「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The studs are aligned in a single row in a wall center line position at mutual intervals D equivalent to 1/2, 1/3 or 1/4 of a width w of the board material.例文帳に追加

間柱は、ボード建材の幅(W) の１／２、１／３又は１／４に相当する相互間隔(D) を隔てて壁芯位置に単一列に整列配置される。 - 特許庁

Consequently, the line width and out-of-focus amount of the pattern can be estimated more accurately than the conventional case where they are estimated based on one point spread function.例文帳に追加

これにより、従来のように一つのポイントスプレッドファンクションで近似する場合に比して、パターンの線幅及びボケ量を正確に推定することができる。 - 特許庁

If the lid body 150 does not move inward in the width direction of the vehicle at this time, it follows a track K2 indicated by a dashed line to interfere with an armrest 34.例文帳に追加

ここで、蓋体１５０が車両幅方向内側方向移動しない場合は、一点破線で示す軌道Ｋ２となり、アームレスト３４に干渉する。 - 特許庁

To provide a method for designing a layout where specified wirings are certainly wired through the routes intended by a designer and the line width and wiring interval can be specified.例文帳に追加

指定した配線が確実に設計者の意図した経路を通って配線され、配線幅、配線間隔を指定できるレイアウト設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a mask material for exposure by which an image, particularly the line width of thin lines is faithfully reproduced independently of peripheral images.例文帳に追加

周辺の画像に影響を受けることなく、画像、特に細線の線幅が忠実に再現される露光用マスク材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system which can rapidly adjust the line width of a pattern exposed to a wafer, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ウェハに露光されるパターンの線幅の調整を迅速に行うことのできる電子ビーム露光装置及び半導体素子製造方法を提供する。 - 特許庁

The second hole 74 is constituted of a round hole of a large diameter which allows movement of the extending part 44 in the width direction and in an axis line direction toward the second positioning pin.例文帳に追加

第２の孔７４は、第２の位置決めピンに対して延出部４４が幅方向および軸線方向に移動することを許す大径な丸孔である。 - 特許庁

By providing the slit array plate 24, a thick condensing optical system used to narrow the line width of the reading light L1 in the conventional device is not required.例文帳に追加

スリットアレイ板２４を設けることにより、従来読取光Ｌ１の線幅を狭くするために用いられる厚い集光光学系を不要とする。 - 特許庁

To provide a refining process capable of converting a binary image into a line image of one pixel width by evenly thinning the binary image while maintaining its continuity.例文帳に追加

連続性を保ったまま２値画像を均等に細めて１画素幅の線画像に変換することができる細線化処理方法を提供すること。 - 特許庁

The cut-out part 54 arriving at the layer 52 is previously cut out longitudinally on a substantially central line of the paper 53 in its width direction.例文帳に追加

また、剥離紙５３の幅方向のほぼ中心線上には長手方向に粘着剤層５２に達する切り込み部５４が予め切り込まれている。 - 特許庁

To provide a resist composition giving a resist film with high etching durability and reduced LWR (line width roughness) in EUV lithography that can achieve formation of an ultrafine pattern.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、エッチング耐性が高く、ＬＷＲを低減したレジスト膜を与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer object which is excellent in the reproducibility of the line width of a color development pattern transferred when manufacturing a color filter or the like by transfer.例文帳に追加

転写によるカラーフィルタ等製造の際に、転写される着色パターンの線幅の再現性に優れた転写体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A planar shape of the connection portion 80 between the land portion 70 and the conductor 8 has an elongated shape along a width direction of the straight line part 72.例文帳に追加

ランド部７０と導体８との接続部８０の平面形状は、直線部７２の幅方向に沿った長手方向を有する縦長形状である。 - 特許庁

To expose a high-quality image without fluctuation in line width or the like in image drawing by digital scanning exposure using a spatial modulation element such as a DMD (Digital Micromirror Device).例文帳に追加

ＤＭＤなどの空間変調素子を用いたデジタルの走査露光による描画において、線幅の変動等の無い高画質な画像を露光する。 - 特許庁

The PCD time period, etc. can be figured out without actually processing the substrate by the coating and developing device, whereby variations of the circuit line width, etc. can be predicted.例文帳に追加

実際に塗布、現像装置にて基板を処理することなく、前記ＰＣＤ時間等を把握でき、これにより回路線幅等のバラツキを予測できる。 - 特許庁

The extended pattern is formed on a substrate W or on a substrate table WT and preferably extends over a length at least 50 times wider than a width of the line.例文帳に追加

延在パターンは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴ上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。 - 特許庁

