「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

A semiconductor substrate layer having a first portion and a second portion is used, and the second portion of this semiconductor substrate layer has a thickness thinner than that of the first portion.例文帳に追加

第１部分と第２部分とを有する半導体基板層が使用され、この半導体基板層の第２部分は、第１部分よりも厚さが薄い。 - 特許庁

A low-temperature buffer layer 105 for inhibiting variation in layer thickness of the nitride semiconductor film 106 is provided at least at a part of the groove 103.例文帳に追加

溝１０３の少なくとも一部に、窒化物半導体膜１０６の層厚バラツキを抑制するための低温バッファ層１０５が設けられている。 - 特許庁

The growth bedrock material is formed in a layer having a fixed thickness, such as several cm, concretely approximately 3 or 7 cm as the growth bedrock layer 3.例文帳に追加

生育基盤層３は、この生育基盤材を所定の厚さ、たとえば数ｃｍ具体的には３乃至７ｃｍ程度の層としたものである。 - 特許庁

The first chromium plating layer formed on the base material is a hard or soft chromium plating layer having 0.1-50 μm thickness.例文帳に追加

被めっき母材の表面にめっきされた第１層目のクロムめっき層が、層厚さ０．１〜５０μｍを有する、硬質または軟質クロムめっき層である。 - 特許庁

The thickness of γ-Al_2O_3 is set to the desired value by further homoepitaxitially growing the γ-Al_2O_3 layer 14 on the alumina preliminary layer 13.例文帳に追加

このアルミナ予備層１３の上にさらにγ−Ａｌ_２Ｏ_３層１４をホモエピタキシャルに成長させてγ−Ａｌ_２Ｏ_３の厚みを所望の値に設定する。 - 特許庁

The thickness of the nylon 6 layer as the outer face is preferably 0.5-5.0 μm and that of the copolymer layer of nylon 6 and nylon 66 is preferably 3.0-20 μm.例文帳に追加

好ましくは、外面のナイロン−６層の厚みを０．５乃至５．０μｍ、ナイロン６とナイロン６６との共重合体層の厚みを３．０乃至２０μｍとする。 - 特許庁

A carburized layer having Vickers hardness not less than 400 and the layer thickness not less than 20 μm can reveal a small surface friction coefficient and excellent abrasion resistance.例文帳に追加

ビッカース硬度４００以上、層厚２０μｍ以上の浸炭層は、小さな表面摩擦係数、良好な耐摩耗性を発現することができる。 - 特許庁

On the upper surface of the semiconductor layer 3, upper layer resistors 7a and 7b formed by the thickness smaller than the depth of the grooves 5a, 5b and 5c are formed.例文帳に追加

半導体層３の上面に、溝５ａ，５ｂ，５ｃの深さよりも小さい厚みで形成された上層抵抗体７ａ，７ｂが形成されている。 - 特許庁

The second region includes third metal wiring having a film thickness across from the first wiring layer to the second wiring layer and having a predetermined third width.例文帳に追加

第２の領域は、第１配線層から第２配線層へと亘る膜厚を有し、所定の第３の幅を有する第３の金属配線を有する。 - 特許庁

The method and apparatus allow improved control over individual layer thicknesses, layer thickness gradients, indices of refraction, interlayer adhesion, and surface characteristics of the optical film.例文帳に追加

方法および装置は、光学フィルムの個々の層厚さ、層厚さ勾配、屈折率、層間付着、および表面特性の調整を改善することを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for forming a high-quality semiconductor layer with few lattice defects with a thin layer thickness in the wide region of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハの広い領域において格子欠陥の少ない高品質な半導体層を薄い層厚で形成する方法を提供することである。 - 特許庁

The thickness of the friction alignment layer 3 is 1 to 20 mm and in the forming step of the friction alignment layer, the first thin film 2 is rubbed with diamond, sapphire or SiC.例文帳に追加

また、摩擦配向層３の厚さは１〜２０ｍｍとし、その形成工程において、第１の薄膜２をダイアモンド、サファイアまたはＳｉＣで摩擦する。 - 特許庁

The substrate for the flexible printed wiring board is provided with the resin layer containing a liquid crystal polyester layer on an extremely thin copper foil with a thickness of ≤5 μm.例文帳に追加

本発明のフレキシブルプリント配線板用基板は、厚さ５μｍ以下の極薄銅箔上に液晶ポリエステルを含有する樹脂層を備える。 - 特許庁

The protective layer 1 has a thickness of 1 μm or more and 10 μm or less, and the adhesive layer 3 contains a phosphorous and melamine-based flame retardant.例文帳に追加

そして、保護層１は、その厚みを１μｍ以上１０μｍ以下とし、接着剤層３は、リン系及びメラミン系難燃剤を含む構成とする。 - 特許庁

Consequently, the polarizable electrode layer can be protected from cracking and, significant unevenness is prevented from occurring in thickness of the polarizable electrode layer.例文帳に追加

