「flatness problem」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To solve a problem that a wafer flatness defect occurs when a wafer is polished while holding it by vacuum suction using an suction plate used for wafer polishing.例文帳に追加

ウエーハのポリッシングに使用される吸着プレートを使用し、真空吸着してウエーハを保持しながら研磨したときにウエーハの平面度不良が発生する。 - 特許庁

To solve the problem improvement is sought because fixing strength in fixing is not so strong in a plate subjected to polishing with good flatness in a piezoelectric diaphragm.例文帳に追加

圧電振動板で平坦度のよい、ポリッシュなどを施した板では、固着する際の固着強度があまり強くないので改善が求められている。 - 特許庁

To solve a problem wherein a flatness defective of a wafer is generated when holding and polishing the wafer by being evacuated by using a suction plate used for polishing of the wafer.例文帳に追加

ウエーハのポリッシングに使用される吸着プレートを使用し、真空引きしてウエーハを保持して研磨したときにウエーハの平面度不良が発生する。 - 特許庁

To solve the problem that specific numeric value of a excitation light wavelength interval suitable for realizing a Raman amplifier, having a wide-band and a suitable gain flatness is not clear.例文帳に追加

広帯域且つ利得平坦度の良いラマン増幅器を実現するために適当な励起光波長間隔の具体的数値は明らかでない。 - 特許庁

To provide a double weaving air bag that solves a problem of a conventional double weaving air bag foundation and, especially, a problem about unevenness in thickness and unevenness in warp tension in a width direction in view of flatness of the foundation.例文帳に追加

従来の袋織エアバッグ基布の問題点、特に基布のフラット性に着目し、幅方向での厚みむらと経糸テンションむらに関する問題点を解決する袋織エアバッグを提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a flatness simulation system for a mask substrate effective for solving the problem of lowering in the yield of products due to degradation in the flatness of the mask substrate by chucking the mask substrate to a mask stage of a water exposing device.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の平坦度シミュレーションシステムを実現すること。 - 特許庁

To solve the problem that display quality of a liquid crystal element is lowered because the alignment processing of a liquid crystal alignment film is not uniform, when a color filter whose flatness of colored layer is insufficient is used.例文帳に追加

着色層の平坦度が不十分なカラーフィルタを使用した場合、液晶配向膜の配向処理が不均一になる等のため、液晶表示素子の表示品位が低下する。 - 特許庁

To provide a method of producing a coating film which can solve a problem of the flatness of a plastic film wound up in the form of a roll and can form a coating film uniformly with high accuracy.例文帳に追加

ロール状に巻き取られたプラスチックフィルムの平面性の問題を解消し、塗布膜を均一に精度良く形成することができる塗布フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an objective lens system for parallel system stereomicroscope, which suppresses distortion aberrations to a degree having no a practical problem, secures the flatness of an image and corrects the chromatic aberrations to the limit.例文帳に追加

歪曲収差を実用上問題の無い程度に抑え、像の平坦性を確保した上で、色収差を極限まで補正した平行系実体顕微鏡用対物レンズ系を提供すること。 - 特許庁

To produce a niobium or tantalum sheet metal having a uniform ASTM grain size and a sufficient recrystallization structure while minimizing or avoiding the problem concerning the flatness and/or smoothness of the sheet.例文帳に追加

一貫したＡＳＴＭ粒度と十分な再結晶化を有するニオブ又はタンタルの薄板を、該薄板での平坦度及び／又は平滑度の問題を最小限にするか又は回避して製造する。 - 特許庁

To solve a problem of flatness deterioration in surface-mounting solder portions caused by multi-polarization, upsizing, etc. of electronic components, and also to cope with a difficulty of obtaining high-quality, high-reliable solder joints due to oxidation, etc.例文帳に追加

電子部品の多極化・大型化等により表面実装用のはんだ部分の平坦性は劣化する傾向にあり、また電極部の酸化等もあって、高品質・高信頼性なはんだ接合を得ることが難しい。 - 特許庁

