「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a mask blank and a mask, wherein the linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (real dimensional difference) between a design dimension of a line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of a line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Ｌｉｎｅａｒｉｔｙを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then the line sensor is moved upstream as shown by the arrow Y to be put back to a read reference position (step 116), and then moved as shown by an arrow X by a specified width corresponding to a read width of the line sensor to be moved to a next read reference position (step 118).例文帳に追加

続いて、ラインセンサを矢印Ｙ方向の上流側へ移動し読取基準位置に戻し（ステップ１１６）、ラインセンサの読み取り幅に対応する所定幅分ラインセンサを矢印Ｘ方向に移動し、次の読取基準位置に移動する（ステップ１１８）。 - 特許庁

To provide a conductivity paste for intaglio offset printing which can print well without producing poor transfer and disconnection accompanied therewith nor reduced reproducibility of printing shape and line width even when printing fine conductive pattern with the line width of ≤60 μm.例文帳に追加

線幅６０μｍ以下の微細な導電パターンであっても、転写不良とそれに伴う断線、あるいは印刷形状や線幅の再現性の低下等を生じることなく良好に印刷できる凹版オフセット印刷用導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

When the azimuth reference line is superposed on the rear end of the side parking vehicle on the display monitor 56, the vehicle is stopped, and a vehicle width line expanding in the longitudinal direction indicating the vehicle width azimuth position of the side face of the vehicle body is superposed on the display monitor 56.例文帳に追加

表示モニタ５６上で方位基準線が側方停車車両の後端部に重なった場合、車両を停車させ、表示モニタ５６上に車体側面の車幅方向位置を示す車両前後方向に延びる車幅線を重畳表示する。 - 特許庁

An image processing apparatus of the present invention includes: a drawing instruction determination part that determines whether or not a drawing instruction is on a diagram filled with thin lines; and a line width correction part that performs line width correction processing to the drawing instruction determined to be on a diagram filled with thin lines.例文帳に追加

画像処理装置は、描画命令が細線を構成する塗り図形であるかを判定する描画命令判定部と、細線を構成する塗り図形であると判定された描画命令に対して線幅補正処理を行う線幅補正部とを備える。 - 特許庁

The lateral width W of the cable main body part 17 is smaller than the outer diameter or the lateral width D of the supporting line part 13 and the neck part 18 has form in which windows which connect the cable main body 17 and the supporting line part 13 intermittently are formed, the cable main body part 17 has slackening in its longitudinal direction.例文帳に追加

ケーブル本体部１７の横幅Ｗは支持線部１３の外径又は横幅Ｄより小さく、首部１８はケーブル本体部１７と支持線部１３を間欠的に連結する窓明き形状で、ケーブル本体部１７は長手方向に弛みを有する。 - 特許庁

(1) In the paint coating plate, a rugged coating surface having a surface structure which comprises dots of diameter 0.25 to 1.00 mm and sections of line width 0.2 to 0.4 mm or lines of line width 0.2 to 0.4 mm is formed on a substrate.例文帳に追加

（１）基板に、直径が０．２５〜１．００ｍｍの網点、線幅が０．２〜０．４ｍｍの方眼または線幅が０．２〜０．４ｍｍの万線である表面形態を有する凹凸形状の塗工面が形成されて成ることを特徴とする塗着剤塗工版。 - 特許庁

The pattern of the mask is projected on the photosensitive substrate with an exposure light quantity substantially different from a standard exposure light quantity required for forming a pattern of desired line width on the photosensitive substrate using a standard mask having a pattern of line width same as the converted value.例文帳に追加

換算値に等しい線幅のパターンを有する標準マスクを用いて感光性基板上に所望線幅のパターンを形成するのに必要な標準露光光量とは実質的に異なる露光光量で、マスクのパターンを感光性基板上に投影する。 - 特許庁

A monitoring pattern 104-3, which varies more in line width due to the attachment of the contamination 105 than the transferring pattern, is previously formed on a mask provided with a transferring pattern, and a variation in a line width of the monitoring pattern 104-3 due to the contamination 105 is monitored.例文帳に追加

転写用パターンをもつマスクに、転写用パターンよりもコンタミネーション１０５の付着による線幅の変動が大きいモニタ用パターン１０４−３を予め形成しておき、コンタミネーション１０５によるモニタ用パターン１０４−３の線幅の変動をモニタする。 - 特許庁

Each of ends 5, 5 in the width direction is provided with: a horizontal overlap margin line 2 drawn along the longitudinal direction; and a plurality of vertical overlap margin lines 3 drawn along the width direction and juxtaposed in the longitudinal direction.例文帳に追加

また、幅方向の各端部５，５に、長手方向に沿って描画された横重ね代線２と、幅方向に沿って描画され、長手方向に並列した複数の縦重ね代線３とを備える。 - 特許庁

To provide a steel plate width measuring system capable of automatically measuring the width dimension of a cut steel plate accurately and rapidly, even when the number of slits of the steel plate in a slitter line is varied.例文帳に追加

