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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > mechanical processに関連した英語例文

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mechanical processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 922



例文

To provide a process for the production of a polyester resin composition having excellent mechanical properties, heat-resistance, dimensional stability and moldability without deteriorating the surface property.例文帳に追加

表面性を損なうことなく、機械的特性、耐熱性、寸法安定性、および成形性に優れるポリエステル樹脂組成物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that improves productivity by improving electrical characteristics and mechanical strength of a semiconductor chip laminate and simplifying a formation process.例文帳に追加

半導体チップ積層体の電気的特性及び機械的強度を向上させ、形成工程を簡素化して生産性を向上させる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of hot-pressed woody board excellent in mechanical strength, without spoiling storage stability or productivity.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、貯蔵安定性や生産性を損なうことなく、機械的強度に優れた熱圧成形木質ボードの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a high mechanical strength, good electrophotographic characteristics, and good coating property and a long pot life of the coating material in the manufacture process.例文帳に追加

機械的強度が強く、電子写真特性が良好であり、かつ、製造時の塗工性および塗料ポットライフが良好である電子写真感光体を提供することである。 - 特許庁

例文

To provide a magnesium alloy material having excellent mechanical characteristics and particularly having high elongation without using a special manufacturing equipment nor a process, and to provide a method for manufacturing the magnesium alloy material.例文帳に追加

特殊な製造設備およびプロセスを使用することなしに、機械的性質に優れた、特に、高い伸びを有するマグネシウム合金材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a process for producing graft polymers achieving improved reaction reliability for all over the graft polymerization processes, and imparting the graft polymers with high reproducibility and good mechanical properties.例文帳に追加

グラフト重合の進行全体にわたり改良された反応信頼性を達成し、高い再現性を有する良好な機械的性質を有するグラフトポリマーを得ること。 - 特許庁

To provide a method of forming a low-carbon film for producing a copper damascene device to improve an etching process, by avoiding stress migration and forming a film having high mechanical strength.例文帳に追加

応力マイグレーションを回避し、機械的強度が高い膜を形成し、及びエッチング処理を改善する、銅ダマシンデバイスを作成するための低炭素膜形成方法を与える。 - 特許庁

By repeating this process several times, a BN/Si_3N_4 multilayer coating having improved mechanical and chemical properties is formed on the substrate 17.例文帳に追加

この工程を複数回繰り返すことにより、基材17上に改良された機械的特性や化学的特性をもつBN/Si_3N_4の多層コーティングが形成される。 - 特許庁

To provide a continuous casting method for a magnesium alloy sheet capable of omitting a hot-rolling process and providing the sheet with an excellent mechanical characteristic, the flatness and the like.例文帳に追加

熱延工程の省略が可能であり、しかも機械的特性や平坦度等の表面性状にも優れたマグネシウム合金薄板の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a copper film polishing method and a copper film wiring forming method which makes a high polishing speed applicable to a copper film chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

銅膜の化学的機械的研磨工程で高い研磨速度の適用が可能な銅膜の研磨方法及びこれを利用した銅膜配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

To improve the surface nature of the electroless nickel/gold plate in the process for manufacturing the printed circuit boards without adverse effect on the excellent dielectric and mechanical properties of PPE resin.例文帳に追加

PPE樹脂の優れた誘電特性と機械特性を損なうこと無く、プリント配線板の製造工程における無電解ニッケル/金メッキの表面性を向上させる。 - 特許庁

This proton conductive material is constituted using a crystalline metal phosphate as a major component of which the proton conductivity has been improved using a mechanical milling process.例文帳に追加

結晶性リン酸金属塩をメカニカルミリングにより処理することによって、そのプロトン伝導性を向上させ、それを主成分としてプロトン伝導性材料を構成する。 - 特許庁

To provide a molded product of a polypropylene resin composition with a highly stable electrically conductive property without diminishing high moldability or mechanical physical characteristics inherent in a polypropylene composition, and its production process.例文帳に追加

ポリプロピレン樹脂組成物の高い成形性、機械物性を損なうことなく、安定した高い導電性を備えた成形体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester polymer excellent in dyeability and flame-retardant effect and having excellent process workability and mechanical properties, and to provide a fiber manufactured from the same.例文帳に追加

優れた染色性、難燃効果を有し、かつ工程作業性及び機械的物性の優れたポリエステル重合体とそれから製造された繊維を提供すること。 - 特許庁

The method also comprises removing an excess material from a semiconductor wafer containing one or more apertures, by contacting the wafer with a rotating polishing pad through a chemical mechanical planarization process.例文帳に追加