To solve the problem wherein, under poor flatness of a floor on which a pallet is placed, when forks are withdrawn from inside the pallet, lower surfaces of the forks press on an upper surface of a bottom deck board of the pallet, and if withdrawn in the state, the forks drag the pallet.例文帳に追加

パレットを設置する床面の精度が悪い場合、フォークをパレット内から抜去する際、フォークの下面がパレットの下デッキボード上面を押しつけてしまい、そのままフォークを抜去するとパレットがを引きずられてしまう。 - 特許庁

To solve a problem of the conventional technologies by which accurate flatness cannot be obtained because of the assumption that the etching rate profile is the same regardless of the nozzle position with respect to a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハに対するノズル位置の如何に関わらずエッチングレートプロファイルが同じであると仮定しているため、従来技術によると、正確な平坦度が得られないという問題を改善することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for closing a through hole which improves the reliability of a product and the flatness of an upper layer and generates no problem of contamination, by eliminating large recesses formed above and below a filler.例文帳に追加

充填物の上下にさほど大きな凹みができないようにして，製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り，また汚染の問題も生じないようにしたスルーホールの閉鎖方法を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional differential amplifier circuit having a resistor and an inductor for a load impedance that variations are caused in the cut-off frequency and the flatness of an in-band gain in the frequency characteristics due to a change in the resistance of the load resistor.例文帳に追加

抵抗とインダクタを負荷インピーダンスとして有する差動増幅回路において、負荷抵抗の抵抗値の変化により、周波数特性における遮断周波数および帯域内利得の平坦性に変動を生じさせてしまう。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing an exposure mask which is effective to solve a problem on the lowering of the yield of a product caused by the deterioration of the flatness of a mask base plate by chucking the mask base plate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効な露光マスクの製造方法を実現すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask substrate by which a degradation problem in the flatness of a mask substrate due to chucking the mask substrate to the mask stage of a wafer exposure apparatus is eliminated and decrease in the production yield can be prevented.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の製造方法を実現すること。 - 特許庁

To provide a method for closing a through hole which is intended to enhance reliability in products or a flatness of an upper layer, and further in which a problem of contamination does not occur, by not forming so large recesses in a vertical direction of a filler.例文帳に追加

充填物の上下にさほど大きな凹みができないようにして，製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り，また汚染の問題も生じないようにしたスルーホールの閉鎖方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductive belt having highly accurate flatness, having no problem about the deformation or the like of a shape with the lapse of time, forming a suitable nip shape in a transfer part, and reducing changes of electric resistance due to environments, and to provide an image forming device provided with the semiconductive belt and capable of stably obtaining high transfer image quality.例文帳に追加

高精度の平面度を有し、経時による形状の変形等の問題がなく、かつ、転写部でのニップ形状の形成に優れ、環境による電気抵抗の変化の少ない半導電性ベルトを提供する。 - 特許庁

To realize a mask substrate inspection method effective for solving a problem of production yield lowering due to deterioration in the flatness of the mask substrate which is caused by chucking the mask substrate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の検査方法を実現すること。 - 特許庁

To provide a method for filling the holes of a flat body in which reliability of the product and flatness of the upper layer are enhanced without causing any problem of contamination by preventing formation of a significant recess on or under a filler.例文帳に追加

充填物の上や下にさほど大きな凹みができないようにして，製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り，また汚染の問題も生じないようにした板状体の穴埋め方法を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem that when an etchant such as hydrofluoric acid etc. is continuously supplied to and sucked from between a glass board and the surface of a workpiece such as a semiconductor substrate etc. by a processing head, the shape of the tip surface of the processing head affects the high flatness processing.例文帳に追加

加工ヘッドによりフッ酸等のエッチャントをガラス基板、半導体基板等の被加工物の表面との間に連続的に供給し吸引する際に、加工ヘッド側の先端面の形状が高平坦度の加工に影響を及ぼす。 - 特許庁

To provide a method for producing an Fe-Ni based alloy thin sheet which can solve the problem of heat shrinkage in particular, can realize excellent flatness even in the case of a wide width of 60 mm or more for example, and is used as a material for a lead frame and a material for a lead.例文帳に追加