To inexpensively provide a moving image transmission system which transmits a frame image with high definition via a transmission line with narrow transmission band width.例文帳に追加

伝送帯域幅の狭い伝送路を介して高品質のフレーム画像を伝送する動画像伝送システムを安価に提供することを目的とする。 - 特許庁

The pipe fixing plate 3 is placed around the whole circumference of the gap 4, and can be inserted in the direction of the diameter of the pipe line in piles by fitting to the width of the gap 4.例文帳に追加

管固定板３は、前記間隙４全周に亘って配置され、その間隙４幅に合わせて管路の径方向に重ねて挿入可能とする。 - 特許庁

The power trunk 104 and the pin 105 of the standard cell 101 can be overlapped and occurrence of a minimum line width rule error is prevented.例文帳に追加

これにより、電源幹線１０４と標準セル１０１のピン１０５とを重ねることを可能としつつ、最小線幅ルールエラーが発生しないようにできる。 - 特許庁

The sheet 10 has a break line extended in the width direction to be cut by predetermined length at fixed interval so as to be taken out by required amount when in use.例文帳に追加

使用時には、必要量だけを取り出せるよう、一定間隔にて、所定長さに切断するための幅方向に延ばされた破断線を有している。 - 特許庁

Divided bases 3 of respective production apparatuses 2 arranged in a production line are formed into a uniform unit module width W, and the production apparatuses 2, 2 are connected to each other.例文帳に追加

生産ラインに配置された各生産装置２の分割ベース３を単位モジュール幅Ｗに統一して生産装置２、２を互いに連結する。 - 特許庁

To provide a DBR laser having a narrow oscillation line width, capable of stably performing a single mode oscillation operation even under a high output state.例文帳に追加

高出力状態でも安定して単一モード発振動作が可能で、かつ狭発振線幅を有するＤＢＲレーザの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a photo mask capable of avoiding thinning of resist line-width and film thickness reduction on a wafer even when a luminance of an exposure light is uneven within the photo mask plane.例文帳に追加

フォトマスク面内での露光光の照度にムラがある場合でも、ウエハ上のレジスト線幅の細りや膜減りが生じるのを回避できるフォトマスクを得る。 - 特許庁

The packaged articles 1 thinner compared to the length and width sealed in a pillow bag 2 enclosing articles are juxtaposed in a line on a carrying-in conveyor 10, and carried in.例文帳に追加

物品をピロー袋２に封入した縦横に比べて厚さの薄い包装物品１を、搬入コンベア１０上に１列に並べて搬入する。 - 特許庁

The loop-shaped antenna elements 14a and 14b are provided with capacitor boards 16a and 16b with prescribed width at the side part opposite from the coupling line 15.例文帳に追加

上記ループ状のアンテナ素子１４ａ、１４ｂには、結合線路１５と反対側の側部に所定幅の容量板１６ａ、１６ｂを設ける。 - 特許庁

To make variable the length of the molded face width of a straight- line section of an inner frame and make one inner frame deal with various kinds of PC products.例文帳に追加

内型枠の直線部の成形面の幅長を可変として、１つの内型枠で寸法の異なる多種類のＰＣ製品に対応させる。 - 特許庁

To provide a measuring method and device for easily performing exact measurement of an extremely fine line width and quantification about a profile of an etching structure on a pattern wafer.例文帳に追加

極微線幅の正確な測定やパターンウェハ上のエッチング構造のプロファイルに関する定量化が容易に行える測定方法と装置を提供する。 - 特許庁

In this case, regarding the patch patterns extending in a sub scanning direction, the images are formed while changing the pulse widths being the line width correction values to 4, 8 12 and 16 levels.例文帳に追加

このとき、副走査方向に延びるパッチパターンには、線幅の補正値となる前記パルス幅を４、８、１２、１６と振って画像形成が行われる。 - 特許庁

To provide a mage management printing method capable of realizing accurate page management control even when font size or line feed width in printing data is variable.例文帳に追加

印字データ中のフォントサイズや改行幅が可変である場合においても、正確なページ管理制御を実現できるページ管理印刷方法を提供する。 - 特許庁

An estimate brightness distribution X corresponding to the correction reference line in the case of no blurring in imaging is estimated on the basis of a prescribed width value W.例文帳に追加

また、所定の幅値Ｗに基づいて撮像時にぶれが生じない場合の補正基準線Ｌ上に対応する推定輝度分布Ｘが推定される。 - 特許庁

To increase the number of semiconductor devices that can be arranged in one reticle region by eliminating a restriction due to a scribe line width.例文帳に追加

