line-widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3396件
After that, the film thicknesses of the first and second portions are measured and the measured film thicknesses of the first and second portions are converted into the line width of a resist pattern on the basis of the correspondence relation between a film thickness and a line width which are previously obtained.例文帳に追加
その後,当該第1の部分と第2の部分の膜厚を測定し,予め求められている膜厚と線幅との相関により,前記測定された第1の部分の膜厚と第2の部分の膜厚をレジストパターンの線幅に換算する。 - 特許庁
The image processing apparatus detects densities or line widths of the detected components and the explanatory note of the graph (S9, S11), and detects differences between the detected densities or line widths of the components of the graph and the density or line width of the explanatory note based upon the detected densities or line widths (S13).例文帳に追加
画像処理装置は、検出したグラフの成分と凡例との濃度または線幅を検出し(S9、S11)、検出した濃度または線幅に基づいて、グラフの成分の濃度または線幅と、凡例の濃度または線幅との差を算出する(S13)。 - 特許庁
Either line 10 of a word line and a bit line sandwiching a TMR element of MRAM between them is so formed as to make its side closer to the TMR element than its other side wider in line width than the other side, and to be trapezoidal in cross section.例文帳に追加
MRAMのTMR素子を挟む書き込みワード線とビット線のうち少なくとも一方の配線10を、TMR素子に近い面側の線幅が遠い面側の線幅よりも長くなるよう、その断面形状が台形となるように形成する。 - 特許庁
When selecting the reference line, membership functions for the line width and line height; (B)(C) in figure are applied to a plurality of lines S1 to S5 to be recognized in figure (A), and the sum of the respective evaluated values is calculated, and the line in which the sum is the maximum value Vmax is selected.例文帳に追加
基準行の選択処理は、図6(A)の認識処理の対象となる複数の行S1〜S5に、行幅、行高さに対するメンバシップ関数:同図の(B)(C)を適用し、各評価値の和を算出し、その和が最大値Vmaxとなる行を選択する。 - 特許庁
A virtual line of an applicable rim 10 is drawn in cross-sectional view of the tire meridian direction, a straight line drawn in the tire width direction from a point A to define rim height FH is set as an X axis and a straight line drawn in the tire diametrical direction from a point B on a tire equator line is set as a Y axis.例文帳に追加
タイヤ子午線方向の断面視にて適用リム10の仮想線を引き、リム高さFHを規定する点Aからタイヤ幅方向に引いた直線をX軸とし、タイヤ赤道線上の点Bからタイヤ径方向に引いた直線をY軸とする。 - 特許庁
The coupling line has a structure, in which the width of a void is widened and lines each contacting the void between the line conductors between both sides facing each other at a portion, where a void exists in the middle of the line conductor provided on a single substrate and the void divides the line conductor.例文帳に追加
単一の基板に設けられた線路導体の途中に空隙が存在し、該空隙が該線路導体を分断している部位で、該空隙の幅を広くとり、かつその対向する両側の線路導体間の空隙に接する線路を長くとった構造を有する。 - 特許庁
A structure having a coplanar line and a micro strip line coupled is used in a transmission line substrate to be used between two function parts different by impedance characteristics, and the signal line width allowing matching between input and output impedances and matching between these lines is adopted.例文帳に追加
2つの異なるインピーダンス特性の機能部品の間に用いる伝送線路基板に、コプレーナ線路とマイクロストリップ線路を結合した構造を用い、入出力インピーダンスのマッチングをさせるとともに、これらの線路間のマッチングも図った信号線幅を採用する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of carrying out calibration processing to appropriately calibrate a line-width balance between a line in a main scanning direction and a line in a sub scanning direction, thereby achieving good image quality related to a formed image, in particular, a letter image and a line image.例文帳に追加
主走査方向及び副走査方向のライン幅のバランスを適切に調整できるキャリブレーション処理を実現し,これによって形成画像,特に,文字や線図の画像について良好な画質を実現できる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
