「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

Fold the above the strap [c] to a width of about five centimeters so that it becomes a horizontal line '一', align its center with the knot, wind the strap [b] around [a] several times and finally make adjustments so that a vertical line ' ' comes out from under [a]. 例文帳に追加

上記(c)の紐を5cm程度の幅に折りたたんで横の「一」とし、その中央部を結び目にあわせて(b)の紐で何度も(a)に巻きつけ、最後に縦の「｜」が(a)の下から出るように按配する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

For a wide line with line-width lw, the bounding outlines for filling are given by the two infinitely thin paths consisting of all pointswhose perpendicular distance from the path of the circle/ellipse is equal to lw/2 (which may be a fractional value).例文帳に追加

幅 lw を持つ線の場合、塗りつぶしの輪郭線は、円/楕円の軌跡からの距離が lw/2(これは小数になり得る) に等しい点からなる2つの無限に細い軌跡によって与えられる。 - XFree86

A ratio of a height Ha from a base line BL of an outer end 52 in radial direction of the bead 12 to a height Hb from the base line of a maximum width position P_100 is 80% or more and 110% or less.例文帳に追加

ビード１２の半径方向外側端５２のベースラインＢＬからの高さＨａの、最大幅位置Ｐ_１００のベースラインからの高さＨｂに対する比率は、８０％以上１１０％以下である。 - 特許庁

This electrooptical device includes the data line 19 and light shield film 28 on different planes, so the width of the light shield film 28 can be made wide up to a region overlapping with the data line 19 in a plane.例文帳に追加

この電気光学装置では、データ線１９と遮光膜２８とを異なる平面上に設けたので、遮光膜２８の幅をデータ線１９と平面的に重なる領域まで広くできる。 - 特許庁

To provide a quality evaluation apparatus of a metal strip capable of precisely detecting flatness, longitudinal warp, width warp of the metal strip in-line without cutting off a sample on a straightening line.例文帳に追加

矯正ライン上でサンプルの切り出しを行うことなく、インラインで金属帯板の平坦度、長手反りおよび幅反りを正確に検出することができる金属帯板の品質検出装置を提供する。 - 特許庁

As for the grinding/polishing/cleaning method for the crossed floor surface, grinding/polishing/cleaning film thickness or residual film thickness for coating film of a line width on a two-plane crossed line is evaluated by using the self-traveling type crossed floor surface grinding/polishing/cleaning device.例文帳に追加

また、交差床面の研掃方法については、自走式交差床面研掃装置を用いて２面交差線上の線幅の塗膜に対する研掃膜厚又は残留膜厚を評価する。 - 特許庁

To provide an ultrathin copper foil with a carrier which has a small surface roughness, can be etched to an ultrafine width with a line/space of 15 μm or less, and has a high adhesive strength between an ultrafine line and a wiring substrate.例文帳に追加

表面粗さが小さく、ライン／スペースが１５μｍ以下と極細幅までエッチングが可能であり、該微細ラインと配線基板とが高い密着強度を持つキャリア付き極薄銅箔を提供する。 - 特許庁

Each width in the electrode group 142 and each space (wiring space) between the electrode groups 142 are set wider than each width in the electrode group 141 and a wiring space between the electrode groups 142, so that they meet the respective line widths of high-speed signal line group 132 and wiring space between the high-speed signal line groups 132.例文帳に追加

電極群１４２の各々の幅および電極群１４２間の間隔（配線間隔）は、高速信号線群１３２の各々の線幅および高速信号線群１３２間の間隔（配線間隔）にそれぞれ整合するように、電極群１４１の各々の幅および電極群１４２間の間隔よりも広く設定されている。 - 特許庁

Width D1 of the capacitor conductor 18a in an area A2 sandwiched between a short side L2 and a straight line L12 which is formed by connecting a point P3 and a point P4 is larger than width D2 of the capacitor conductor 18a in an area A3 sandwiched between the straight line L12 and a straight line L11 which is formed by connecting a point P1 and a point P2.例文帳に追加

点Ｐ３，Ｐ４を接続して得られる直線Ｌ１２と短辺Ｌ２とに挟まれている領域Ａ２内におけるコンデンサ導体１８ａの幅Ｄ１は、点Ｐ１，Ｐ２を接続して得られる直線Ｌ１１と直線Ｌ１２とに挟まれている領域Ａ３内におけるコンデンサ導体１８ａの幅Ｄ２よりも大きい。 - 特許庁

