「mechanical process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The mirror polishing process is achieved in the form of chemical polishing, mechanical polishing, electrolytic polishing or bright electro-plating.例文帳に追加

前記鏡面加工は、化学研磨、機械研磨、光沢メッキ、または電解研磨によるものである。 - 特許庁

In an electrolytic washing process, stains from washing are separated by a mechanical force of a washing means.例文帳に追加

電解洗い行程では、洗濯手段の機械力によって洗濯物から汚れを剥離する。 - 特許庁

SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) PROCESS, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SLURRY例文帳に追加

化学機械的研磨（ＣＭＰ）工程用スラリー及びこれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide a dummy process suitable for chemo-mechanical polishing (CMP) and a polishing pad conditioning method.例文帳に追加

化学機械研磨（ＣＭＰ）に適したダミープロセス及び研磨パッドコンディショニング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR OPTIMIZING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF COPPER IN COPPER INTERCONNECTING PROCESS FOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

集積回路の銅相互結線プロセスにおいて銅の化学機械的研磨を最適化する方法 - 特許庁

To reduce remarkably a time necessary for a multi process testing accompanying a retesting process with a mechanical constitution equipped with the present testing devices as it is, with respect to the multi-process testing method and the multi-process testing device.例文帳に追加

多工程試験方法及び多工程試験装置に関し、現在の試験装置の具備する機械的構成のままで再試験工程を伴う多工程試験に要する時間を大幅に低減する。 - 特許庁

To provide a cleaning article to be manufactured in a simple manufacturing process and with high allowance for the mechanical positioning accuracy in the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程が簡便であり、製造工程における機械的な位置決め精度の許容度が高い清掃用具を提供する。 - 特許庁

In the precedent ground beam process, a mechanical agitating method or a high pressure jetting agitating method is used for the construction of ground beam 11 in the precedent ground beam process.例文帳に追加

先行地中梁工程においては、地中梁１１の構築に機械式攪拌工法や高圧噴射攪拌工法などを用いる。 - 特許庁

To provide a cleaning article to be manufactured in a simple manufacturing process and with high allowance for the accuracy of the mechanical positioning in the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程が簡便であり、製造工程における機械的な位置決め精度の許容度が高い清掃用具を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning article to be manufactured in a simple manufacturing process and with high allowance for the accuracy of the mechanical positioning in the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程が簡便であり、製造工程における機械的な位置決め精度の許容度が高い清掃用具を提供する。 - 特許庁

To remove residues of polished top surface and rear surface by a polishing process from a semiconductor wafer composed of silicon after a process of chemical mechanical polishing.例文帳に追加

化学機械研磨のプロセス後、シリコンからなる半導体ウェハから研磨された表面および裏面の研磨プロセスの残渣を取除く。 - 特許庁

This annealing process can be applied mainly to a polishing process for manufacturing the wafer, or an ion implantation process, a dry etching process or a chemical mechanical polishing process for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

本発明のアニーリングが主として適用される段階としては、ウェーハを製作するためのポリシング段階、半導体素子を製造するための各種のイオン注入段階、ドライエッチング段階、化学的及び機械的ポリシング段階がある。 - 特許庁

To provide an acqueous dispersed body of chemical mechanical polishing for controlling erosion and speed during over-polishing in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing that suppresses erosion and its speed when overpolishing is carried out in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide a porous silica thin film that has a low relative dielectric constant, is stable and has a mechanical strength sufficiently endurable to a CMP (chemical-mechanical polishing) process in a copper wiring process of a semiconductor element.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、安定で、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有する多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a porous silica thin film that has a low relative dielectric constant, is stable and has mechanical strength sufficiently endurable to a CMP (chemical-mechanical polishing) process in a copper wiring process of a semiconductor element.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く安定で、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有する多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

To reduce process loss due to construction adjustment between mechanical and electrical construction and building construction, and to shorten the construction process and reduce the man-hours involved.例文帳に追加