An image processor includes a segment plotting indication detecting processing means for performing detection about whether segment plotting is indicated in image data or not; a correction index input part for inputting a correction index to correct the line width of the detected segment plotting; and a line width correcting processing means for correcting the line width of the segment plotting, based on the correction index.例文帳に追加
そして、画像データにおいて線分描画が指示されているかどうかを検出する線分描画指示検出処理手段と、前記検出された線分描画の線幅を補正するための補正指標を入力するための補正指標入力部と、前記補正指標に基づいて、前記線分描画の線幅を補正する線幅補正処理手段とを有する。 - 特許庁
A possibility of causing a wiring defect due to dust at the time of manufacture is reduced to improve a yield by making wider a width W1cir and a width W2cir of the wiring except an active element part of a scanning line driving circuit 17 or a signal line driving circuit 18 than a width W1pix and a width W2pix of the wiring except a picture display part 19.例文帳に追加
走査線駆動回路17又は信号線駆動回路18の能動素子部を除く配線の幅W1cir、幅W2cirを、画像表示部19の能動素子部を除く配線の幅W1pix、幅W2pixに比べて広くすることで、製造時にダストによる配線欠陥が生じる可能性を少なくして、歩留まりを向上させるようにした。 - 特許庁
The directional coupler consists of a 1st line conductor 23 formed on a dielectric board 21 having a ground conductor 22 on its rear side and a 2nd line conductor 24 formed on the 1st line conductor 23 electromagnetically coupled via a dielectric layer and having a line width wider than that of the 1st line conductor 23.例文帳に追加
裏面に接地導体22を有する誘電体基板21上に形成された第1の線路導体23と、第1の線路導体23上に誘電体層を介して電磁的に結合するように形成された、第1の線路導体23より線路幅の広い第2の線路導体24とから成る方向性結合器である。 - 特許庁
After the extracted cell body is removed from the binarized image, an image mainly including line elements is obtained, a line thinning process is applied to the image whose cell body is removed and a line thinned image having a line width of one pixel in the line element is obtained, a noise removing process is applied and an image processed by a cell protrusion extraction process is obtained.例文帳に追加
そして抽出された細胞本体部を二値化画像から除去して、線要素を主に含む画像を取得し、細胞本体部が除去された画像に対して細線化処理を行って、線要素の線幅が1画素の細線化画像を得た後、ノイズ除去処理を行って細胞突起抽出処理画像を得る。 - 特許庁
Only when a lane-partitioning line positioning on the right side relatively to the vehicle is a continuous line, and a lane-partitioning line positioning on the left side is a broken line having a line width within a prescribed range among the lane-partitioning lines detected by a traffic lane detection part 1, a calculation part 3 recognizes that the vehicle travels on the fast lane.例文帳に追加
演算部3が、車線検出部1が検出した車線区分線の中、車両に対して右側に位置する該車線区分線が実線であり、且つ左側に位置する該車線区分線が所定範囲内の線幅を有する破線であるときのみ、該車両が追越車線を走行中であると認識する。 - 特許庁
When the attribute data instructs the circular processing of the end part of the straight line, a display dot formed on a scanning line to be plotted and included in a virtual circle setting line width plotted on the end part of the straight line as a diameter is detected and display data are plotted on the storing positions of line buffers 20a, 20b corresponding to the detected display dot.例文帳に追加
そして、直線端部の円処理を指示していた場合に、描画対象の走査線上の表示ドットであって、直線の端部に描いた線幅を直径とする仮想円に含まれる表示ドットを検出し、検出した表示ドットに対応するラインバッファ20a、20bの記憶位置に表示データを描画する。 - 特許庁
The outer edge 100AE of the narrow width part 100A is positioned more on the outer side in the width direction than on the position of a folding line L1 when the wing part 50 is folded over and is positioned more on the inner side in the width direction than on the outer edge 50WE of the wing part 50.例文帳に追加
幅狭部分100Aの外縁100AEは、ウイング部50が折り返されるときの折り返し線L1の位置よりも幅方向外側に位置するとともに、ウイング部50の外縁50WEよりも幅方向内側に位置する。 - 特許庁
Since the number of pixels (k) corresponds to one half of the shift of actual width dimension L from the ideal width dimension L(θ) in the print size, the part exceeding the ideal width dimension L(θ) is rendered white in one main scanning line.例文帳に追加
