「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

A pixel region has a transmissive region T and a reflective region R wherein thickness dr of the liquid crystal layer 30 in the reflective region R is less than thickness dt of the liquid crystal layer 30 in the transmissive region T.例文帳に追加

絵素領域は、透過領域Ｔと、反射領域Ｒとを有し、反射領域Ｒ内の液晶層３０の厚さｄｒは、透過領域Ｔ内の液晶層３０の厚さｄｔよりも小さい。 - 特許庁

This coated cutting tool is formed with a coating layer on a cutting face and a flank of a cutting blade 5, the film thickness of the coating layer 2 of the cutting face is 0.4-3μm and the film thickness of the flank is 1μm or less.例文帳に追加

本発明の被覆切削工具は、切れ刃のすくい面と逃げ面にコーティング層が形成され、そのすくい面のコーティング層の膜厚が０．４〜３μｍで、且つ逃げ面の膜厚が１μｍ以下である。 - 特許庁

Since the thickness of each free layer (A323 and B31) is less than the thickness of a single (free layers A32 and B31 are integrated) free layer, AMR is significantly reduced while appropriate GMR is assured.例文帳に追加

各フリー層（Ａ３２，Ｂ３１）の厚みは、単一の（フリー層Ａ３２，Ｂ３１が一体化された）フリー層の厚みより小さくなるので、ＧＭＲを適正に確保しつつＡＭＲを大幅に減少させることが可能となる。 - 特許庁

In the compound-semiconductor laminated structure 30, the InP layer 36 having the film thickness of 1 μm is formed on the GaAs substrate 32 through a GaAs_0.95P_0.05 layer 34 having a uniform P composition and the film thickness of 60 nm.例文帳に追加

本化合物半導体積層構造３０は、ＧａＡｓ基板３２上に、Ｐ組成が一様な膜厚６０ｎｍのＧａＡｓ_０．９５Ｐ_０．０５層３４を介して、膜厚１μｍのＩｎＰ層３６を備えている。 - 特許庁

Each of the third layer 407 and the fourth layer 403 has an optical film thickness that corresponds to the light to be transmitted, and the physical film thickness of the overall color filter 306 is also made different corresponding to each of the light beams to be transmitted.例文帳に追加

第３の層４０７および第４の層４０３は、透過対象の光に応じた光学膜厚を有しており、カラーフィルタ３０６全体の物理膜厚も透過させる光色毎に異なっている。 - 特許庁

The thickness of a joint layer where a piezoelectric body 2 is fixed to a propagating substrate 1 is set so as to be not less than 1/30 and not more than 1/4 of the thickness of the piezoelectric body, and the joint layer is formed of the metallic junction of solder and gold.例文帳に追加

圧電体２と伝搬基板１とを固着する接合層の厚みを、圧電体厚みの１／３０以上、かつ、１／４以下とし、接合層をはんだと金による金属接合により形成する。 - 特許庁

Subsequently, the film thickness of the pigment layer is calculated from the electrical signal, based on a relational expression which shows the relation between the electrical signal and the film thickness of the pigment layer, and the quantity as to whether the CD-R disk 14 is nondefective is determined.例文帳に追加

次に、電気信号と色素層の膜厚との関係を示す関係式に基づいて、電気信号から色素層の膜厚を算出し、ＣＤ−Ｒディスク１４が良品であるか否かを判断する。 - 特許庁

A first layer 11, consisting of AlGaN mixed crystal with a thickness of about 1 to 100 nm, and a second layer 12, consisting of p-type GaN doped with Mg to a thickness of about 1 to 100 nm are alternately laminated in a plurality of laminations, respectively.例文帳に追加

ＡｌＧａＮ混晶よりなる厚さ１〜１００ｎｍ程度の第１の層１１と、Ｍｇが添加されたｐ型ＧａＮよりなる厚さ１〜１００ｎｍ程度の第２の層１２とを交互にそれぞれ複数積層する。 - 特許庁

A thickness of each layer and a thickness ratio of the layers of the multi-layer structure constituted of the aggregate 110 and the dense film 120 is adjusted by adjusting the number of irradiation times of laser beam onto a target 70.例文帳に追加