機電工事と建築工事との工事調整による工程ロスを削減し、建設工程の短縮とそれに伴う工数削減とを図る。 - 特許庁

The food dispersing stabilizer requires no minutely crushing process by a mechanical process and solves a problem without including other ingredients.例文帳に追加

この食品用分散安定剤は、機械的処理による微粉砕処理が不要で、かつ他成分を含有せしめることなく課題を解決できる。 - 特許庁

The binder matrix in the end of the ceramic pin may be removed by mechanical or chemical process.例文帳に追加

セラミックピンの端の結合剤マトリックスは、機械的または化学的処理によって除去されてもよい。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator accumulating mechanical energy in a driving process and converting it into a driving force to obtain a large output.例文帳に追加

駆動過程での機械的エネルギを蓄積し、これを駆動力に変換して大きな出力を得る。 - 特許庁

To solve the problem of hazardous and large amount of labor being required for releasing a polishing pad, in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

ケミカルメカニカル研磨工程の研磨パッドの引き剥がしは、危険かつ多大な労力を必要とする。 - 特許庁

METHOD FOR INCREASING METAL-REMOVAL RATE DURING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING PROCESS FOR SEMICONDUCTOR, AND CMP METHOD例文帳に追加

半導体の化学機械研摩プロセス中の金属除去レ—トを増大させる方法及びＣＭＰ方法 - 特許庁

To provide a manufacturing process of an aromatic polyamide film excellent in mechanical characteristic and thermal dimensional stability.例文帳に追加

機械特性および熱寸法安定性に優れた芳香族ポリアミドフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR RECOVERING MECHANICAL PROPERTIES OF CAST INCONEL 718 IN PRACTICAL USE AS AIRCRAFT COMPONENT例文帳に追加

実用された航空機構成要素の鋳造インコネル７１８の機械的性質を回復させる方法 - 特許庁

To provide a micro mechanical oscillator capable of being set in an optional tensile stress in manufacturing by a simple process.例文帳に追加

製造時に任意の引張応力に設定可能な微小機械振動子を簡易なプロセスで実現する。 - 特許庁

The surface exposed by the chemical and mechanical polishing process is dipped into a preprocessing solution containing amine or ammonia.例文帳に追加

化学機械研磨工程で露出された表面を、アミンまたはアンモニアを含有する前処理液に晒す。 - 特許庁

In the past, there had already been a case of mekapanku (mechanical puncture, system failure) in the process of system integration by a megabanku (mega bank). 例文帳に追加

メガバンクがシステム統合をして「メカパンク」をしてしまった失敗例というのはあるわけですから、 - 金融庁

a process or series of acts especially of a practical or mechanical nature involved in a particular form of work 例文帳に追加

特別の仕事形態を伴う実際上の、または機械的な性質の行為の過程や一続き - 日本語WordNet

the process of obtaining something from a mixture or compound by chemical or physical or mechanical means 例文帳に追加

化学薬品あるいは物理的機械的な手段により混合物か合成物から何かを得る過程 - 日本語WordNet

The mechanical element article 1 for control is manufactured from purchase of the materials S1 via a forging process S2, a heat treatment process S2, a grinding process S4, and a surface treatment process S5.例文帳に追加

管理対象とする航空・宇宙用機械要素商品１は、材料購入Ｓｌから、鍛造工程Ｓ２、熱処理工程Ｓ３、研削工程Ｓ４、および表面処理工程Ｓ５を経て製造されるものである。 - 特許庁

To provide a method for effectively controlling many kinds of harmful arthropods without requiring a heating process (e.g., smoking process) or a pressure process (e.g., gas-pressure process or a mechanical pressure process), and a spray device for it.例文帳に追加

加熱処理(例えば、くん煙)および加圧処理（例えば、ガス圧もしくは機械圧）を必要とせず、広範な種類の有害節足動物を効果的に防除することができる有害節足動物の防除方法及びそのため噴霧装置の提供。 - 特許庁