このときの画素数kは、当該プリントサイズにおける実際の幅寸法Lの理想幅寸法L(θ)からのズレ量の1/2倍に相当する画素数であるので、1主走査ラインにおいて、理想幅寸法L(θ)を超える分は白色にする。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive composition whose development defects are suppressed and whose post-exposure temporal line width variation is improved.例文帳に追加
現像欠陥が抑制され、且つ引きおき経時による線幅変動が改善されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁
A vehicle 1 is stopped at an initial stop position P1, where a rear axle center A0 nearly becomes the center line of a passage width U.例文帳に追加
リヤアクスル中心A0が通路幅Uのほぼ中心線上となる初期停止位置P1に車両1を停止させる。 - 特許庁
To control threshold voltage distributions of a cell connected to a last word line after programming to have a narrow width similarly to that of other cells.例文帳に追加
プログラム後の最後のワードラインに連結されたセルのしきい値電圧分布を他のセルと同様に狭い幅に調節する。 - 特許庁
The line width of a part 313b other than the end part 311a of the mounting pattern is made thick to improve the mounting strength of the lead wire 21.例文帳に追加
実装パターンの先端部分313a以外の部分313bの線幅を太くし、リード線21の実装強度を上げる。 - 特許庁
To provide a matching method of a charged particle beam device capable of accurately measuring and inspecting line width, defect and the like of a sample.例文帳に追加
試料の線幅、欠陥などを精密に測定、検査することができる、荷電粒子ビーム装置のマッチング方法の提供。 - 特許庁
To provide an exposure method, by which the line width of a color layer after cured can be made constant to achieve good linearity.例文帳に追加
硬化後の着色層の線幅を一定にして直線性を良好にすることが可能な露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for compensating expansion or contraction of line width in an image rendering system for supporting high addressability.例文帳に追加
高いアドレス可能度をサポートする画像レンダリングシステムにおけるライン幅の拡張又は縮小を補償するための方法の提供。 - 特許庁
The length of the both flow control members 23, 24 is set to be 1/2 or more of the width in the forward/backward direction of the pipe line 22 in the heat exchange pipe 4.例文帳に追加
両流れ制御部材23,24の長さを、熱交換管4における管路22の前後方向の幅の1/2以上とする。 - 特許庁
To obtain high luminance by defining a wiring width for securing sufficient current capacity for a power line and increasing a numerical aperture.例文帳に追加
電源線に十分な電流容量を確保する配線幅とすると共に開口率を増大させて高輝度化を実現する。 - 特許庁
Thereby a line width S1 of the light-shielding layer 22 can be designed to be narrower than the usual one and heightening of the opening ratio is made possible.例文帳に追加
このため、遮光膜22の線幅S1を従来よりも細く設計することができ、高開口率化が可能となる。 - 特許庁
To prevent the occurrence of persistence and flickering by inserting a black line having optimum width.例文帳に追加
最適な幅の黒線を挿入することにより、残像およびチラツキを防止できるようにした液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
Finally, the underlying film 14 is etched using the resist pattern 20 having a shrunk line width as a mask thus forming an underlying film pattern 22.例文帳に追加
次いで、線幅が縮小したレジストパターン20をマスクとして下地膜14をエッチングして、下地膜パターン22を形成する。 - 特許庁
In the graph, when the control point is moved in a region A, the route line is displayed with low transparency and small width.例文帳に追加
グラフ中、領域Aに制御点が遷移しているときは、経路線は透過率が低く線の太さ細い表示態様である。 - 特許庁
A code input section 3 selects the JPEG codes for each block line (width of 8 pixels) and gives them to an expansion section 4.例文帳に追加
コード入力部3はこれらJPEGコードを1ブロックライン(8画素幅)毎に切り替えて伸長部4に供給する。 - 特許庁
The side edge line of the sheet 5 is formed into the curved shape forming a narrow extra width 5a along the optical fiber 3 arranged in the curved shape.例文帳に追加
シート5の側縁ラインを、曲線状配置の光ファイバ3に沿って狭い余幅5aを形成する曲線状とする。 - 特許庁
The width of the sliding surface corresponding to two parameters can be easily calculated to the sliding surface data of one line.例文帳に追加
そして、この1ラインの摺動面データに対して2つのパラメータに対応する摺動面の幅を容易に算出することができる。 - 特許庁
To easily manufacture a plastic structure having a narrow line width and used for e.g. an electrophoretic display.例文帳に追加
線幅が小さなプラスチック構造体、たとえば電気泳動型のディスプレイなどに使用可能なプラスチック構造体を簡便に作ること。 - 特許庁