スリッターラインにおける鋼板のスリット本数等を変更しても、切断された鋼板の幅寸法を高精度且つ迅速に自動測定することができる鋼板幅測定システムを提供する。 - 特許庁

In order to make the width W_2 greater than the width W_1 of the trench at the straight line part, a curvature radius of an outer circumference of the coupling part 51 having a curvature is reduced and a curvature radius of an inner circumference is increased.例文帳に追加

幅Ｗ_2 が直線部のトレンチの幅Ｗ_1 より大きくするには、曲率を有する連結部５１の外周の曲率半径を小さくし、内周の曲率半径を大きくする。 - 特許庁

The width 16 at the narrow portion 19 is determined such that the length 18 of the diagonal line at the intersection becomes equal to the width 14 of the insulating film for device isolation 12 at other part than the narrow portion 19.例文帳に追加

そして例えば、交差部分の対角線の長さ１８が、幅狭部分１９以外の素子分離用絶縁膜１２の幅１４と等しくなるように、幅狭部分１９の幅１６を決定する。 - 特許庁

The magazine positioning mechanisms 22 and 23 makes magazines 10 and 11 slide in the width direction of the photographic paper and thereafter, make them correspond to the width of the photographic paper, and position the magazine tables 20 and 21 in such a manner that an optimum double line pitch is attained.例文帳に追加

マガジン位置決め機構２２、２３は、印画紙幅方向でマガジン１０、１１をスライドさせた後に、印画紙幅に対応させて最適な複列ピッチになるようにマガジン台２０、２１を位置決めする。 - 特許庁

Next, a reader/scanner 15 reads each patch as density data (S2 in Fig.5), and the pulse width, that is, the line width correction value by which the densities of the patch patterns at 0° and 90° become equal to each other is obtained (S3 in Fig. 5).例文帳に追加

次いで、リーダスキャナ１５により各パッチを濃度データとして読み込み（図５のＳ２）、０°と９０°のパッチパターンの濃度が同じになるようなパルス幅、つまり線幅の補正値を求める（図５のＳ３）。 - 特許庁

For an amount of toner which forms an unfixed image of a lateral line pattern of a predetermined width on a paper, the toner amount of the transfer direction downstream side lower than the width center is made smaller than the toner amount of the upstream side.例文帳に追加

紙上の所定の幅の横ラインパターンの未定着画像を形成するトナーの量を幅中心よりも搬送方向した流側のトナー量を上流側のトナー量よりも少なくする。 - 特許庁

In a cross section along a line connecting adjacent substrate electrodes 24a, the width L1 of the substrate electrode 24a is narrower than the width L2 of the element electrode 32 corresponding to the substrate electrode 24a.例文帳に追加

隣接する基板電極２４ａを結ぶ線に沿った断面において、基板電極２４ａの幅Ｌ１は、基板電極２４ａに対応する素子電極３２の幅Ｌ２に比べて狭くなっている。 - 特許庁

To enable measurement accuracy reliability and on-line self-diagnostics of a width and length measuring instrument that measure the width and the length dimensional shape of a hot steel sheet with a thick plate, for there is no measurement method with high performance available.例文帳に追加

他に高性能測定の方法が無い厚板熱間鋼板の幅寸法形状と長さ寸法形状を測定する幅計と長さ計の測定精度確性、及び、オンライン自己診断を可能とする。 - 特許庁

The opening for the calibration has a greater width, in the direction of the slow operation, than the maximum distance of full-width-at-half-maximum of an imaging spot of a pixel which enables the minimum address of the line of the laser illumination light.例文帳に追加

較正用の開口部は、レーザー照明光のラインの最小のアドレス可能な画素の作像スポッとの半値全幅最大距離よりも大きい幅を遅い操作方向にもっている。 - 特許庁

Data of the first color connection width and second color connection width of each predetermined head temperature range are set to each of temperature/connection width tables 41-1 to 41-16 by the resistance value ranks 1-16 to prevent a printing density from being made irregular by a temperature change of the line thermal head.例文帳に追加

２色感熱用紙の２色目が発色する第２の印字エネルギーを２色感熱用紙に印加してドット印字を行う際には、サーマルヘッドの印字ドットに対応する抵抗発熱体を連続的に通電して第２の印字エネルギーを印加する。 - 特許庁

To provide an arc sensor control method which improves the detection performance in an arc sensor, in tandem oscillation welding, and further can perform accurate weld line copying control, oscillation width control and welding velocity control in accordance with the variation of a bevel width or a front layer bead width.例文帳に追加

タンデム揺動溶接において、アークセンサの検出性能を向上させるとともに、開先幅または前層ビード幅の変動に応じて、精度のよい、溶接線倣い制御、揺動幅の制御、溶接速度制御が可能なアークセンサ制御方法を提供する。 - 特許庁

A hull 11 includes a part with increased water plane area by an expanded width part W, wherein the ship width above a designed load draft line 2 is expanded in a hull width direction over a half of the length L between perpendiculars in before and after a central part 1 of the hull 11.例文帳に追加

