を行う。 - 特許庁

The transfer mask consists of a mask body, having a mask pattern and a mask holder 70 for holding this mask body and is to be used for the electron beam exposure system.例文帳に追加

マスクパターンを有するマスク本体と、このマスク本体を保持するマスクホルダ７０とから構成され、電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクである。 - 特許庁

To provide a transfer system of an electron microscope image capable of speeding up an update rate of the image even when there is change in capacity of a network line and the capacity is either small or large.例文帳に追加

ネットワーク回線の容量の変化があり、容量が大きい場合でも小さい場合でも画像の更新レートを速くすることができる電子顕微鏡像の転送方式を実現する。 - 特許庁

To prevent linewidth-precision deterioration which is caused by a decrease in the contrast in a multiply-overlapped-exposure acceptable region in performing so-called overlay exposure by the electron-beam exposure of a division transfer system.例文帳に追加

分割転写方式の電子線露光で、いわゆる重ね合わせ露光を行う場合において、多重重複露光可能領域におけるコントラストの低下に起因する線幅精度の低下を防止する。 - 特許庁

To provide a method of drawing a pattern for magnetic transfer for drawing a pattern corresponding to a reference servo signal of a spiral system recorded by a magnetic head by using an electron beam.例文帳に追加

磁気ヘッドで記録されるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを電子ビームで描画する磁気転写用パターンの描画方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the organic boron π-electron system compound can emit light with high efficiency even in a solid state, and therefore is suitable as a light-emitting material (for example, a light-emitting layer for an organic EL element, an organic laser or fluorescent lighting) or a charge transfer material.例文帳に追加

すなわち、この有機ホウ素π電子系化合物は固体状態でも高効率な発光を示し、発光性材料（有機ＥＬ素子の発光層や有機レーザ、蛍光照明など）や電荷輸送性材料として適している。 - 特許庁

To provide a transfer mask data correction system to obtain a transfer mask suitable to eliminate the troubles caused by the physical phenomenon which follows the etching or ion implantation and the electron beam lithography when manufacturing a mask pattern.例文帳に追加

エッチングやイオン注入等に伴う物理現象に起因した不都合、および、マスクパターンを製作する際の電子線描画に伴う物理現象に起因した不都合を解消に適した転写用マスクを得るための転写用マスクデータ補正装置を提供する。 - 特許庁

In many embodiments, the reagent composition includes an additional member of an analyte oxidizing signal producing system, such as an analyte oxidizing enzyme, an analyte dehydrogenase or an analyte oxidase, an electron transfer agent, and an enzyme cofactor.例文帳に追加

多くの実施形態において、本発明の試薬組成物は、例えば、分析物デヒドロゲナーゼまたは分析物オキシダーゼ等の分析物−酸化性酵素、電子伝達物質、および酵素補助因子等のような分析物酸化性シグナル生成システムのさらに付加的な構成要素を含有している。 - 特許庁

The hologram recording method of an unrewritable hologram recording system includes a step in which a sensitizing dye absorbs light by an exposure to form an excited state, a chemical reaction step including a coloring reaction involving an electron transfer or an energy transfer from such excited state, and a hologram-forming step by such chemical reaction.例文帳に追加

露光により増感色素が光を吸収し、励起状態を生成する過程、該励起状態からの電子移動またはエネルギー移動を伴う発色反応を含む化学反応過程、および該化学反応によるホログラム形成過程を含むことを特徴とする書き換えできない方式のホログラム記録方法。 - 特許庁

A nucleic acid structure includes a transcription regulatory region with its functional known or unknown, and a polyketide synthase gene expressed under the control of the transcription regulatory region, wherein the transcription regulatory region includes one promoter region selected from the group consisting of a promoter induced by an agent for improving the plant disease resistance, a promoter induced by electron transfer system inhibitor, and a promoter induced by ergosterol biosynthesis inhibitor.例文帳に追加

機能既知又は機能未知の転写制御領域と、当該転写制御領域の制御下に発現するポリケタイド合成酵素遺伝子とを含み、発現制御領域は、植物病害抵抗性付与剤誘導型プロモーター、電子伝達系阻害剤誘導型プロモーター及びエルゴステロール生合成阻害剤誘導型プロモーターからなる群から選ばれる１つのプロモーター領域を含む核酸構築物。 - 特許庁