「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The standard plates 39L and 39R have slit holes 42 and 43 of shape whose width on a scanning line L varies according to the deviation of the center line of the mask 37 with respect to the scanning line L of the laser beam 24.例文帳に追加

標準板３９Ｌ，３９Ｒに、レーザ光２４の走査線Ｌに対するマスク３７の中心線のずれに応じて走査線Ｌ上での幅が変化する形状のスリット穴４２，４３を形成する。 - 特許庁

To provide an image processor for extracting image data by making a user instruct one point in image data and for automatically tracking the contour line of the image data by considering the line width of the contour line.例文帳に追加

ユーザが画像データ中の１点を指示することにより画像データを抽出し、輪郭線の線幅を考慮することにより画像データの輪郭線を自動的に追跡する画像処理装置を提供する。 - 特許庁

Input and output IDT electrodes 16 and 17, composed of comb- line electrode couples 12a, 12b, 13a and 13b having two comb-line electrodes of difference line widths over the 1/2 width of a wavelength λ of a SAW, are formed on a piezoelectric substrate 11.例文帳に追加

圧電基板１１上に弾性表面波の波長λの１／２の幅に線幅の異なる二本の櫛電極を有する櫛電極対１２ａ，１２ｂ，１３ａ，１３ｂで構成された入、出力ＩＤＴ電極１６，１７を形成する。 - 特許庁

On the parallel hard mask line and the hard mask spacer layer, a second parallel line pattern (second photoresist film) is formed which intersects with the parallel hard mask line and has a second size width for transcription on the hard mask layer (second etching).例文帳に追加

平行ハードマスクラインおよびハードマスクスペーサ層上に、平行ハードマスクラインと交差し、かつ第２サイズの幅を有する第２平行ラインパターン（第２フォトレジスト膜）を形成し、これをハードマスク層に転写する（第２エッチング）。 - 特許庁

To provide a lightning surge protection circuit more improved in a surge-proof voltage value than that of a conventional technology without changing the line width of a microstrip line having a length of a quarter wavelength interposed between an RF signal line and a surge absorber.例文帳に追加

ＲＦ信号ラインとサージアブソーバの間に介在した１／４波長長さのマイクロストリップ線路の線路幅を変えずに、従来技術より耐サージ電圧値を向上させた雷サージ保護回路を提供する。 - 特許庁

A white line extracting part 121 extracts a white line image included in the photographed image, and a lateral-directional relative position calculating part 124 calculates a width-directional photographing position of the road, based on the white line image.例文帳に追加

また、白線抽出部１２１は、撮影画像に含まれる白線画像を抽出し、横方向相対位置算出部１２４は、この白線画像に基づいて道路の幅方向の撮影位置を算出する。 - 特許庁

To provide a device for deciding vehicle travel road, allowing suppression of a time when a marking line is not detected to a short time by allowing prompt detection of the marking line even in a scene wherein a width of the marking line rapidly changes.例文帳に追加

標示線の幅が急激に変化する場面においても、標示線が速やかに検出されて、標示線が検出されない時間を短く抑えることが可能な車両用走路判定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an overhead transmission line which is capable of reducing construction expense of a transmission line and can compactify the height of a steel tower and the width of the land, by performing the design corresponding to the voltage on the transmission line.例文帳に追加

送電線路に発生する電圧に見合った設計を行うことで、送電線建設費用のコストダウンが可能で、鉄塔高さや用地幅のコンパクト化を図ることのできる架空送電線路を提供する。 - 特許庁

The line width of the image of the line pattern 41 is measured at a plurality of positions in the lengthwise direction of the image of the central line pattern 41 and the optical characteristic of the optical system to be analyzed is obtained on the basis of a result of the measurement.例文帳に追加

中央のラインパターン４１の像の長手方向の複数の位置において、それぞれラインパターン４１の像の線幅を計測し、その計測結果に基づいてその被検光学系の光学特性を求める。 - 特許庁