これにより、分極性電極層にクラックが発生したり、分極性電極層の膜厚に大きなムラが生じることを防止することができる。 - 特許庁

The aluminum nitride layer 6 is formed, in such a thickness, as to delay the time for starting the diffusion of gallium and indium from the reaction source supplying layer 7.例文帳に追加

そして、窒化アルミニウム層６は、反応源供給層７から拡散されるガリウム及びインジウムの拡散開始時期を遅延可能な厚さに形成されている。 - 特許庁

A gate dielectric layer 160 is formed on the side walls of the monocrystalline top portions by thermal oxidation, allowing low thickness of the gate dielectric layer.例文帳に追加

ゲート誘電体層１６０は、熱酸化により単結晶上部部分の側壁の上に形成され、薄い膜厚のゲート誘電体層を可能にする。 - 特許庁

Then, following the third clad layer 7, a dry-etching is carried out in order while the predetermined film thickness of the intermediate layer 6 is left, and a strip-shaped ridge 12 is formed.例文帳に追加

次いで、第３のクラッド層７に続いて、中間層６を所定膜厚残して順にドライエッチングし、ストライプ状のリッジ部１２を形成する。 - 特許庁

To accurately and simply measure the weight per unit area and/or the thickness of each layer of a double-layer film sheet in a running state by using an X-ray inspection method.例文帳に追加

Ｘ線透過法を用いて走行状態の二層膜シートの各層の単位面積当たり重量および／または厚みを精度良く簡単に測定する。 - 特許庁

Maximum thickness of a ceramic fusion layer is set at 10 μm or less at the surface layer part of a plurality of dividing recesses arranged in rows on one major surface of a ceramic substrate.例文帳に追加

セラミック基板の一方の主面に列設する複数の分割用凹部の表層部におけるセラミック溶融層の最大厚みを１０μｍ以下とする。 - 特許庁

The surface of material includes particles, having a diameter in a range of 1-500 nm and the layer of material, has a layer thickness in the range of 10-2000 nm.例文帳に追加

材料表面には、直径が１〜５００ｎｍの範囲の粒子が含まれており、また、材料層は、１０〜２０００ｎｍの範囲の層厚を有している。 - 特許庁

The thickness T1 of the portion of the silver layer 6 which is bonded with the safety fuse element 11 is made thicker than that T0 of the other portion of the layer 6.例文帳に追加

前記銀層６のうち前記安全ヒューズ線１１の接合部分における膜厚さＴ１を、他の部分の膜厚さＴ０よりも部分的に厚くする。 - 特許庁

The fixing member comprises disposing an elastic layer composed of a silicone rubber foam of ≥80% in the rate of open cells and of ≤0.6 mm in an amount of deformation on heating of a wall thickness as an elastic layer (2).例文帳に追加

弾性層（２）に、連泡率が８０％以上で、しかも肉厚の加熱変形量が０．６ｍｍ以下のシリコーンゴム発泡体を採用する。 - 特許庁

Because a layer thickness in each layer of the element 3 can be made uniform, the element deterioration caused by the unevenness does not occur, and the life of the element 3 can be extended.例文帳に追加

素子部３の各層における層厚を均一にできるので、不均一による素子劣化を生じさせず、素子部３の寿命を延長することができる。 - 特許庁

More particularly, the method includes a working step for making the thickness distribution of the metallic layer uniform as far as possible after the formation of the thermally sprayed metallic layer on the outside surface.例文帳に追加

特に、外面に対して溶射金属層を形成後、当該金属層の厚さ分布を均一に近づけるための加工ステップを具備することが望ましい。 - 特許庁

To provide a dielectric material capable of achieving a dielectric layer having good temperature characteristics without impairing reliability even when the thickness of the layer is reduced.例文帳に追加

薄層化しても信頼性を損なうことなく、温度特性の良好な誘電体層を実現できる誘電体材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

The adhesive layer has the thickness above the ruggedness on the surface of the supporting layer and the thermal insulation characteristic.例文帳に追加

少なくとも１層の光配線層を有する光配線基板において、該光配線層と、該光配線層を支持する支持基板との間に接着剤層を有する。 - 特許庁

To provide a film thickness defective inspection device for a conductive polymer layer of an organic EL panel substrate capable of efficiently inspecting a conductive polymer layer after the conductive polymer layer is formed, and a method for inspecting a film thickness defect using the same.例文帳に追加