また、化学的機械的平坦化法により1以上のアパーチャを含む半導体ウェーハを回転する研磨パッドと接触させ、それから過剰物質を除去する。 - 特許庁

To provide a composite electronic component that is not deteriorated in electrical characteristic by holding the airtightness of cavities even when mechanical stresses, such as impacts, etc., are applied during its manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中の衝撃等の機械的応力が加わっても、キャビティの気密性を保持し、電気特性が劣化しない複合電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method, performing an inspection for the process confirmation for a structure in a micro-machine, the inspection for electric characteristic and the inspection for mechanical characteristic in non-contact state.例文帳に追加

マイクロマシンにおける構造体の工程確認の検査、電気特性の検査及び機械特性の検査を非接触で行う検査方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an individual imaging device package realizing a lower cost by simplifying the assembling/adjusting process and the components thereof while improving the mechanical precision.例文帳に追加

機械的精度を向上しつつ、組立・調整工程と部材とを簡略化して低コスト化を実現することができる個体撮像素子パッケージを提供すること。 - 特許庁

To easily manufacture a semiconductor device which can restrain increase of via resistance which is to be caused by a CMP(chemical mechanical polishing) process and corrosion of a copper wiring and is excellent in element characteristic and reliability.例文帳に追加

CMP工程に起因するビア抵抗の増大や銅配線の腐食を抑制でき、素子特性および信頼性に優れた半導体装置を容易に作製する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersant for chemical mechanical polishing which can efficiently remove a cap layer by polishing, and at the same time, with which a chemical mechanical polishing process that is reduced in damages given to the material of an underlying insulating layer having a low dielectric constant can be performed, and to provide a method for chemical mechanical polishing which uses the aqueous dispersant.例文帳に追加

キャップ層を効率よく研磨除去することができるとともに、下層に存在する誘電率の低い絶縁膜材料に対するダメージが低減された化学機械研磨工程を行うことができる化学機械研磨用水系分散体及び当該化学機械研磨用水系分散体を使用した化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion capable of preventing a surface defect such as dishing, erosion, scratch or fang in a planarization process of a polishing object surface by chemical mechanical polishing, and to provide a chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparing set excelling in long-term preservation stability, even in a condensed state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥を抑制することができる化学機械研磨用水系分散体の調製方法、および濃縮状態においても長期保存安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体調製用セットを提供することにある。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing slurry composition which is particularly useful for a chemical mechanical polishing (CMP) process of a STI (shallow-trench isolation) process forming a semiconductor multilayer structure, minimizes the occurrence of fine scratches, and has a high polishing selection rate of an oxide film to a nitride film.例文帳に追加

半導体多層構造を形成するためのSTI(Shallow Trench Isolation)工程の化学的機械的研磨(Chemical Mechanical Polishing:CMP)工程に特に有用であり、微細スクラッチの発生を最小化し、酸化膜と窒化膜の研磨選択比が高い化学的機械的研磨スラリー組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing an acrylic emulsion that is excellent in polymerization stability and gives an emulsion excellent in mechanical stability, freeze-thaw stability and standing stability at a high temperature even at a high concentration of a solids content of not less than 50 wt.% and that further gives an emulsion film excellent in mechanical properties.例文帳に追加

固形分50%以上の高濃度でも、重合安定性、エマルジョンの機械的安定性、凍結融解安定性、高温放置安定性に優れ、更にエマルジョン被膜の機械物性にも優れたアクリル系エマルジョンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The cleaning liquid is used in the cleaning process of a substrate for a semiconductor device which is carried out following the chemical mechanical polishing process in manufacture of the semiconductor device, and contains a component (A) nitrogen-containing aromatic carboxylic acid.例文帳に追加

半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、成分(A)含窒素芳香族カルボン酸を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。 - 特許庁

To provide a porous silica thin film having a low dielectric constant of the porous silica thin film, capable of fully withstanding mechanical strength enduring a CMP process in the copper wiring process of a semiconductor element and a small amount of contaminated gas generation at the formation of via holes.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるCMP工程に十分耐える機械的強度を有し、かつ、ビア形成時の汚染ガス発生量の少ない、多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

Disjoining and sorting process or cutting process is applied to the tempered glass tube 3 of the cathode ray tube 2 by adding a mechanical stress and a heat shock after releasing the hardness of the tempered glass by annealing with a temperature of not less than 500°C which is the temperature applied when tempering the glass.例文帳に追加

陰極線管2の強化されたガラス管体3を強化時の500℃以上のアニール処理により強化ガラスの強化を解除した後に機械的歪付与及び熱衝撃を加えて分解分別或はカット加工処理を行なう。 - 特許庁

To provide a polyvinyl chloride-based resin that is produced by a process which facilitates dispersing an inorganic substance in a vinyl chloride resin in introducing the inorganic substance into the vinyl chloride resin to thereby produce a vinyl chloride-based resin having good properties such as mechanical strength, heat resistance or the like and that can be produced by a simple process as well.例文帳に追加