The maximum display width of one line of a text to be displayed and the overall number of lines of the text are estimated, and the number of lines of the text displayable in one display line is calculated from the displayable width of a display means, and the display position of each line of the text to be displayed is decided and displayed from the number of characters displayable in one display line.例文帳に追加

表示されるべき文章の１行の最大表示幅および文章の全行数を見積り、表示手段の表示可能な幅から表示行の１行に表示可能な文章の行数を計算し、表示行の１行に表示可能な文字数から表示される文章の各行の表示位置を決定して表示する。 - 特許庁

A plurality of breast width or back width scale holes 5 corresponding to the bread widths or back widths are formed at the substantial center of an armhole curve 4 in the horizontal direction toward the central line 6.例文帳に追加

袖ぐり曲線４の中程に、胸幅又は背幅に応じた複数の目盛の胸幅又は背幅目盛孔５を袖ぐり曲線から中心線６に向って水平方向にあける。 - 特許庁

To enable printing of a plurality of sheets of labels with a width smaller than a width of a tape by using the tape which has a half cutting line extended in a longitudinal direction.例文帳に追加

長手方向に延在するハーフカットラインを有するテープを用いて、テープの幅に満たない幅寸法を有するラベルの複数枚印刷ができるラベル作成装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the irradiation device 3 is a thin type having a length short in the direction of a rotation-axial line P and the portion with the maximum width of the irradiation device 3 is arranged along the maximum width of the installation space 8.例文帳に追加

そして、照射装置３は、回転軸Ｐ線方向での長さが短い薄型とし、照射装置３の最大幅となる部分を設置スペース８の最大幅に沿って配置する。 - 特許庁

A projection 3 projecting in the tire width direction is continuously formed in the tire circumferential direction in a tire maximum width position including an intersection P of a contour line between the tread part 1 and the sidewall part 2.例文帳に追加

トレッド部１とサイドウォール部２との外郭線の交点Ｐを含むタイヤ最大幅位置に、タイヤ幅方向に突出する突起３が、タイヤ周方向に連続して形成されている。 - 特許庁

Then the axial line width h and horizontal width d of each one of twenty segments which are obtained by dividing the left ventricle are found by executing trigonometric function operation based on the coordinates of the nodes A and B.例文帳に追加

それらの端点の座標に基づいて三角関数演算を実行することにより左室を２０分割する各セグメントの軸線幅ｈ及び水平幅ｄが求められる。 - 特許庁

A distal end part of the belt-shaped material 2 is cut for throwing-away by a cutting line crossing the belt-shaped material 2 in a width direction, and an end material 6 cut and separated from the belt-shaped material 2 is compressed in the width direction.例文帳に追加

帯状素材２の先端部を、該帯状素材２を幅方向に横断する切断線で捨て切りし、帯状素材２から切り離された端材６を幅方向へ圧縮する。 - 特許庁

Since the hot wind-ejecting hole is arranged as a line state along the width direction and opened in a plurality of numbers, the high temperature hot wind is uniformly ejected in the width direction of the bonding surface.例文帳に追加

熱風噴出孔は接合面の幅方向に沿う列状に配列されて複数開口されているため、高温の熱風が接合面の幅方向に均一に噴出される。 - 特許庁

The transmission processing part is provided with a pulse width clock means for detecting the pulse width of the transmission signal on the transmission line by counting both the leading edge and the trailing edge of the clock signal.例文帳に追加

この伝送処理部に、クロック信号の上昇エッジ及び下降エッジの両方をカウントすることにより、伝送線の伝送信号のパルス幅を検出するパルス幅計時手段を設けた。 - 特許庁

The irradiation unit 3 is a thin type in which the length in a rotation axis P line direction is short and a part having the maximum width of the irradiation unit 3 is arranged along the maximum width of the installation space 8.例文帳に追加

