「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, a variation width in the signal level of a video signal received in the second terminal unit TU2 via the second transmission line Ls2 can be reduced.例文帳に追加

従って、第２端末装置ＴＵ２において第２の伝送路Ｌｓ２を介して受信する映像信号の信号レベルの変動幅を低減することができる。 - 特許庁

The method also comprises the steps of replacing the segments of the detected positions with a line width arbitrarily set based on the density information of the pixel, and forming layout information (S16).例文帳に追加

検出された位置の線分を画素の濃淡情報に基づき任意に設定された線幅に置換してレイアウト情報を作成する（Ｓ１６）。 - 特許庁

A plurality of melting plasma torches 20 are arranged in a line along the direction A of the width of the cast billet H in the rear stage than the preheating plasma torches 10.例文帳に追加

その予熱用プラズマトーチ１０の後段に、鋳片Ｈの幅方向Ａに沿って１列に並べられた複数の溶融用プラズマトーチ２０を配置する。 - 特許庁

The conductive material further contains a fibrous carbon material whose half-value width of X-rays (004) diffraction line at 2θ is not less than 1.25 degrees and not more than 3.00 degrees.例文帳に追加

また、導電材は、例えば、Ｘ線（００４）回折線の半値幅が２θで１．２５度以上３．００度以下の繊維状炭素材をさらに含む。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of improving faithful reproducibility of a copied image, a printed image and line width of image data, and to provide a control method.例文帳に追加

コピー画像、プリント画像、画像データの線幅の忠実再現性を向上させることを可能とした画像形成装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

A tag output part of a controller generates a tag according to the line width or the like from the PDL data received from the outside, and outputs it to the resolution conversion part.例文帳に追加

コントローラのタグ出力部は、外部から受け取ったＰＤＬデータから線幅等に応じたタグを生成して解像度変換部へ出力する。 - 特許庁

The sheet 10 dedicated to asbestos isolation is characterized by having a longitudinally extending line 12 marked thereon, for identifying a width of about 300 to 450 mm.例文帳に追加

本発明の石綿隔離専用シート１０は、約300mm〜450mmの幅を識別するための長手方向に伸びるライン１２が付されていることを特徴とする。 - 特許庁

A point of change P4 (position of cumulative width value 180+1=181) in the tone of a dirt e1 belongs to the dirt e1 on a scanning line L2, that is, to the dark pattern.例文帳に追加

汚れｅ１の明暗の変化点Ｐ４（累積幅値１８０＋１＝１８１の位置）は、走査線Ｌ２上では汚れｅ１、つまり暗パターンに属する。 - 特許庁

To simply cope with fluctuation in the different width between an overhead-line voltage and an energy storage voltage by one of step-up voltage control or step-down voltage.例文帳に追加

架線電圧および蓄電電圧の異なった幅での変動に対し、昇圧制御、降圧制御の一方によって簡易に対応できるようにする。 - 特許庁

To provide a side trimming control method whereby change in the width of a strip (steel plate) can be made by cutting with a side trimmer continuously without stopping a processing line.例文帳に追加

ストリップ（鋼板）の幅変更をサイドトリマーによる切断を処理ラインを停止させることなしに連続的行える制御方法を実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a superior pattern causing no crack even when the line width of the remaining pattern in a butting part is ≤130 nm, and also to provide a mask.例文帳に追加

突合せ部の残しパターンの線幅が１３０ｎｍ以下になっても亀裂を生じることのない優れたパターン形成方法およびマスクを提供する。 - 特許庁

The position of the process head 12 relative to the process area 10a is corrected by moving the process head 12 in the width direction based on the positioning line 31.例文帳に追加

この位置決めライン３１を基準にして、加工ヘッド１２を幅方向に移動することにより、加工エリア１０ａとの相対位置が補正される。 - 特許庁

When two signal charges among three light receiving pixels arranged in the direction of a line are summed/synthesized, the width ws is specified within an range of wi<ws<2wi+d.例文帳に追加

列方向に並ぶ３つの受光画素のうち２つの信号電荷を加算合成する場合には、ｗi＜ｗs＜２ｗi＋ｄの範囲内にてｗsを定める。 - 特許庁

In addition, no laser radiation is performed prior to dicing to the scribe line of a predetermined or less width on which a metal-containing accessory pattern is provided.例文帳に追加

また、金属を含むアクセサリパターンを配置したスクライブラインであって、所定の幅以下のスクライブラインには、ダイシングに先立つレーザ照射を行わないようにした。 - 特許庁

Since 4 sub matrices are used to sequentially add dots to the lines with the 2-dot width at the medium density or higher, the line image is made thick uniformly, as the density is increased.例文帳に追加