無機物を塩化ビニル樹脂中へ導入する際に、樹脂中に分散しやすく、機械的強度や耐熱性などの諸物性が良好で、且つ、簡便な方法で製造が可能なポリ塩化ビニル系樹脂の提供。 - 特許庁

To provide a single layered electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic chargeability and sensitivity, more particularly excellent mechanical strength and high stability of electrostatic characteristics even if a copying process is repeated, and a process cartridge using this photoreceptor, and an electrophotographic device.例文帳に追加

帯電性及び感度に優れ、特に機械的強度に優れ、更に複写プロセスを繰り返しても静電特性の安定性に富んだ単層型電子写真感光体、並びに該感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供すること。 - 特許庁

Using a ceramic green sheet that can endure mechanical stresses in a detachment process for a carrier film, a lamination process for the green sheet or the like by adjusting a percentage of water of the ceramic green sheet after a drying process and/or an environment under which the ceramic green sheet is disposed, an ion-conducting solid electrolyte is manufactured.例文帳に追加

乾燥工程後のセラミックグリーンシートの水の含水率及び/又は該セラミックグリーンシートが置かれる環境を調整することにより、キャリアフィルムの剥離工程やグリーンシートの積層工程等における機械的ストレスに耐え得るセラミックグリーンシートを利用して、イオン伝導性固体電解質を製造する。 - 特許庁

The chemical and mechanical method for polishing the surface of semiconductor wafer using the polishing pad 1 having the recessed groove 4 formed by the emboss process includes a process to generate relative motion between the semiconductor substrate and polishing pad 1 and the process to place the surface of the semiconductor substrate in contact with the polishing pad 1.例文帳に追加

エンボス加工により形成された凹条の溝4を有する研磨パッド1を用いて半導体ウエハ表面を化学機械研磨する方法は、半導体基板及び研磨パッド1との間に相対運動を生じさせる工程と、半導体基板表面を研磨パッド1に接触させる工程と、から成る。 - 特許庁

The method includes a process of applying a UV-curing adhesive 2a on two disk substrates 11, 12, a process of irradiating each disk substrate coated with the UV-curing adhesive with UV rays, a process of laminating the two disk substrates and a process of measuring the mechanical accuracy such as the warpage angle and wobbling of surface acceleration of the laminated disk medium.例文帳に追加

この製造方法は、2枚のディスク状基板11,12に紫外線硬化型の接着剤2aを塗布する工程と、紫外線硬化型の接着剤が塗布された各ディスク状基板に紫外線を照射する工程と、2枚のディスク状基板を貼り合わせる工程と、貼り合わされたディスク状媒体の反り角及び面振れ加速度等の機械精度を測定する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an internal-combustion engine forged piston capable of improving mechanical properties in a side of last solidification surface, reducing variation of mechanical properties, improving efficiency of machining process and quality by using an aluminum alloy forging material fabricated by one-way coagulation.例文帳に追加

一方向からの凝固により製造したアルミニウム合金の鍛造用素材を用いて、その最終凝固面側での機械的特性を改善し、機械的特性の差を小さくし、かつ機械加工工程の効率、品質を改善した内燃機関用鍛造ピストンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a set for manufacturing a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which suppresses surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること。 - 特許庁

To provide a set for adjusting a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which can suppress surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること - 特許庁

In the process of mechanical mixing and granulation by applying a mechanical alloying method, carbides such as WC, Mo2C and TiC are incorporated into a metal such as Co, Ni and Ni-P so as to exceed the degree of solid solution thereof in a nonequilibrium state to form a carbide-based composite powder alloy entered into solid solution in an oversaturated state.例文帳に追加

メカニカルアロイング法を適用して、機械的に混合して造粒する過程で、WC、Mo_2C、TiC等の炭化物をCo、Ni、Ni−P等の金属中にその固溶度を越えて非平衡状態で含有せしめ、過飽和に固溶せしめた炭化物系複合粉末合金とする。 - 特許庁

The process for applying the optical coating to a substrate, wherein a transition layer (12), which is used to match mechanical properties of a substrate (10) to mechanical properties of a layer system (16) to be applied upon the transition layer (12), is deposited on a front surface (20) of the substrate (10).例文帳に追加

本発明の装置によって実行される本発明の方法において、基板(10)の前面(20)に遷移層(12)を形成し、この遷移層(12)により、基板(10)の機械的特性と遷移層(12)上に付着される層システム(16)の機械的特性とを調和させた。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad that can control scratch generation on a polishing surface during a chemical polishing process and give a high-quality polishing surface, and chemical mechanical polishing method that gives a high-quality polishing surface using the chemical machinery polishing pad.例文帳に追加