そして、照射装置３は、回転軸Ｐ線方向での長さが短い薄型とし、照射装置３の最大幅となる部分を設置スペース８の最大幅に沿って配置する。 - 特許庁

Relation between the level and exposure time of irradiation energy and the shrinkage of line width is established previously, and the level and exposure time of irradiation energy are determined depending on a desired shrinkage width.例文帳に追加

照射エネルギーのレベル及び露光時間と線幅の縮小幅との関係を予め確立しておき、所望の縮小幅に応じて照射エネルギーのレベル及び露光時間を定める。 - 特許庁

A road-classified traveling speed line width guide route display part 36 displays the guide route with the width corresponding to the average traveling speed relative to each road on the operated guide route according to the information.例文帳に追加

道路別走行速度線幅誘導経路表示部３６はその情報により、演算した誘導経路の各道路毎に、平均走行速度に応じた幅で誘導経路を表示する。 - 特許庁

The width of the peripheral region A_peri is narrower than the conventional width because the bond pad region is not secured but only a part of the bond pad wiring pattern 12 which is in a line form is present.例文帳に追加

周辺領域Ａ_periの幅は、ボンドパッド領域が確保されていなくて、ライン形態である一部のボンドパッド配線パターン１２だけが存在するので、従来と比べて狭くなっている。 - 特許庁

To enhance the reproducibility of isolated pixels so as to enhance the reproducibility of a thin line with one pixel width or a few pixel width thereby suppressing the effect on other pixels lower.例文帳に追加

孤立画素の再現性を高め、一画素幅、もしくは少数画素幅の細線の再現性を向上することができ、他の画素に対する影響も低く抑えることができる。 - 特許庁

The scanning line contains a narrow width section (3aa) serving as a gate electrode and confronting with a channel region (1a') and a wide width section (3ab) confronting with no channel region in the semiconductor layer.例文帳に追加

このうち走査線は、半導体層中のチャネル領域（１ａ´）に対向するゲート電極としての幅狭部（３ａａ）及び前記チャネル領域に対向しない幅広部（３ａｂ）を含む。 - 特許庁

Compared with a width length Dout of the fixing section 25 in a direction orthogonal to the stitched line 22, a width length Din of the seal section 26 in the same direction is made shorter.例文帳に追加

前記縫い線２２と直交する方向における前記固着部２５の幅長Ｄｏｕｔに比べて、同方向における前記シール部２６の幅長Ｄｉｎは、短くなっている。 - 特許庁

The over driving controller is provided with an over driving pulse generator of which the pulse width is different in accordance with variation of power source voltage, and decides the over driving period during bit line sensing by pulse width.例文帳に追加

オーバードライブ制御部は、電源電圧の変動に応じてパルス幅が異なるオーバードライブパルス発生器を備え、パルス幅によってビットラインセンシング時のオーバードライブ期間を決定する。 - 特許庁

The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加

実デバイスパターン６２はサブフィールド４２に形成され、線幅が５００ｎｍを越えるパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１、線幅が４００ｎｍ〜５００ｎｍのパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／２、線幅が４００ｎｍ未満のパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／４であるデバイスパターンとする。 - 特許庁

The plate width adjusting device 1 is installed on the production line of a strip 53 and adjusts the strip 53 to a prescribed width and is provided with bridle rolls 2 and 3 for elongating the strip 53 in the transfer direction and adjusting its width by imparting tension to the strip 53 which is transferred on the production line in its transfer direction.例文帳に追加

帯板５３の生産ラインに設置され帯板５３を所定の板幅に調整する板幅調整装置１であり、生産ラインにて移送される帯板５３に対しその移送方向へ張力を与え、帯板５３を移送方向へ伸長させてその板幅を調整するブライドルロール２、３を備えている。 - 特許庁

The method is disclosed for manufacturing the optical film by extrusion molding using thermoplastic resin, the manufacturing method for the optical film being characterized in that the thermoplastic resin is extruded by using a T die 5 which has a ≤50 μm mean value of lip edge bright-line width and a ≤3 μm/9 mm a bright-line width difference along the width of the T die 5.例文帳に追加