When the polarity of the data signal impressed for every four pixel lines changes, for example, the charging rate of the line is improved by widening the width of gate-on pulses (α+3γ-OEH) impressed on the gate line of first line in which the polarity reverses more than usual, maintaining the width of the data signal impressed on four pixel lines at a fixed value of 4α.例文帳に追加

例えば、４個の画素行ごとに印加されるデータ信号の極性が変化するとした場合、４個の画素行に印加されるデータ信号の幅を４αの一定値に維持したまま、極性が反転された最初の行のゲート線に印加されるゲートオンパルスの幅（α+３γ−ＯＥ_H）を通常より広くすることによって、その行の充電率を高める。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

A transistor (see figure (a)) configuring a pulse delay circuit is compared with a transistor (see (b)) configuring a latch & encoder 12, and transistor length (pattern width of gate Gp, Gn) L is designed so as to be doubled (that is, the minimum line width of a design rule is doubled), and the transistor width is designed so as to be doubled.例文帳に追加

パルス遅延回路を構成するトランジスタ（図２（ａ）参照）は、ラッチ＆エンコーダ１２を構成するトランジスタ（図２（ｂ）参照）と比較して、トランジスタ長（ゲートＧｐ，Ｇｎのパターン幅）Ｌを２倍（設計ルールの最小線幅の２倍）、トランジスタ幅も約２倍に設計する。 - 特許庁

Preferably, the angle α made by a line connecting both end points of the narrow width groove relative to the tire rotational direction is 30-70°, and the narrow width groove has an opening width of 3-8% of the pitch of the spacing between the lug grooves, and moreover, the lug groove has a depth of 5-15% of height of cross section of the tire.例文帳に追加

また、前記狭幅溝の両端点を結ぶラインのタイヤ回転方向に対してなす角度αが３０〜７０°であること、前記ラグ溝の間隔のピッチの３〜８％の開口幅を有すること、前記ラグ溝はタイヤ断面高さの５〜１５％の深さを有することが好ましい。 - 特許庁

A width of a groove 12 is gradually expanded to both sides in the groove width direction from an intermediate portion in the groove direction (extending direction of groove 12) toward both ends, and a width of a position where a shaft center line of the pin 4 and an outer peripheral face 9a of the sleeve 9 intersect with each other, is wider than that of the intermediate portion.例文帳に追加

溝１２は、溝方向（溝１２の延びる方向）の中間部から両端に向かうにつれて、溝幅が溝幅方向の両側に徐々に拡大し、ピン４の軸心線とスリーブ９の外周面９ａとが交わる位置では、中間部に比べて幅が広い。 - 特許庁

A part of a light emitting area, where the phosphor line emits light by the radiation of electron beam, has a wider width part 20 having wider width against the standard width Wb of the light emitting area at the part near to a shadow 19 formed by the projection of the bridge which intercepts electron beam.例文帳に追加

電子ビームによってブリッジ１５が投影されることにより形成される影１９の近傍に、電子ビームの照射によって蛍光体ラインが発光する発光領域が発光領域の基本幅Ｗｂに対して幅の広い幅広部２０を部分的に有している。 - 特許庁

In the tire block 1 surrounded by grooves in the circumferential direction and grooves in the width direction, a circumferentially-closed siping 21 is disposed close to the center line CL in the width direction, and sipings (31, etc.), in the width direction are closed in the vicinity thereof without communicating with the closed sipings 21 in the circumferential direction.例文帳に追加

周方向溝と幅方向溝とに囲まれたタイヤのブロック１において、周方向クローズドサイプ２１を幅方向中心線ＣＬ付近に配置し、幅方向サイプ（３１など）が前記周方向クローズドサイプ２１と連通することなく、その近傍で閉塞するように配置した。 - 特許庁

A width of the straight line shaped ridge structure 64A is less than a waveguide mode basic mode width of the core in the case of having no heat insulating groove formed, and a width of a region formed with the first edge of the ridge structure 64B with a tapered shape gradually increases as going closer to the end of the first edge.例文帳に追加

直線形状のリッジ構造６４Ａの幅は、断熱溝が形成されない場合のコアの導波モード基本モード幅よりも小さく、テーパー形状のリッジ構造６４Ｂの第１の縁によって形成された領域は、第１の縁の端に近づくにつれて幅が徐々に大きくなる。 - 特許庁