特に加熱収縮の問題を解決でき、例えば６０ｍｍ以上の広い幅であっても優れた平坦性を実現できるリードフレーム用素材やリード用素材等に用いられるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板条の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an objective lens system for a parallel system stereomicroscope, the lens system which allows realization of excellent focusing performance by suppressing distortion aberration to a degree practically free of problem to secure flatness on an image plane and by appropriately correcting other various aberrations.例文帳に追加

歪曲収差を実用上問題の無い程度に抑え、像面の平坦性を確保するとともに、その他の諸収差も良好に補正することにより、優れた結像性能を実現することが可能な平行系実体顕微鏡用対物レンズ系を提供する。 - 特許庁

To provide both a base fabric for an air bag of circular weave solving a problem of conventional base fabric of air bag of circular weave, especially problems related to thickness unevenness in the width direction and tension unevenness of warp by paying attention to flatness of a base fabric, and an air bag of circular weave.例文帳に追加

従来の袋織エアバッグ基布の問題点、特に基布のフラット性に着目し、幅方向での厚みむらと経糸テンションむらに関する問題点を解決する袋織エアバッグ基布および袋織エアバッグを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an Fe-Ni based alloy thin sheet which can solve the problem particularly on heating shrinkage, can realize excellent flatness even in the case of a wide width of ≥60 mm for example, and is used as the stock for a lead frame, the stock for a lead or the like.例文帳に追加

特に加熱収縮の問題を解決でき、例えば６０ｍｍ以上の広い幅であっても優れた平坦性を実現できるリードフレーム用素材やリード用素材等に用いられるＦｅ−Ｎｉ系合金薄板材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method which can solve a problem such as difference-in-level feeling of a toner image, and bronze phenomenon at the same time, removes image inhomogeneity due to surface ruggedness formed by the toner image on recording material, does not color the brilliance of the image and can provide the high-flatness and high-quality toner image.例文帳に追加

トナー画像の段差感とブロンズ現象といった問題を同時に解決し、記録材上のトナー画像により形成される表面凹凸による画像不均一性をなくし、かつ画像の光沢に色のつくことがない、平滑性の高い、高品位なトナー画像を得ることのできる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polar band-reject filter which has pass characteristics with both flatness in attenuation characteristics in the bottom of an inhibition zone and sharpness in rising at both sides of the bottom of the inhibition zone, and is capable of attenuating the signal of a desired channel with no problem, without attenuating the signal of an adjacent channel excessively.例文帳に追加

阻止域底部における減衰特性の平坦性と、阻止域底部両側の立ち上がり急峻性とを兼ね備えた通過特性を有すとともに、隣接チャンネル信号を過度に減衰させることなく、希望チャンネルの信号は問題なく減衰できる有極型帯域阻止フィルタを提供する。 - 特許庁

To solve a problem wherein a circumferential velocity difference between an inner circumference part and the outer circumference part of a carrier causes an accuracy difference in the surface roughness, parallelism and flatness in a single work in a conventionally used polishing pad whose diameter of openings on the surface is same and whose carrier of a planetary gear type polishing device executes circular movement of autorotation and revolution.例文帳に追加

従来より使用している研磨パッドは、表面開口径が同一のもので、遊星歯車式研磨装置でのキャリヤは、自転及び公転の円運動をおこなうため、キャリヤの内周部と外周部との周速差により１枚のワーク内での面粗度や平行・平面度の精度差が出てしまう - 特許庁

To solve a problem which the surface adhesion of a foamed sheet of a synthetic resin is usually weak because of its insufficient flatness when printed or laminated, to cause peeling at the interface between the foamed sheet and an adhesive layer, for example, even when a decorative sheet is laminated and is too weak to occur the breakage of the laminated material.例文帳に追加

合成樹脂発泡シートは、表面の平面性が不十分なため、印刷やラミネートの際の接着性が不十分であり、例えば、化粧シートを接着剤を用いてラミネートしても、発泡シートと接着剤層の界面で剥離が生じ、貼り合せた素材の破壊に至るほどの強い接着力が得られなかった点を改善することを課題としている。 - 特許庁

To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.例文帳に追加

研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