熱可塑性樹脂の押出成形により光学フィルムを製造する方法であって、リップエッジ輝線幅の平均値が５０μｍ以下であり、かつ輝線幅差がＴダイ５の幅方向において３μｍ／９ｍｍ以下であるＴダイを用いて熱可塑性樹脂を押出す、光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing equipment of a porous stamp which can clearly leave the printing line of the stamping part at a desired thickness and can control the sealing film thickness and the line width by varying the thermal dose depending on the changes in the stamp material width.例文帳に追加

捺印部の印字線を所望の太さに、明瞭に残存させることができ、かつ、印材幅の変化に応じて加熱量を変動させることでシール膜厚や線幅を制御することが可能な多孔性印判の製造装置を提供すること。 - 特許庁

Preferably, the coupling point of the proximal end side beam and the intermediate beam is positioned outside of the virtual straight line in a suspension width direction, and the coupling point of the distal end side beam and the intermediate beam is positioned inside of the virtual straight line in a suspension width direction.例文帳に追加

好ましくは、基端側梁及び中間梁の連結点が仮想直線よりもサスペンション幅方向外方に位置され、先端側梁及び中間梁の連結点が仮想直線よりもサスペンション幅方向内方に位置される。 - 特許庁

To provide a line width measuring method by which a line width can be measured by automatically detecting a pattern to be measured even if a pattern to be measured, among the patterns formed on a color filter board, is shifted on a pixel edge.例文帳に追加

カラーフィルタ基板に形成されたパターンのうち、測定対象であるパターンが画素端部上で移動した場合でも、測定対象であるパターンを自動検出して線幅を測定することを可能とする線幅測定方法を提供する。 - 特許庁

The second photo spacer is formed so that a distance from the scribe line to a sealing agent is equal to that from the scribe line to the second photo spacer, and it is formed in annular form or a plane form with a fixed width equal to or greater than the width of the sealing agent.例文帳に追加

第２のフォトスペーサーは、スクライブラインからシール剤までの距離と、スクライブラインから第２のフォトスペーサーまでの距離が均等になるように形成されるとともに、シール剤と同等以上の一定幅で、環状または面状に形成される。 - 特許庁

Also, where the cross-sectional shape of the cable jacket 13 is designed to be rectangular, the width size L2 of a side face parallel to the line Y connecting the tension members 12 is made ≤3.5 mm and the width size L1 on the end face orthogonal to the line is made ≤2.5 mm.例文帳に追加

また、ケーブルの外被１３の断面形状を矩形状とする場合、テンションメンバ１２間を結ぶラインＹと平行な側面の幅寸法Ｌ２を３.５ｍｍ以下とし、ラインと直交する端面の幅寸法Ｌ１を２.５ｍｍ以下とする。 - 特許庁

The exposure system is provided with an adjustment apparatus 52 for adjusting processing conditions of the substrate processing apparatus 50, on the basis of data related to a first line width distribution caused by the exposure apparatus, and data related to a second line width distribution caused by the substrate processing apparatus 50.例文帳に追加

露光装置に起因する第１の線幅分布に関係するデータと、基板処理装置５０に起因する第２の線幅分布に関係するデータとに基づいて、基板処理装置５０の処理条件を調整する調整装置５２を備える。 - 特許庁

The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁

A gate electrode 7 (word line WL) for memory cell selection MISFET extends in the Y direction, on the principal surface of the semiconductor substrate with the same width and a distance between the adjacent gates electrodes (7) (word line WL) is shorter than the width.例文帳に追加

メモリセル選択用ＭＩＳＦＥＴのゲート電極７（ワード線ＷＬ）は、半導体基板の主面のＹ方向に沿って同一の幅で延在し、互いに隣接するゲート電極（７）（ワード線ＷＬ）同士の間隔は、前記幅よりも狭い。 - 特許庁