To completely erase signal data written on the basis a center line of each track on the disk, especially old data recorded close to both sides of recording track width, and record the recording track width of the signal data in at a correct position with respect to track center lines with a predetermined recording track width.例文帳に追加

ディスクの各トラックの中央線を基準に書込を行った信号データの、特に記録トラック幅の両端付近に記録されている旧データを十分に消去し、かつ、信号データの記録トラック幅をトラックの中央線に対して正確な位置に所定記録トラック幅で記録する。 - 特許庁

To form a pattern on a body under the state suppressing the dispersion of the line width (such as the dispersion of a hole diameter in the case of a contact-hole pattern) of the pattern.例文帳に追加

パターンの線幅ばらつき（コンタクトホールパターンの場合のホール径のばらつきなど）が抑制された状態で、パターンを物体上に形成する。 - 特許庁

To provide a negative type chemical amplification resist composition for an electron beam or X-rays having high resolving power and excellent in uniformity in line width in the surface of a wafer.例文帳に追加

高解像力で、ウエーハー面内線幅均一性に優れたネガ型電子線又はＸ線用化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cushion sheet skin capable of forming intended width of line-shaped and different-colored patterns on its surface; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

表面に所望幅のライン状の異色模様を形成することができるクッションシート用表皮及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The wiring 30 includes both ends 36 in a width direction intersecting an axial line extending in a spiral shape, and an intermediate part 38 between the both ends 36.例文帳に追加

配線３０は、スパイラル状に延びる軸線に交差する幅方向の両端部３６と、両端部３６間の中間部３８と、を有する。 - 特許庁

To solve the problem of insufficiency of writing time of a video signal to a source line due to shortening of the pulse width of a sampling pulse with a high-frequency clock signal.例文帳に追加

クロック信号の周波数を高くすると、サンプリングパルスのパルス幅が短くなりソース線へビデオ信号を書き込む時間が不足する。 - 特許庁

The line width of the pattern of the absorbing film 4 adjacent to a pattern defect correcting portion is made narrow, thereby improving the reflection rate.例文帳に追加

パターン欠陥修正部に隣接する吸収膜４のパターンの線幅を狭くすることにより、反射率を向上させることができる。 - 特許庁

To carry out the evaluation of the defect inspection or the like of a test piece having a pattern of a minimum line width of 0.2 μ or less by using a multiple beam at high throughput.例文帳に追加

最小線幅０．２ミクロン以下のパターンを有する試料の欠陥検査等の評価を、マルチビームを用いて高スループットで行なう。 - 特許庁

The patterning method comprised of such steps has a benefit that the pattern line width can be adjusted by adjusting the surface energy of the substrate.例文帳に追加

このように構成された本発明は、基板の表面エネルギーを調整してパターンの線幅を調整することができるという利点がある。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device and a manufacturing method, where bit lines which are narrower in line width and in gap than the wavelength of light for exposure can be realized without sacrificing the semiconductor memory device in productivity.例文帳に追加

露光の波長より狭い幅，間隔のビット線が生産性を犠牲にしないで実現する製法および構造を提供する。 - 特許庁

If the line width of the element 12 is set as (w), the shielding and enhancing functions are secured when w≤4.λ.e-4.5 and w>4.λ.e-4.5 are satisfied respectively.例文帳に追加

アンテナエレメント１２の線幅をｗとすると、ｗ≦４・λ・ｅ^-4.5のときシールド機能を、ｗ＞４・λ・ｅ^-4.5のとき、エンハンス機能が得られる。 - 特許庁

The opening is set so that the width in a line direction decreases as it is separated from the reference position Ps along the column direction.例文帳に追加

開口部は、列方向に沿って基準位置Ｐｓから離間するにしたがって行方向の幅寸法が小さくなるように設定されている。 - 特許庁

In both laterally end regions of the folding parts 24, both sides of at least one folding line are joined to each other, and a width of central regions 242 of the folding parts 24 is in a range of 30 to 80 cm.例文帳に追加

折り畳み部２４の両端部は固定され、折り畳み中央部２４２の幅は３０ｃｍ以上８０ｃｍ以下である。 - 特許庁

To improve line efficiency by reducing the width of a periodically-provided discovery window for inhibiting communication between registered ONU and OLT.例文帳に追加