中濃度部以降は、２ドット幅ラインに対して４つのサブマトリクスで順番にドットを添えるので、濃度増加に伴って均一にライン画像が太る。 - 特許庁

The bridge part B is in contact with a visible line of the metal board in an oblique direction θ, and the width d of the bridge part B is selected to obtain a proper elastic force.例文帳に追加

ブリッジ部Ｂは、金属基板の外形線に斜め方向θから接するものとし、ブリッジ部Ｂの幅ｄは適度な弾性力を生じる幅とする。 - 特許庁

When the line width is wide, an expansion process is executed; when it is narrow, a restoration process comprising a narrowing process, an end-point extraction process and an end-point connection process is executed.例文帳に追加

太線である場合は膨張処理、細線である場合は、細線化処理、端点抽出処理、端点接続処理による修復処理を実行する。 - 特許庁

Character processing for thickening the line widths of the characters obtained in the 1st step is carried out on the basis of the width of a light emitting element as a minimum unit in a 1st direction.例文帳に追加

第１の方向について発光素子の幅を最小単位として、第１のステップで取得した文字の線幅を太くする文字処理を行う。 - 特許庁

Each end of the light marker is conformed to the width of the X-ray detector line of the multi-slice X-ray detector to show the X-ray exposing range.例文帳に追加

この光マーカの各端は、マルチスライス用のＸ線検出器のＸ線検出器列の幅に対応しており、Ｘ線曝射範囲を示すようになっている。 - 特許庁

On a connection side face 47, female contact parts 45 of the same contact module 42 are aligned in one line in the width direction (Y direction) of the daughter board side connector 40.例文帳に追加

接続側面４７では、同じコンタクトモジュール４２のメスコンタクト部４５がドータボード側コネクタ４０の幅方向（Ｙ方向）に一列に整列している。 - 特許庁

To provide a positive resist composition in which the change rate in line width due to the change in the film thickness of a resist on a highly reflective substrate having a rough surface is significantly suppressed.例文帳に追加

凹凸のある高反射基板上でのレジスト膜厚変動による線幅変動率が顕著に抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a selective method of an exposure threshold whereto the correspondent line-width variation of a formed pattern is made small even when the blooming quantity of the formed pattern is varied during its exposure operation.例文帳に追加

露光動作中にボケの量が変動したとしても形成されるパターンの線幅変動の少ない閾値の選定方法を提供する。 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

The ruled line 52 retains directivity in the length direction and, at the same time, is broadened in width and accordingly, the corrugated cardboard 51 can be folded without being affected by step parts 53.例文帳に追加

罫線５２が長さ方向に方向性を保持しつつ、幅広くなるので、段目５３の影響を受けることなく、段ボール５１を折り曲げることができる。 - 特許庁

The base plate 58 of the lighting device 17 is formed so as to have a width capable of inserting into inside the base 12, and arranged vertically along a direction of a center line of the base.例文帳に追加

点灯装置17の基板58は、口金12の内側に挿入可能とする幅寸法に形成し、口金12の中心線の方向に沿って縦形に配置する。 - 特許庁

The divided glued laminated wood is manufactured by equally dividing the glued laminated wood 10 into two (an alternate long and short dash line A in a figure) in the width direction of the striplike lumber 11.例文帳に追加

集成材１０を、帯板状木材１１の幅方向において等分に二分割（図中の一点鎖線Ａ）して、分割集成材を製造する。 - 特許庁

To automatically operate the corresponding points of markers (vehicle width, distance line or the like) among different deformed images with small-scaled circuit structure inexpensively, in an on-vehicle camera device.例文帳に追加

車載カメラ装置において、小規模な回路構成、低コストで、異なる変形画像間のマーカー（車幅線、距離線など）の対応点を自動的に演算する。 - 特許庁

The signal line 21 is formed into an island, and the semiconductor layer 24 and the upper insulating layer 25 have each a width nearly equal to that of the strip conductor 26.例文帳に追加

この信号線路２１はアイランド化されており、半導体層２４及び上絶縁層２５は、ストリップ導体２６とほぼ等しい幅を有している。 - 特許庁

To provide an image processing method and an image processing apparatus capable of precisely forming an arbitrary line width and securing repetitive durability.例文帳に追加

任意の線幅を精度良く画像形成することができ、かつ繰返し耐久性を確保することができる画像処理方法及び画像処理装置の提供。 - 特許庁

To fully control the final line width of a wafer in an application development treatment apparatus which has various treatment units by a plurality of units.例文帳に追加

多種類の処理ユニットを複数台ずつ有する塗布現像処理装置において、最終的なウェハの線幅を十分に制御できるようにする。 - 特許庁

To set the line width of a beat signal to be a few tens of kHz or less which is stable and to make it possible to set the frequency thereof as desired, in a single laser light source.例文帳に追加