凝集体１１０及び緻密膜１２０から構成される多層構造の各層の厚さ、及び各層の厚さの比は、ターゲット７０へのレーザ光の照射回数を調整することにより調整する。 - 特許庁

The layer thickness control member 7 facing the developing roller 4, and including a non-magnetic blade 19 that projects in the direction of the developing roller 4 is configured to control the layer thickness of the two-component developer 2 conveyed by the developing roller 4.例文帳に追加

層厚規制部材７は、現像ローラ４に対向し、非磁性ブレード１９を現像ローラ４方向に突き出させて設けられ、現像ローラ４が搬送する２成分現像剤２の層厚を規制する。 - 特許庁

On a sapphire substrate 11, a buffer layer 12 of film thickness of about 25 nm comprising nitride aluminum(AlN) is provided, over which a high carrier concentration n+ layer 13 of film thickness of about 4.0 μm comprising silicon(Si) doped GaN is formed.例文帳に追加

サファイア基板１１の上には窒化アルミニウム(AlN) から成る膜厚約25nmのバッファ層１２が設けられ、その上にシリコン(Si)ドープのGaN から成る膜厚約4.0 μｍの高キャリア濃度ｎ^+ 層１３が形成されている。 - 特許庁

Thus, the thickness of the liquid crystal layer corresponding to a transmissive display region is controlled to be larger than the thickness of the liquid crystal layer corresponding to the reflective region, and the liquid crystal device has a multi-gap structure.例文帳に追加

これにより、透過表示領域に対応する液晶層の厚さが反射表示領域に対応する液晶層の厚さより大きく設定され、液晶表示装置はマルチギャップ構造を有している。 - 特許庁

The transfer belt 1 is constituted of a surface layer 12 of which the thickness is 5-50μm and the surface resistivity is ≥1×10^13 Ω/square and a base layer 12 of which the thickness is 50-200μm and the surface resistivity is ≤0.001 Ω/square.例文帳に追加

転写ベルト１を、厚さが５〜５０μｍ、表面抵抗率が１ｘ１０^13Ω／□以上の表層１２と、厚さが５０〜２００μｍで、表面抵抗率が表層１２の０．００１以下の基層とで構成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fluorescent lamp wherein nonuniformity is prevented from being generated in the film thickness of a phosphor layer in the whole of a glass tube, and the phosphor layer having a uniform film thickness can be formed.例文帳に追加

本発明は、ガラス管全体において蛍光体層の膜厚にむらが発生するのを防止することができ、均一な膜厚の蛍光体層を形成することができる蛍光ランプの製造方法を提供する。 - 特許庁

A film thickness tu1 in the silicon oxide film 7 contained in the upper-layer side insulating films 7 and 8 is larger than a film thickness td2 in the silicon oxide film 3 contained in the lower-layer side insulating films 2 and 3, and tu1/td2>1.22 is satisfied.例文帳に追加

上層側絶縁膜７，８に含まれるシリコン酸化膜７の膜厚ｔ_u１が、下層側絶縁膜２，３に含まれるシリコン酸化膜３の膜厚ｔ_d２よりも厚くなっており、ｔ_u１／ｔ_d２＞１．２２を満たしている。 - 特許庁

In the laminated soft magnetic member 5 being built in an electronic apparatus, e.g. a portable telephone, an insulation layer 6 and a soft magnetic layer 7 are laminated while differentiating the thickness or the thickness distribution thereof is made uneven.例文帳に追加

携帯電話機等の電子機器に組み込む積層軟磁性部材５において、絶縁層６と軟磁性層７を積層し、絶縁層６や軟磁性層７の厚さを異ならせたり、厚さ分布を不均一とする構成とした。 - 特許庁

Since the nano-wires 11 are each so formed that its tip protrudes from the base material 7 and is fitted into the metal layer 5 at the usage temperature of an element 1, the thickness of each metal layer 5 is set at a thickness exceeding the amount of protrusion of the nano-wire 11.例文帳に追加

ナノワイヤ１１は、素子１の使用温度では、その先端が母材７から突出して金属層５に嵌入するので、金属層５の厚みは、ナノワイヤ１１の飛出量を超える厚みに設定されている。 - 特許庁