To adequately extract a segment having an arbitrary width such as a character or a ruled line, even if a multilevel image being nonuniform in background.例文帳に追加
背景が一様でない多値画像であっても文字や罫線など任意の幅を持つ線分を的確に抽出すること。 - 特許庁
The coating surface 3 is not rotated against the surface to be coated and is formed so as to line-contact with the surface to be coated at a predetermined width.例文帳に追加
塗布面3は被塗布面に対して回転されず被塗布面に所定幅で線接触するように形成されている。 - 特許庁
Therefor, separation of the rolling oil component does not occur and the oil concentration can be uniform to make 'cutting-off in width' possible in a practical line.例文帳に追加
これにより圧延油の油分の分離をなくし、油分濃度を均一とできるので、実ラインにおける「幅切り」が可能となる。 - 特許庁
When the complex is pyrolyzed, the novel metal cluster aggregate having the line width ranging from 10 to 300 nm can be obtained.例文帳に追加
これを熱分解すると 、線幅が10〜300nmの範囲にある新規な金属クラスター集合体をえることができる。 - 特許庁
The L/S pattern is arrayed with the line parts 12 with a width narrower than the escape depth at a prescribed interval, with the space part 14 therebetween.例文帳に追加
L/Sパターンはスペース部14を挟んで、脱出深度より小さい幅のライン部12を一定の間隔で配列している。 - 特許庁
To improve the surface quality of an unpolished semiconductor disk to allow components to be formed on the disk to have a narrower line width.例文帳に追加
研磨されない半導体ディスクの表面品質を改善し、その上に製造される素子の、より小さな線幅を可能にする。 - 特許庁
To provide a recording apparatus having a mechanism for performing accurate positioning by displacing a line recording head in a sheet width direction.例文帳に追加
ライン記録ヘッドをシート幅方向に変位させて正確な位置決めを行うことができる機構を有する記録装置の提供。 - 特許庁
More specifically, the colored line on the fabric substrate has 1 mm or more of the width in the adhesive tape for skin application.例文帳に追加
より具体的には、布基材に有する着色ラインの幅が1mm以上である皮膚貼付用粘着テープによる。 - 特許庁
Geometrical repetitive patterns 2 in a line width of 20 to 100 μm are formed of a material of superior conductivity on a film 1.例文帳に追加
フィルム1に電導性に優れた材料により20〜100μmの線幅の幾何学的繰り返しパターン2を形成した。 - 特許庁
Also, whether the front existing object Cf exists on the self vehicle line or not is judged based on the width related information.例文帳に追加
また、前方存在物Cfが自車線上に存在する否かについても、上記幅関連情報に基づいて判断する。 - 特許庁
The additional interfaces are disposed at a position in a substantially smaller distance than width of the line from the first connector 3a.例文帳に追加
追加の境界面は、第1の接続体3aから線路の幅よりも実質的に小さい距離の位置に配置されている。 - 特許庁
Two long sides 56, 58 of the opening of the Wehnelt electrode are at an asymmetrical position to a center line of the filament in a width direction.例文帳に追加
フィラメントの幅方向の中心線に対してウェーネルト電極の開口の二つの長辺56,58は非対称の位置にある。 - 特許庁
To provide an electromagnetic wave shielding light transmission window material having a mesh-like conductive pattern with small line width and a high opening ratio.例文帳に追加
線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を提供する。 - 特許庁
Alternatively, even when the package 19 is made smaller as indicated by a chain line, the margin width W1 can be secured sufficiently.例文帳に追加
あるいは、パッケージ19を一点鎖線で示す様に小型化したとしても、余裕幅W1 を十分に確保することができる。 - 特許庁
To provide a wavelength variable light source capable of narrowing the line width of output light without providing any special additional component.例文帳に追加
特別な追加部品を設けることなく出力光の狭線幅化を図ることができる波長可変光源を提供する。 - 特許庁
The line width of a microstripline is adjusted by taking into account of the characteristic impedance found from its electrical characteristics and geometrical shape.例文帳に追加
マイクロストリップラインのライン幅は、その電気的特性と幾何学的形状から求まる特性インピーダンスにより調整される。 - 特許庁
Then, the in-plane inclination Z of the measured line width is decomposed into a plurality of in-plane inclination components Z_i using the Zernike polynominal (S2).例文帳に追加
その測定線幅の面内傾向Zがゼルニケ多項式を用いて複数の面内傾向成分Z_iに分解される(S2)。 - 特許庁
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