The tire identification line 6 includes a bending color line 6 which has an amplitude H in the direction of a tire width greater than a groove width GW of the longitudinal groove 3, and which repeats a zigzag or wavy curves to extend in the circumferential direction of the tire.例文帳に追加

そしてタイヤ識別ライン６は、前記縦溝３の溝幅ＧＷよりも大きなタイヤ巾方向の振幅Ｈを有してジグザグ状又は波状の屈曲を繰り返してタイヤ周方向にのびる折り曲げカラーライン６を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Otherwise, the correlation between the spectral line width W in the line width threshold Thresu and a contrast loss CL computed from the true spectral waveform g(λ) of laser beam and the color convergence function of a semiconductor exposing device is preliminarily determined and stored in the storage part 41.例文帳に追加

または線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、レーザ光の真のスペクトル波形ｇ（λ）及び半導体露光装置の色収差関数から演算されるコントラストロスＣＬと、の相関が予め求められ、記憶部４１に記憶される。 - 特許庁

With this, a whole width of the light-emitting unit is decreased as compared with the conventional one having the grounding line for grounding the light source part and the power source line set in the same layer, so that a width of a bezel region where the light-emitting unit is arranged in the display device is decreased.例文帳に追加

これによって、光源部を接地する接地ラインと電源ラインが同一層に具備された従来よりも発光ユニットの全体の幅が減少し、表示装置において発光ユニットが配置されるベゼル領域の幅が減少する。 - 特許庁

The cord 8 composing the outermost belt layer 3a and the center line G of the width of the one end opened grooves 7a, 7b elongate in the same tilting direction, and the angle α made by the cord 8 and the center line G of the width of the groove is within the range from 30° to 70°.例文帳に追加

最外ベルト層３ａを構成するコード８と一端開口溝７ａ、７ｂの溝幅中心線Ｇとが、同一傾斜方向に延在しており、かつコード８と溝幅中心線Ｇとのなす角αが３０〜７０°の範囲にある。 - 特許庁

Ratio (A/B or B/A) for the duty ratio of an input side comb-line interdigital electrode 3 (A=electrode width (a)/pitch PA) and the duty ratio of an output side comb-line interdigital electrode 4 (B=electrode width (b)/pitch PB) is set so as to be 1/6 to 1/4.例文帳に追加

入力側櫛型インターデジタル電極３のデューティ比（Ａ＝電極幅ａ／ピッチＰ_A）と出力側櫛型インターデジタル電極４のデューティ比（Ｂ＝電極幅ｂ／ピッチＰ_B）との比（Ａ／ＢまたはＢ／Ａ）が１／６〜１／４になるように構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of accurately forming a fine pattern in a semiconductor chip or the like by suppressing unevenness of line width due to dependence on the denseness of a line width in chip or the like, and to provide a system for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

１チップ内での線幅の疎密依存性に起因した線幅のばらつきを抑制して、半導体チップなどにおける微細なパターンを高精度に形成することを可能とする半導体装置の製造方法および製造システムを提供する。 - 特許庁

A line width control section 24 controls the line width for character region detection, when a ground area or a dot area is determined by using the determination results of a ground judging section 22 and a dot judging section 23.例文帳に追加

下地判定部２２における判定結果と網点判定部２３における判定結果とを用いて、線幅制御部２４において下地領域もしくは網点領域と判断された場合に文字領域として検出する線幅の制御を行う。 - 特許庁

A center line C2 of the radius of curvature on the facing side that bisects the width dimension of the face 12a is offset to the outside in the diameter direction of the front cover 3 than a center line C1 of the radius of curvature on the cover side that bisects the width dimension of the contact surface 18.例文帳に追加

接触面１８の幅寸法を二分するカバー側曲率中心線Ｃ１よりも、フェース面１２ａの幅寸法を二分するフェーシング側曲率中心線Ｃ２を、フロントカバー３の直径方向において外側にオフセットさせてある - 特許庁