１つのレーザ光源で、ビート信号の線幅を、時間的に変動しない数十ｋＨｚ以下とし、かつ、周波数を任意に設定可能とする。 - 特許庁

Also, in facsimile transmission, the continuity, position and line width or the image data are obtained, the abnormal pixels are detected and the images without the stripes are transmitted.例文帳に追加

また、ファクシミリの送信においては、画像データの連続性、位置、及び線幅を検知し、異常画素として検出し、スジのない画像を送信する。 - 特許庁

A land part line 5 formed of tapered land parts 4, of which width is formed to be gradually reduced as it comes close to the central part of the tread 1, is formed in the tread 1.例文帳に追加

トレッド踏面１の中央部側に向けて幅を次第に減少する先細り陸部４からなる陸部列５をトレッド踏面１に形成する。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing a film exfoliation and obtaining an excellent pattern shape even when a small line width is adopted for a pattern of a black matrix.例文帳に追加

ブラックマトリックスのパターンの線幅を小さくする場合であっても、膜剥れを防止すると共に、良好なパターン形状を得る技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of driving an electrophoretic display device, adjusting the line width in a display device simplex to improve representation ability.例文帳に追加

表示装置単体での線幅調整を可能とし、表現力を向上させることができる電気泳動表示装置の駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can improve the uniformity of line width by reducing an impact to a substrate when a developer is supplied.例文帳に追加

現像液供給の際の基板に対するインパクトを軽減し線幅の均一性を向上させることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In 1953, when construction of expanding the railroad width of Kokutetsu (Japanese Railway) Nara Line was under way, this pit-type stone room was accidentally discovered, and it revealed 32 Sankakubuchi Shinjukyo Mirrors, the largest number at that time. 例文帳に追加

1953年（昭和28）、国鉄奈良線の拡幅工事の際に竪穴式石室が偶然発見され、当時最多の三角縁神獣鏡32面が出土した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

EXPOSURE METHOD FOR CORRECTING LINE WIDTH VARIATION OCCURRING DURING DEVELOPMENT PROCESS IN FABRICATION OF PHOTOMASK, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

フォトマスク製造時に現像段階で生じる線幅変化を補正して露光する方法及びそのためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

Deposition of high aspect ratio feature having no void or no joint line is attained by optimizing electric pulse amplitude and time width in a pulse plating waveform.例文帳に追加

高アスペクト比フィーチャのボイドの無い、又継ぎ目のない堆積は、電気パルス振幅、及びパルスめっき波形内の時間幅を最適化することによって達成される。 - 特許庁

The power of attack by the position and the power of this temperature are offset with each other, and a wafer having a photoresist equal in line width can be obtained.例文帳に追加

前述の位置によるアタックの強弱とこの温度の強弱が相互に相殺されて、均一な線幅のフォトレジストを有するウェハが得られる。 - 特許庁

In that case, the width W of each of line polygons is increased toward the inside of the tennis court 10 so that the size of the tennis court 10 itself can not be changed.例文帳に追加

その際には、テニスコート１０自体の大きさを変化させないよう、各々のラインポリゴンの幅Ｗの増加を、テニスコート１０の内側に向かって行う。 - 特許庁

The shoulder part 14 is a cut line formed along the right and left width directions of the shoulders of a wearer and positioned at front side of the body of a wearer.例文帳に追加

肩開口部１４は、着用者の肩の左右の幅方向に沿って形成された切断線であり、着用者の身体前側に位置する。 - 特許庁

A plurality of line electrodes 6 are provided side by side at intervals on at least one substrate 2 of a pair of the substrates 2 in the width direction of the substrate 2.例文帳に追加

ライン電極６は、一対の基板２のうち少なくとも一方に基板２の板幅方向に間隔をあけて並べて複数本設けられている。 - 特許庁

Moreover, the coherence length Lc is calculated by a formula Lc=λ_p^2/Δλ (where λ_p is the peak wavelength of an emission spectrum, and Δλ is a spectra line half width).例文帳に追加

なお、可干渉距離ＬｃはＬｃ＝λ_ｐ^２／Δλ（但し、λ_ｐは発光スペクトルのピーク波長、Δλはスペクトル半値幅）の式で算出される。 - 特許庁

The shield pattern 170 covers the microphone signal line 140 and the microphone 150 with a minimum width to minimize an electric length in a high-frequency band.例文帳に追加

シールドパターン１７０は、高周波帯域における電気長を最小限にするように、マイク信号線１４０とマイク１５０を最小限の幅で覆う。 - 特許庁