A film thickness of a light emitting layer which constitutes the organic EL element 33 of the second light emitting part Ha2 is formed larger than a film thickness of a light emitting layer which constitutes the organic EL element 33 of the first light emitting part Ha1.例文帳に追加

第２露光用発光部Ｈａ２の有機ＥＬ素子３３を構成する発光層の膜厚を、第１露光用発光部Ｈａ１の有機ＥＬ素子３３を構成する発光層の膜厚より厚く形成した。 - 特許庁

The conditions are: (1) toner particles having ≤0.2 μm average thickness of the shell layer occupy at least 80% of the entire toner particles; and (2) toner particles having at least 80% of the surface area of the core particle coated with shell layer of ≥0.05 μm thickness occupy at least 80% of the entire toner particles.例文帳に追加

（２） 前記コア粒子の表面積の少なくとも８０％を厚み０．０５μｍ以上の前記シェル層で被覆されているトナー粒子は、全トナー粒子の少なくとも８０％を占める。 - 特許庁

Reduction in wall thickness of the heat insulation coating layer by a load of the piping P is relaxed with the cushioning material 12 and at the same time the cushioning material 12 is provided to complement the warmth retaining property of a wall thickness reduced portion of the heat insulating coating layer.例文帳に追加

配管Ｐの荷重による保温被覆層の肉厚減少を緩衝材１２で緩和せしめると共に、保温被覆層の肉厚減少部分の保温性を緩衝材１２が補充するように設ける。 - 特許庁

The semiconductor laser diode is of a ridge waveguide wherein a predetermined thickness part of a clad layer is formed to have a mesa structure, and the remaining thickness D of the clad layers is laminated on the entire upper surface of an active layer.例文帳に追加

本半導体レーザダイオードは、クラッド層のうちの所定厚さ部分をメサ構造とし、残りの厚さＤのクラッド層を活性層上全面に積層させてなるリッジ導波路型半導体レーザダイオードである。 - 特許庁

Further, a second resin insulating layer 5 with reinforcing fibers filled therein the thickness of which is equal to or more than the thickness of the metal layers is attached to the first resin insulating layer 4, in a way of being in contact with the entire circumference of the metal layers 3 on both the sides.例文帳に追加

さらに、第１樹脂絶縁層４には、両面の金属層３端縁全周に接し、厚みが金属層厚みと同等以上である補強繊維充填第２樹脂絶縁層５を付加する。 - 特許庁

To provide an optical filter with few ripples while keeping good controllability of the thickness of each refractive layer constituting the optical filter without varying the thickness of the layer, and to provide an optical equipment equipped with the optical filter.例文帳に追加

光学フィルタを構成する各屈折率層の膜厚を変化させずに、各層の膜厚の制御性を良好に保ちながらリップルの少ない光学フィルタ及びこれを備える光学機器を提供すること。 - 特許庁

Each element of a thickness A of the intermediate layer 102, a servo frequency Fsrv, a thickness δs of the deep servo layer 103 and a taper angle θ is set to a proper value, particularly to conform to a prescribed reproduction condition of servo data.例文帳に追加

特にサーボデータの所定の再生条件に適合するように、中間層１０２の厚さΔ、サーボ周波数Ｆｓｒｖ、深層サーボ層１０３の厚さδｓ、テーパ角度θの各要素を適正値に設定する。 - 特許庁

The sterilization/disinfection liquid-impregnated sheet makes a three-layer structure in which surface layers 2 and 2 of less thickness overlie both upper and lower surfaces of a core material layer 1 of larger thickness and the sheet thus obtained is impregnated entirely with a sterilization/disinfection liquid.例文帳に追加

殺菌消毒液含浸シートは、厚みが大きい芯材層１の上下両面に、厚みが小さい表面層２・２を積層した三層構造になっており、全体に殺菌消毒液が含浸される。 - 特許庁

The electromagnetic wave shield filter has a transparent base 1, a metal mesh layer provided on the transparent base, and an adhesive layer 7 provided on the metal mesh layer to fill unevenness of a mesh pattern, and the adhesive layer is provided to satisfy T≥H, where H is the thickness of the metal mesh layer and T is the thickness of the thickest portion of the adhesive layer.例文帳に追加