The ball 412 of the BGA package 410 is a Pb-free ball, and a bottom B is polished flat by a mechanical polishing process or a chemical polishing process.例文帳に追加

ＢＧＡパッケージ４１０のボール４１２は、Ｐｂ−ｆｒｅｅボールであり、機械的研磨工程または化学的研磨工程で底面Ｂが平坦に研磨される。 - 特許庁

Mechanical grinding process is not applied to a standard surface 6a of the positioning standard part 6 of the funnel 1 which is solidified after press-molding process.例文帳に追加

このプレス成型工程を終えて固化したファンネル１の位置決め基準部６の基準面６ａに対しては、研磨や研削等の機械加工を施さない。 - 特許庁

POLISHING TABLE OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE, METHOD FOR MONITORING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS USING THE SAME, METHOD FOR DETECTING TERMINATION USING THE SAME, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

化学機械的研磨装備の研磨テーブル、これを用いて化学機械的研磨工程をモニターする方法、これを用いて終末点を検出する方法及びその製造方法 - 特許庁

This method for producing the mechanical pulp is characterized by comprising a process of dehydrating pulp slurry containing the mechanical pulp to make ≥20 mass % pulp concentration.例文帳に追加

本発明の機械パルプ製造方法は、機械パルプを含むパルプスラリーを脱水してパルプ濃度を２０質量％以上とする工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a production management method for a mechanical element commodity, production-managing each element article, in the mechanical element commodity comprising a plurality of elements that include a product in process.例文帳に追加

仕掛品を含む複数の要素からなる機械要素商品において、各要素品を生産管理する機械要素商品の生産管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a sensor having a high sensitivity and a high mechanical strength during manufacturing process of the device.例文帳に追加

センサ感度が高く、製造工程中のデバイスの機械的強度が高いセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion device whose mechanical strength is improved, without making a manufacturing process complex.例文帳に追加

製造工程を複雑化させることなく、機械的強度を向上させた光電変換装置を提供する。 - 特許庁

The photoresist is planarized by chemical-mechanical polishing process, and an uniform thickness is realized over the entire substrate 10.例文帳に追加

フォトレジストは化学機械研摩プロセスで平坦化されて、基板１０全体にわたって均一な厚さを達成する。 - 特許庁

MICRO-MECHANICAL AND MICRO-OPTOMECHANICAL STRUCTURE MANUFACTURING METHOD PROVIDED WITH MONO CRYSTAL SILICON EXPOSING PROCESS例文帳に追加

単結晶シリコンの露光の工程を備える、マイクロメカニカルおよびマイクロオプトメカニカルな構造物を製造するための方法 - 特許庁

To provide an ethyl cellulose resin composition excellent in heat resistance and mechanical strength and suitable for a molding process.例文帳に追加

耐熱性及び力学的強度に優れ、成形加工に適したエチルセルロース樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a bimodal catalyst having a sufficient mechanical strength in a simpler process.例文帳に追加

十分な機械的強度を有するバイモーダル触媒を、より単純なプロセスで製造する方法を提供する。 - 特許庁

Also in connecting the servo tool, software processing required for connection is performed in the process of the next travel after the mechanical connection.例文帳に追加

サーボツールの結合時も、機械的結合後の次の移動中に結合に必要なソフトウェア処理を実行する。 - 特許庁

To improve coercive force of a magnetic layer without causing an obstacle of film forming process and reduction of medium mechanical strength.例文帳に追加

成膜プロセスでの支障や媒体機械強度の低下を起こさずに、磁性層の保磁力を向上させる。 - 特許庁

To provide a disk driving device in which DBT(unbalance quantity) can be decreased while performing hardly improvement of mechanical process and process accuracy such as correction process or the like for a hub and a recording disk.例文帳に追加

ハブや記録ディスクに修正加工などの機械加工や加工精度の向上などを殆ど施すことなくＤＢＴ（アンバランス量）を小さくすることのできるディスク駆動装置を提供する。 - 特許庁