導電性ポリマー層形成後に導電性ポリマー層の膜厚不良を効率よく検査できるようにした有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The penetrating parts 28 are composed of catalyst penetrating parts 22 in which the catalyst layer 24 extends in a thickness direction into a side of non-electrolyte membrane and diffusing layer penetrating parts 25 which couple with the catalyst penetrating parts 22 and in which the diffusing layer 27 extends in a thickness direction into a side of the catalyst membrane 11a.例文帳に追加

貫入部２８は、触媒層２４が厚さ方向で非電解質膜側に延びる触媒貫入部２２と、触媒貫入部２２と噛み合い、拡散層２７が厚さ方向で電解質膜１１ａ側に延びる拡散貫入部２５とからなる。 - 特許庁

To provide an ultrasonic probe, and its producing method, in which problems incident to variation in the thickness of an adhesive layer or mixture of bubbles into the adhesive layer are prevented by forming an acoustic matching layer of a required thickness with high accuracy without requiring any bonding.例文帳に追加

要求される厚みの音響整合層を精度良く作成するとともに、接着すること無く形成することで、接着層の厚みのバラツキや接着層への気泡の混入による問題が起こりにくい超音波探触子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fixing unit, the thickness Tg of a fluororesin layer 13c and the thickness Tj of a rubber layer 13b in a heating roller 13 are defined as 100≤Tg≤180 μm and 50≤Tj≤150 μm, and the thermal conductivity of the rubber layer 13b is defined as 0.6-1.5 W/mK.例文帳に追加

加熱ローラ１３のフッ素樹脂層１３ｃの厚さＴｇ、ゴム層１３ｂの厚さＴｊを１００μｍ≦Ｔｇ≦１８０μｍ、５０μｍ≦Ｔｊ≦１５０μｍとし、ゴム層１３ｂの熱伝導率を０．６Ｗ／ｍ・Ｋ〜１．５Ｗ／ｍ・Ｋとした定着装置とする。 - 特許庁

To provide a means to measure the thickness of an epitaxial layer formed on a substrate without depending on substrate resistivity, and polished after the epitaxial layer is formed; and to provide an epitaxial wafer guaranteeing the thickness of the epitaxial layer of a product wafer by the means.例文帳に追加

基板抵抗率によらず基板上にエピタキシャル層が形成され、エピタキシャル層形成後に研磨されたエピタキシャル層の厚さを測定することができる手段および上記手段により製品ウェーハのエピタキシャル層厚を保証したエピタキシャルウェーハを提供する。 - 特許庁

The electrode finger 2a is comprised of a first layer 12 composed of titanium having film thickness of about 20nm formed on the piezoelectric substrate 1 and a second layer 22 containing aluminum and copper having film thickness of about 374nm formed on the first layer 12.例文帳に追加

電極指２ａは、圧電基板１上に形成されている約２０ｎｍの膜厚を有するチタンからなる第１層１２と、第１層１２上に形成されている約３７４ｎｍの膜厚を有するアルミニウムおよび銅を含む第２層２２とから構成されている。 - 特許庁

The barrier metal layer 52 having high <111> orientability is constituted of a Ti layer 52a, having a film thickness of 20 nm and the TiN layer 52b the thickness of 40 nm for improving the <111> orientability and to suppress the generation and progress of EM phenomenon of Al.例文帳に追加

〈１１１〉配向性の高い積層バリヤメタル層は、Ａｌの〈１１１〉配向性を向上させ、ＡｌのＥＭ現象の発生、進行を抑制するために、膜厚２０ｎｍのＴｉ層５２ａと、膜厚４０ｎｍのＴｉＮ層５２ｂとから構成されている。 - 特許庁

A non-alkali glass 1737 (thickness 0.5 mm) made by Corning Co., Ltd. is used as a substantially transparent planar substrate 3, a color filter layer 4 of R(red), G(green), B(blue) is formed on one side surface of the thickness direction and a protection layer made of a transparent resin is formed on the color filter layer.例文帳に追加

実質的に透明な板状の基材３としてコーニング社製無アルカリガラス１７３７(厚さ０.５mm)を用い、その厚さ方向の一方の面にR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルター層４を形成し、そのうえに透明樹脂からなる保護層を形成した。 - 特許庁

A coloring layer 1 (15) for a transmissive mode with thickness D1 is formed in a light transmissive region Tr and a coloring layer 2 (16) for a reflective mode with thickness D2, thinner than that of the coloring layer 1 is formed in a light reflective region Re in a pixel.例文帳に追加

１画素内の光透過領域Ｔｒには透過型用の厚さＤ１を有する着色層１（１５）を形成し、光反射領域Ｒｅには着色層１より薄い厚さＤ２を有する反射型用の着色層２（１６）を形成したこと。 - 特許庁

To obtain a method of measuring the film thickness of the surface layer of an electrophotographic photoreceptor which is unaffected by the light diffusion of fillers, suitable for measurement of a layer to be measured smaller in light absorption quantity and capable of measuring the film thickness of the surface layer even in a laminated state.例文帳に追加