透明基材と、その透明基材上に設けられた金属メッシュ層と、メッシュパターンの凹凸を埋めるように金属メッシュ層上に設けられた粘着剤層と、を備えた電磁波遮蔽フィルタであって、前記金属メッシュ層の厚みをＨ、前記粘着剤層の最厚部分の厚みをＴとした場合に、Ｔ≧Ｈを満たすように粘着剤層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

The film has a structure in which a conductive layer and a low reflectance layer are laminated in this order at least on one surface of a transparent base material film via a hard coat layer, and the conductive layer is laminated by a transparent conductive oxide layer with a film thickness of 10 nm to 50 nm and a metal layer with a film thickness of 2 nm to 8 nm in this order.例文帳に追加

透明基材フィルム上の少なくとも片面に、ハードコート層を介して、導電層、低屈折率層がこの順序に積層され、該導電層が、１０ｎｍから５０ｎｍの膜厚を有する透明導電性酸化物層と２ｎｍから８ｎｍの膜厚を有する金属層がこの順序で積層した構造をもつことを特徴とした反射防止フィルム。 - 特許庁

The thickness of the SOI layer 7 is the difference between the total thickness of the first mask 2 and the second mask 4 at the outside the first window 3 and the thickness of the second mask 4 at the inside the first window 3.例文帳に追加

ＳＯＩ層７の厚さは、第１の窓部３の外側における第１のマスク２と第２のマスク４とを合わせた厚さと、第１の窓部３の内側における第２のマスク４の厚さとの差分になる。 - 特許庁

Then, the photosensitive resin is dried, and furthermore, the application and drying steps are repeated by using a rubber roll with grooves until its thickness will reach a predetermined thickness, thereby obtaining easily a flattened insulation layer 80 having the predetermined thickness.例文帳に追加

その後、乾燥し、溝付きゴムロールを用いて感光性樹脂の塗布厚みが所定厚みになるまで塗布および乾燥を繰返すことにより、所望の厚みの平坦な絶縁層８０を容易に得ることができる。 - 特許庁

An alkali diffusion preventive film (film thickness 100 nm), an antireaction film 12 (film thickness 100 nm) and the dielectric layer 13 (film thickness 40 μm) are formed on the glass substrate 10 for PDP, successively from the substrate 10 side.例文帳に追加

ＰＤＰ用ガラス基板１０の上に、基板１０側から順に、アルカリ拡散防止膜１１（膜厚１００ｎｍ）、反応防止膜１２（膜厚１００ｎｍ）、誘電体層１３（膜厚４０μｍ）が形成されている。 - 特許庁

To provide a film thickness measuring device and a technique thereof capable of measuring film thickness of each layer independently with high accuracy in a short time, even for multilayer thin film consisting of a plurality of layers with similar film thickness.例文帳に追加

同様の膜厚を有する層が複数存在する多層薄膜であっても、各層の膜厚を独立して短時間に高精度で測定することができる膜厚測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The thin sapphire substrate is used for epitaxially growing a semiconductor, and the thickness H1 of the sapphire substrate is previously processed to be a thickness nearly equal to the thickness of a layer of the semiconductor to be deposited on the substrate.例文帳に追加

半導体をエピタキシャル成長させる際に用いるサファイヤ基板であって、当該基板の厚さＨ１を、当該基板に積層させる半導体の積層厚さと同程度の厚さに予め加工した薄型サファイヤ基板。 - 特許庁

Further, the film 11 with 50 μm thickness is laminated on the sheet 17, and subsequently, the adhesion layer is pressed in a thickness direction by a hot press to make a semiconductor device whose total thickness is 500 μm.例文帳に追加

さらに、この樹脂シート１７上に外装材として厚さが５０μｍのＰＥＴフィルム１１を積層した後、加熱プレスによりこの積層体を厚さ方向に加圧して、総厚が５００μｍの半導体装置とする。 - 特許庁