船体１１は、中央部７の前後において、垂線間長さＬの約１／２の長さにわたり、計画満載喫水線２よりも上部の船幅が船体幅方向に広がっている拡幅部Ｗによって水線面積が増加した部分を含んでいる。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having small temperature and humidity dependence of letter line width in development and suitable for use in a photomechanical process.例文帳に追加

文字線幅の現像時の温湿度依存性が小さい、写真製版用途に好適な熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

It is understood from an intersection A of both the corresponding lines (1), (2) that the allowable exposure threshold for making small the line-width variations of both the patterns (1), (2) is set to 0.423.例文帳に追加

両方のパターンで線幅変動を小さくするには、 と に対応する線の交点Ａから、閾値を0.423とすればよいことがわかる。 - 特許庁

The width W0 of the refractive index waveguide 50 is made uniform in the extending direction of the projected line 40, 10 μm or more for example.例文帳に追加

屈折率導波路５０の幅Ｗ０は、突条部４０の延在方向において一様であり、例えば１０μｍ以上である。 - 特許庁

The search route 102 is then moved parallel to the direction of an arrow 104 by the length half of the line width of the search route 102.例文帳に追加

次に、探索経路１０２は矢印１０４の方向へ探索経路１０２の線幅の長さの半分の長さを平行移動する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves the profile of a resist pattern and suppresses a variation of line width due to laying in a vacuum chamber.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resist pattern having small LWR (line width roughness) and excellent pattern shape.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and image processing method for suppressing middle missing of a color character, without being restricted by a line width.例文帳に追加

線幅による制限を受けずに、色文字の中抜けを抑制することのできる画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

It is hereby possible in the computer to acquire a character image indicative of a desired line width character from a character image indicative of a handwritten character.例文帳に追加

これにより、コンピュータでは手書きの文字を示す文字画像から所望の線幅の文字を示す文字画像を取得することができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a method for producing a semiconductor device by which variation in line width of a pattern of a layer to be etched is reduced.例文帳に追加

被エッチング層のパターンの線幅ばらつきを低減させるパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Hereby, the line width is measured, while detecting only the pit, by imaging the pattern by using reflection illumination and transmission illumination.例文帳に追加

したがって、反射照明と透過照明を用いて撮像することによりピットのみを検出しながら線幅の測定することができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

During reflow processing, the film thickness and/or the line width of a resist pattern is measured by means of a sensor 59 and the end point of reflow processing is detected.例文帳に追加

リフロー処理の間、センサ５９によりレジストパターンの膜厚および／または線幅を測定し、リフロー処理の終点検出を行う。 - 特許庁

A line sensor 22 is disposed downward apart from the web 11 and apart from the optical axis SPL of the spot light SP in the carrying width direction.例文帳に追加

ウエブ１１から下方に離れ、またスポット光ＳＰの光軸ＳＰＬから搬送幅方向に離してラインセンサ２２を配置してある。 - 特許庁

Positions of the bottoms 31, 32 are detected, based on the edge signal after a disturbance noise component is removed, to measure the line width of the mark.例文帳に追加

外乱ノイズ成分が除去された後のエッジ信号に基づいてボトム３１，３２の位置を検出し、マークの線幅を測定する。 - 特許庁

On the other hand, when the control point is moved in a region B on the opposite side, the route line is displayed with high transparency and large width.例文帳に追加

一方、反対側の領域Ｂに制御点が遷移しているときは透過率が高く線の太さが太い表示態様である。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin for resist compositions capable of giving resist patterns having excellent line width roughness (LWR).例文帳に追加

優れたラインウィドゥスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrical line receiving part 83 is formed V-shaped in cross section, such that its width direction center is located far away from the end of the locking part.例文帳に追加

電線受け部83をその幅方向中央が鎖錠片の先端から最も離れるように断面Ｖ字状に形成する。 - 特許庁

A groove width of the straight line parts 7b is 25% or less of the vertical main groove, and also a groove depth is smaller than the groove depth of the first curvature parts 7a1.例文帳に追加

直線部７ｂの溝幅は、縦主溝の２５％以下、かつ溝深さを第１の湾曲部の溝深さよりも小とする。 - 特許庁

A recessed line 112 extending in the vehicle longitudinal direction is provided at two parts in parallel right and left, viewing in the vehicle width direction, on the roof panel 111.例文帳に追加

ルーフパネル１１１には、車両前後方向に延びる凹ライン１１２が、車幅方向に見て左右に並ぶ二箇所に設けられる。 - 特許庁

The developer images 122 and 124 are the line state developer images whose width in a subscanning direction is from one dot to ten dots, for example.例文帳に追加

また、現像剤像１２２，１２４は、副走査方向幅が例えば１ドットから１０ドットの線状の現像剤像になっている。 - 特許庁

The extending pattern is formed on the substrate or a substrate table and preferably extends 50 times as long as the width of the line.例文帳に追加

延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of giving a pattern in which a change in the line width is low, while maintaining high sensitivity even when a recycled developing solution is used.例文帳に追加

リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition showing good LWR (line width roughness), a pattern profile and extremely superior performance in pattern-falling resistance.例文帳に追加

良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。 - 特許庁