化学機械研磨工程における被研磨面のスクラッチ発生を抑制でき、高品位の被研磨面を与えることができる化学機械研磨パッド、及びその化学機械研磨パッドを用いて行う高品位の被研磨面を与える化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

A process for forming the high-quality epitaxial indium phosphide layer on a silicon substrate can generate the relatively large (e.g. maximum diameter of 300 mm), high-quality indium phosphide film equipped with a relatively high mechanical stability provided by the silicon substrate.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板上に高品質のエピタキシャルリン化インジウム層を形成する方法とこの方法によって形成された半導体デバイスを提供するものである。 - 特許庁

To provide a printing process and phase inversion ink that have improved adherence of image to paper, improved image permanence, improved robustness against mechanical stress, and improved image characteristics including surface gloss level.例文帳に追加

紙に対する画像の接着性、画像耐久性、機械応力に対する堅牢性、表面光沢レベルを含む画像特性を向上した印刷プロセスおよび転相インクを提供する。 - 特許庁

In this regard, the etch release process is selective or preferential to the material(s) securing the mechanical structures 20a, 20b, 20c in relation to the material comprising the anchors 30a, 30b, 30c.例文帳に追加

エッチング解放プロセスは、機械構造20a、20b、20cをアンカー30a、30b、30cを構成する材料に固定する材料に対し、選択的又は優先的である。 - 特許庁

To provide an amorphous alloy thin strip laminated product that has a combination of excellent magnetic characteristics and mechanical strengths which a Co-based amorphous alloy strip originally has, as well as to provide its manufacturing process.例文帳に追加

Co系非晶質合金薄帯が本来有する優れた磁気特性と機械的強度を併せ持つ非晶質合金薄帯積層体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process and an apparatus for producing coatings which allow a layer with defined mechanical properties to be applied to a front surface of a substrate with little contamination of a vacuum chamber.例文帳に追加

汚染がほとんどない真空チャンバを用いて、所定の機械的特性を備えた層を基板の前面に形成させる薄膜の形成方法及び薄膜の形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an MEMS (micro electro mechanical system) sensor capable of restraining the resonance of an input sound wave by a simple structure, and capable of facilitating a manufacturing process.例文帳に追加

簡単な構造で、入力される音波の共振を抑制することができるMEMSセンサおよび製造工程の簡素化を図ることができるMEMSセンサを提供すること。 - 特許庁

To provide a flame-retardant resin composition with little reduction in mechanical physical characteristics and little environmental load, its production process and a flame-retardant resin molding using the composition.例文帳に追加

機械的物理特性の低下が少なく、かつ環境負荷の少ない難燃性樹脂組成物及びその製造方法、並びにそれを用いた難燃樹脂成型物を提供することである。 - 特許庁

To provide a low cost turning shaft which has high working accuracy and mechanical strengths and is integrally formed on a metallic sheet, and a forming method of the same by a simple working process.例文帳に追加

高い加工精度と機械的強度を有し、金属板上に一体に形成された低コストの回動軸と、簡単な工法によってこれを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad that does not easily get clogged with slurry even after wear caused by polishing or dressing process and is improved in deterioration of a polishing rate as compared to before, in a chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学機械研磨方法において、研磨やドレス加工による摩耗後もスラリーが目詰まりしにくく、研磨レートの低下が従来より改善された研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a rope simple in production process, producible at low cost and excellent in mechanical performance and handling operability, and to provide a method for efficiently producing such a rope.例文帳に追加

製造工程性が簡便で低コストで製造可能であり、しかも機械的性能及び取扱作業性に優れたロープ及びロープの効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, the amplitude of vibration of a movable part is amplified by utilizing a process of resonance vibrations which is caused by making the number of mechanical vibrations of the movable part conform to the frequency of a supply current.例文帳に追加

さらに可動部の機械力学的な振動数を電源電流の周波数に同調させることによる共鳴振動過程を利用して可動部の振幅を増幅させるものである。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which even in long-term use, assures mechanical strength and shows excellent image stability, and an image forming method and apparatus and a process cartridge using the same.例文帳に追加

長期的使用においても機械的強度が確保され、画像安定性に優れた電子写真感光体と、これを用いた画像形成方法及び装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

例文

To provide an electrophotographic photoreceptor having stable charging properties and durability to mechanical and electrostatic hazards, to provide an image forming method, an apparatus therefor and a process cartridge using the same.例文帳に追加

機械的及び静電ハザードに対する耐久性を両立した帯電特性の安定した電子写真感光体とこれを用いた画像形成方法及び装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁




  
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