本発明は、スクライブライン幅による制約を取り除いて一つのレチクル領域内に配置できる半導体素子の数を増大することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which satisfies easily both of a cross-section shape having a height (h) to a width (w) (h/w value is high) and a levelness of a joint line.例文帳に追加

幅（ｗ）に対して高さ（ｈ）がある（ｈ／ｗ値が高い）断面形状と継ぎ目の水平度を容易に両立させる製造方法を提供する。 - 特許庁

To minify the restriction to a layout and equalize the behavior of a suspension member at both sides of the vehicular width direction holding the center line of a vehicular front/rear direction.例文帳に追加

レイアウトへの制約を小さくし、サスペンションメンバの挙動を車両前後方向中心線を挟んだ車両幅方向両側で同じにする。 - 特許庁

The conductive patterns 3 are like mesh of ≤50 μm in line width and ≥75% in aperture ratio and is formed by gaseous phase plating or liquid phase plating.例文帳に追加

導電性パターン３は線幅５０μｍ以下で開口率７５％以上のメッシュ状であり、気相メッキ又は液相メッキにより形成される。 - 特許庁

A reference side rotary body 21 capable of abutting to the work W is arranged on the tip of the reference vice 19 so as to be positioned on a work width reference line.例文帳に追加

基準バイス１９の先端にはワークＷに当接可能な基準側回転体２１がワーク幅基準ライン上に位置するように設けられている。 - 特許庁

To provide a photomask capable of precisely working a light-shielding pattern and suppressing the variation of resist line width due to flare, and to provide a manufacturing method for the photomask.例文帳に追加

遮光パターンを高精度で加工できると共にフレア起因によるレジスト線幅変化を抑制できるフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the form of the water discharge port is like slit and is arranged on a line at least in one direction among the direction of ship width and the direction of ship side.例文帳に追加

更に、その排水口の形態をスリット状であって、船幅方向及び船側方向の内少なくとも一方向に線上に配設する。 - 特許庁

The width of the silicide film 22 in the extending direction of the gate electrode 19 is formed so as to be gradually increased in accordance with a distance from the gate bus line 23.例文帳に追加

ゲート電極１９のシリサイド膜２２の延伸方向の幅は、ゲートバスライン２３からの距離が大きいほど次第に大きくなるように形成されている。 - 特許庁

One end of the narrow width thin groove 52 reaches a tread end 12E, and the other end is connected to the other end of the wide thin groove 50 in the first shoulder land section line 32.例文帳に追加

狭幅細溝５２は、一端がトレッド端１２Ｅに至り、他端が第１ショルダー陸部列３２内で広幅細溝５０の他端と連結されている。 - 特許庁

Average luminance in the line width direction is then calculated from the measurements and the luminance ratio of the three colors RGB is measured for each dot from the average luminance thus calculated.例文帳に追加

この測定結果からライン幅方向の輝度の平均値を算出し、算出した輝度の平均値から１ドット毎のＲＧＢの輝度比を算出する。 - 特許庁

To facilitate correction of correction parameters, corresponding to the measurement data of each measurement item, such as resist thickness and development line width, in a resist pattern formation device.例文帳に追加

レジストパターン形成装置において、レジスト膜厚や現像線幅等の各測定項目の測定データに対応する補正パラメータの補正作業を容易にすること。 - 特許庁

Further, the quartz luminous tube has neck parts having a width different from that of the bonding parts and preferably includes a straight line part between the bonding parts and the neck parts.例文帳に追加

また、石英発光管は、接合部と異なる幅を有するネック部を有し、接合部とネック部との間に直線部分を含んでいるものとしてもよい。 - 特許庁

A slit 15 extending in the width direction is provided at end part of each gate electrode 6 leaving a connection part 10 with the scanning line 1.例文帳に追加

上記各ゲート電極６は、その基端部に上記走査線１との接続部１０を残して幅方向に延びるスリット１５が設けられている。 - 特許庁

An after redistribution pixel value calculation circuit 45 obtains a distributed value B1(e) of a remaining line width distributed to a target pixel (a) at a ratio of converted pixel values B(e), B(f).例文帳に追加

再配分後画素値計算回路４５が変換画素値Ｂ（ｅ），Ｂ（ｆ）の比で注目画素ｅに分配される残り線幅の分配値Ｂ１（ｅ）を求める。 - 特許庁

The metal mark section 202 having a plurality of line marks can be formed between the scanning width of electron beam on the substrate surface 204.例文帳に追加

本発明によると、電子ビームの走査幅の間に、基材２０４上に複数のラインマークを有する金属マーク部２０２を設けることが可能となる。 - 特許庁