電子写真感光体における表面層の膜厚測定方法において、フィラーの光拡散の影響を受けず、吸光量が少ない被測定層の測定にも適し、更に積層状態でも表面層の膜厚測定が可能な測定方法を得る。 - 特許庁

Since the charge layer 4 has a function of reducing the threshold of the SOI MOSFET, the more the thickness of the silicon layer film is increased, the SOI MOSFET in which an effect of the variations of the thickness of the layer 3 to the threshold voltage is small, is obtained.例文帳に追加

固定酸化膜電荷層４はシリコン層膜厚が厚くなればなるほどＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴのしきい値を下げる機能を有するので、シリコン層３膜厚のばらつきによるしきい値電圧への影響が少ないＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴが得られる。 - 特許庁

This magnetic recording medium is constituted so that a magnetic layer which contains at least magnetic powder and a binder and has 0.15 μm or thinner thickness is formed on a nonmagnetic support, a hard carbon film having 5-30 nm thickness is formed on the magnetic layer and a lubricating layer is formed on the hard carbon film.例文帳に追加

非磁性支持体上に少なくとも磁性粉末と結合剤とを含む０．１５μm 以下の厚みの磁性層を設けた磁気記録媒体において、この磁性層上に５〜３０nmの厚みの硬質炭素膜を設け、さらにその上に潤滑層を設ける。 - 特許庁

In the substrate 2, thickness t' in a region around the through hole CH is made thinner than the thickness t of a part where the recording layer 4 is formed and a recessed part 6 is formed in the surface on the light incident side where the reflection layer 3 and the recording layer 4 are formed.例文帳に追加

この基板２は、貫通孔ＣＨの近傍領域の厚みｔ‘が記録層４の形成部分の厚みｔよりも薄くなっており、光入射側の面すなわち反射層３及び記録層４が形成されている面に凹部６が形成されている。 - 特許庁

The device is provided with a width regulating blade 7 pressing the image forming material fluidized near the side edge of the belt base material back to a center part side at a position where the belt 1 is opposed to the 2nd heating roll 3, and a layer thickness maintaining blade 6 regulating the layer thickness of the image peeling layer on the downstream side of the blade 7.例文帳に追加

第２の加熱ロールとの対向位置に、ベルト基材上の側縁付近に流動した画像形成材料を中央部側へ押し戻す幅規制ブレード７と、その下流側に画像剥離層の層厚を規制する層厚維持ブレード６とを設ける。 - 特許庁

A strong adhesion gas barrier transparent laminate is obtained by laminating a metal vapor deposition thin film layer with a thickness of 10 nm or less on at least one surface of a base material comprising a transparent plastic material and further laminating an inorganic oxide vapor deposition thin film layer with a thickness of 5-300 nm on the metal vapor deposition layer.例文帳に追加

透明プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さが１０ｎｍ以下の金属蒸着薄膜層と、該金属蒸着薄膜層上に厚さが５〜３００ｎｍの無機酸化物蒸着薄膜層を順次積層する。 - 特許庁

The biaxially oriented film is a layered polyester film having at least one amorphous polyester resin layer and one crystalline polyester resin layer respectively, with the amorphous polyester resin layer having a thickness of 20-95% of the total thickness of the layered polyester film.例文帳に追加

二軸延伸フィルムが非晶性ポリエステル樹脂層と結晶性ポリエステル樹脂層とを少なくとも一層ずつ有する積層ポリエステルフィルムであって、非晶性ポリエステル樹脂層の厚みが、積層ポリエステルフィルム全厚みに対し２０〜９５％である上記スティック包装袋。 - 特許庁

On a region in which a lower layer wiring (short-circuit line) 16a is formed, a dummy wiring D for relatively thinning the thickness of a flattened film 37 formed on the lower layer wiring 16a to the thickness of the flattened film 37 in a part except the lower layer wiring 16a is formed.例文帳に追加

下層配線（短絡線）１６ａが形成される領域に、その上に形成される平坦化膜３７の厚さを下層配線１６ａ以外の部分の平坦化膜３７の厚さに対して相対的に薄くするためのダミー配線Ｄを形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device A has an insulating layer 22b which is provided to at least one substrate 2 between a pair of substrates and makes the layer thickness of a liquid crystal layer 3 in the reflective display region R and the layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region T different, and a color filter 10 provided between the pair of substrates.例文帳に追加

液晶表示装置Ａは、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板２に設けられ、反射表示領域Ｒにおける液晶層３の層厚と透過表示領域Ｔにおける液晶層３の層厚とを異ならせる絶縁層２２ｂと、一対の基板の間に設けられてなるカラーフィルタ１０と、を具備する。 - 特許庁