An Si thin film 2 of thickness 100 nm is formed on a sapphire substrate 1 of thickness 300 μm, and an AlN intermediate layer 3 of thickness 200 nm is grown in crystal on the Si thin film 2 at a substrate temperature of 1000°C.例文帳に追加

厚さ３００μｍのサファイア基板１上に、厚さ１００ｎｍのＳｉ薄膜２を形成し、基板温度１０００℃で，Ｓｉ薄膜２上に厚さ２００ｎｍのＡｌＮ中間層３を結晶成長する。 - 特許庁

A layer (135) of ferromagnetic material is arranged firmly on one side (120) of the PM device (105), and the thickness of the layer (135) is about 15 mm or less.例文帳に追加

強磁性材料の層（１３５）は、ＰＭ装置（１０５）の一面（１２０）に強固に配設されており、層（１３５）の厚みは、約１５ミリメートル以下である。 - 特許庁

Exposure energy is controlled to make thickness of the BM layer 106 on the source bus line equal to or thinner than that of the CF layer and preferably ≥400 nm.例文帳に追加

ソースバスライン上のＢＭ層１０６の厚みがＣＦ層の厚み以下で、好ましくは４００ｎｍ以上になるように露光量を調整する。 - 特許庁

In the flexible heating body of the film heat fixing device consisting of a resin base body and a resin protective layer, the base body is made thicker than the thickness of the protective layer.例文帳に追加

樹脂基材と樹脂保護層からなるフィルム加熱定着器の可撓性加熱体において、基材厚みが保護層厚みよりも大きいこと。 - 特許庁

At the overlapped part 33, the thickness of the first resin layer 31 decreases gradually towards the distal end, and that of the second resin layer 32 increases gradually towards the distal end.例文帳に追加

重なり部３３では、第１樹脂層３１の厚さが先端に向かって漸減し、第２樹脂層３２の厚さが先端に向かって漸増している。 - 特許庁

Then, a phosphor paste layer 25 of a specified thickness is formed on the partitions 24 so that at least parts of the phosphor paste layer 25 sink into gaps between the partitions 24.例文帳に追加

その後、隔壁２４の間の隙間に少なくとも一部入り込むように、隔壁２４の上に所定厚みの蛍光体ペースト層２５を形成する。 - 特許庁

To provide an organic light-emitting element which can reduce the leakage current by adjusting the thickness ratio of a positive-hole transportation layer to a positive-hole injection layer.例文帳に追加

正孔輸送層と正孔注入層の厚さ比を調節して漏れ電流を減少させることが可能な有機発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method of zirconia film capable of carrying out local coating, keeping the uniform thickness of a coating layer, and improving thermal fatigue crack of a cylinder head, when the cylinder head is formed on the coating layer.例文帳に追加

シリンダーヘッドにコーティング層を形成する時、局部的なコーティングが可能で、かつコーティング層が均一な厚さを保持するようにする。 - 特許庁

A source area 7 and a drain area 9 are formed on a p-type upper epitaxial layer 5 while penetrating in its thickness direction, and they are connected with an n-type epitaxial layer 4.例文帳に追加

ｐ型上エピタキシャル層５には、ソース領域７およびドレイン領域９がｐ型上エピタキシャル層５を層厚方向に貫通して形成されている。 - 特許庁

The amount of power is great enough to melt an interface layer of ice at an interface, where the thickness of the interface layer ranges from 1 μm to 1 mm.例文帳に追加

パワーの大きさは、界面での氷の界面層を融解するのに十分であり、通常、界面層の厚みは１μｍ〜１ｍｍの範囲である。 - 特許庁

The copper foil excellent for the high-frequency circuit has at least two layers of a granular layer and a columnar layer in a thickness direction.例文帳に追加

本発明は、厚さ方向において、粒状層と柱状層の少なくとも2種の層を有する高周波回路用として優れた銅箔である。 - 特許庁

Also, the thickness of the resin layer is set to not less than 0.5 μm and not more than 30 μm, thus reducing a void generated between the metal layer and the unleaded solder.例文帳に追加

また、樹脂層の厚みを０．５μｍ以上３０μｍ以下とすることで、金属層と無鉛半田間に生じるボイドを減らすことができる。 - 特許庁