周期的に設けられる、登録済みのＯＮＵとＯＬＴとの間の通信を禁止するディスカバリウィンドウの幅を狭くし、回線効率を高める。 - 特許庁

To facilitate work for sticking a pressure sensitive adhesive tape to a prescribed width directional position of a sticking surface having an adjacent surface continuing via a bending line.例文帳に追加

折り曲げ線を介して連なる隣接面を有する貼着面の所定の幅方向位置に粘着テープを貼着する作業を容易にする。 - 特許庁

To provide a display device, capable of displaying display data by contracting a display width to 1/(n+1) without having to perform the expansion and contraction of a display at the boundary line of scanning blocks.例文帳に追加

スキャンブロックの境目での表示の伸縮なく表示幅を１／（ｎ＋１）に縮めて表示可能な表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a molecular fluorine (F2) laser, which effectively selects one of emission lines which emit light rays of a wavelength of 157 nm or so and an F2 laser, which is equipped with a means that makes a selected emission line narrow in band width.例文帳に追加

１５７ｎｍ（波長）の近傍の複数のエミッションラインの１つを効率的に選択する分子フッ素（Ｆ_2 ）レーザを提供する。 - 特許庁

Eventually, the clubface faces upward from the ground surface before the impact and the weight of the top line width envelopes the ball, as a result of which the purpose is achieved after the impact.例文帳に追加

結果として、インパクト前はフェースが地面より上を向くき、インパクト後はトップライン巾のウエイトがボールを包むようになることで達成した。 - 特許庁

The line L1 crosses the lid sheet 32 at a position corresponding to a portion where a width of a cylinder formed by a side wall 12 begins to narrow.例文帳に追加

切断予定線Ｌ１は、側壁１２が形成する筒体の幅が狭くなり始めた箇所に相当する位置で蓋シート３２を横断する。 - 特許庁

The area B contains a point in which a length direction distance from a tip is Lb and a width direction distance from a center line CL is Wb.例文帳に追加

Ｂ領域は、先端からの長さ方向距離がＬｂであり、中心線ＣＬからの幅方向距離がＷｂである地点を含んでいる。 - 特許庁

Instead of the use of the pattern A, an etching mask film is first formed and an auxiliary pattern composed of a pattern L and having a relatively large line width is transferred to the mask film.例文帳に追加

その代わりに、まず、エッチングマスク膜を形成し、そして、パターンＬからなる線幅の比較的大きい補助パターンをその膜に転写する。 - 特許庁

The recorder is equipped with a shift mechanism capable of shifting the relative position of a fed sheet in the sheet-width direction against the line recording head.例文帳に追加

ライン型の記録ヘッドに対して給送されるシートのシート幅方向における相対位置をシフトさせることが可能なシフト機構を備える。 - 特許庁

To exactly obtain a distribution of a line width difference between a pattern which is constituted on a mask and a design pattern, or a distribution of positional errors of these patterns.例文帳に追加

マスク上に形成されたパターンと設計パターンとの線幅の差の分布、または、これらのパターンの位置ずれ量の分布を正確に求める。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit that can secure a sufficient margin against a defect at a part where a wiring line changes in width and pitch.例文帳に追加

配線の幅とピッチが変化する部分の欠陥に対するマージンを十分に確保することが可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

The conductive layer has a pattern pitch not longer than a quarter of a wavelength being transmitted or received and not shorter than ten times of the line width.例文帳に追加

また、前記導電層のパターンピッチが、送信または受信する波長の１／４以下かつ線幅の１０倍以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a reverse tapered resist pattern having excellent chemical stability, line width controllability, and easiness for process control and handling.例文帳に追加

化学的安定性、線幅制御性、工程管理と取扱いの容易性の点で優れた逆テーパ形レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spectrum line width measuring apparatus wherein an optical fiber giving delay is short while high resolution is obtained, and the number of components is small.例文帳に追加

高い分解能を有しながら、遅延を与える光ファイバの長さが短く、部品点数の少ないスペクトル線幅測定装置を提供する。 - 特許庁

The supply port and a positioning part for the contact are arranged with an ink tank width direction center line 61 on a bottom face of the ink tank 10a inbetween.例文帳に追加

供給口および接点用位置決め部は、インクタンク１０ａ底面上の、インクタンク幅方向中心線６１を挟んで配置される。 - 特許庁