「mechanical process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process steam control device using a steam turbine, capable of surely using mechanical energy generated by the steam turbine.例文帳に追加

蒸気タービンで発生した機械エネルギーを確実に使用することのできる、蒸気タービンを利用したプロセス蒸気の制御装置を得ること。 - 特許庁

To obtain a resin composition suppressed in the decomposition of the PVA therein in molding process, and excellent in moldability, mechanical strength and biodegradability.例文帳に追加

成形時のＰＶＡの分解を抑制し、成形性、強度、耐衝撃性、生分解性に優れた樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a process to manufacture a PAS excellent in color tone without lowering the mechanical properties or the like inherent in a polyarylene sulfide.例文帳に追加

ポリアリーレンスルフィドの有する機械的特性等の低下を招くことなく色調に優れたＰＡＳを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask comprising a pattern used efficiently for exposure while keeping mechanical strength in a partial batch exposure process.例文帳に追加

部分一括露光法において、機械的強度を保ちつつ、効率良く露光に用いるパターンを具備したステンシルマスクを提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of an electronic device includes: (a) a process of forming a Cu layer by plating above a base substrate; (b) a process of cleaning the surface of the Cu layer with an alkali cleaning chemical solution to which an organic acid is added; and (c) after the process (b) a process of chemical mechanical polishing of the Cu layer.例文帳に追加

電子装置の製造方法は、（ａ）下地基板上方に、めっきによりＣｕ層を形成する工程と、（ｂ）Ｃｕ層の表面を、有機酸が添加されたアルカリ性の洗浄薬液により洗浄する工程と、（ｃ）工程（ｂ）の後、Ｃｕ層を化学機械研磨する工程とを有する。 - 特許庁

To provide an agglomerated filler for dental materials, durable to mechanical load in production process and having mechanical stability of a level to protrude the filler not completely but partly or lamellarly from a finished composite by the selective abrasion in abrasion process.例文帳に追加

製作プロセス時の機械的な負荷に耐えることができ、磨耗プロセス時に完全にではなく、部分的もしくは層状にのみ、完成したコンポジットから、選択的な磨耗により突出する程度の高さの、機械的な安定性を有している、歯科材料用のアグロメレイトされたフィラーを提供する。 - 特許庁

To provide an MEMS (Micro-Electro Mechanical Systems, hereinafter referred to as "MEMS") device employing such an SOI (Silicon on Insulator) wafer as the ground hole of the device and a handle wafer are coupled electrically through a simple process without requiring any extra step, and also to provide its fabrication process and grounding method.例文帳に追加

ＳＯＩ(Silicon on Insulator)ウェーハを用いるＭＥＭＳ(Micro-Electro Mechanical Systems, 以下「ＭＥＭＳ」と略す)デバイスにおいて、特別な工程を追加せずとも簡単な工程によりデバイスの接地孔とハンドルウェーハ(handle wafer)とを電気的に連結させるＳＯＩウェーハを用いたＭＥＭＳデバイス, その製造及び接地方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, wherein cracks can be prevented from occurring around an interlayer connecting conductor when carrying out a mechanical polishing, and the need for many steps is eliminated after the process of the mechanical polishing.例文帳に追加

機械研磨の際に層間接続導体の周囲にクラックが発生することを防止できるとともに、機械研磨の加工以降に多くの工程を必要しない多層セラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an aquatic dispersion element for chemical mechanical polishing, capable of quickly polishing without substantially damaging a surface to be polished, especially in a chemical mechanical polishing process of STI.例文帳に追加

特にＳＴＩの化学機械研磨工程において、被研磨面に実質的に研磨傷が発生せず且つ高速に研磨することのできる化学機械研磨用水系分散体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Further, the working method of parts includes: a process of temporarily fixing the parts by using the composition; a process of subjecting the temporarily fixed parts to mechanical working; a process of heating a cured material of the composition to a temperature of the thermal expansion initiation temperature of the thermally expanded microcapsule or more and, thereby, releasing the parts subjected to the mechanical working from the temporary fixation.例文帳に追加

また、部品の加工方法は、上記組成物を用いて部品を仮固定する工程と、仮固定された部品に機械加工を施す工程と、上記組成物の硬化物を熱膨張性マイクロカプセルの熱膨張開始温度以上の温度に加熱して、機械加工が施された部品を仮固定から外す工程とを含む。 - 特許庁

To provide an abrasive material which increases the polishing rate of a ruthenium material even under low polishing pressure, enables a chemical mechanical polishing process to be carried out through a single-stage process by the use of a single kind of slurry, reduces defects in an insulating film, and is capable of improving its polishing properties so as to simplify a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

低い研磨圧力下においてもルテニウムの研磨速度を向上させることができ、さらに１種類のスラリーを用いて１段階の工程だけで化学機械的研磨工程が進められ絶縁膜上の欠陥を減少させると共に、研磨特性を改善させることができるので化学機械的研磨工程を単純化させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor apparatus and its manufacturing method capable of controlling and reducing the displacement of vias caused by the deformation derived from a mechanical shock or the deformation of a wafer originated from a bonding process, a CMP process, a thermal stress or the like.例文帳に追加

ボンディング工程、ＣＭＰ工程、熱応力等による機械的衝撃やウエハの変形によるビアの変位を小さく制御できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a pattern forming process of forming a conductive pattern on a surface of a substrate using lithography technique and a process of cutting the conductive pattern using a mechanical cutting means.例文帳に追加

リソグラフィ技術を用いて基板の表面に導体パターンを形成するパターン形成工程と、機械的切削手段を用いて前記導体パターンを切削加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a highly efficient refrigerating cycle in a refrigerating cycle provided with an expansion/compression system converting energy of an expansion process of a working fluid into mechanical energy to carry out operation of one part of a compression process.例文帳に追加

作動流体の膨張過程のエネルギを機械エネルギに変換して圧縮過程の一部の動作を行う膨張／圧縮システムを備えた冷凍サイクルにおいて、高効率な冷凍サイクルを提供する。 - 特許庁

To provide an insulating thin film being porous silica which has low specific dielectric constant and mechanical strength sufficiently resistant to a CMP process in a copper wiring process of a semiconductor device.例文帳に追加

多孔性シリカである絶縁性薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有する絶縁性薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical-mechanical polishing device allowing elongation of a service life of a polishing pad, allowing reduction of person's interposition and allowing improvement of control for a conditioning process.例文帳に追加

ポリシングパッドの寿命を延ばし、人の介在を低減し、コンディショニングプロセスの制御を改善するケミカルメカニカルポリシング装置を提供する。 - 特許庁

The electric resistance welded steel tube can have increased mechanical properties including pressure resistant strength, toughness strength and the others during a process in which the raw material is made into a plate.例文帳に追加

電気抵抗溶接鋼管は耐圧強度、靭性強度等の機械的性質を、素材の製板工程において高めることができる。 - 特許庁

To smoothly access a communication means between a process cartridge rocked to be attached to a device main body and the device main body without mechanical stress.例文帳に追加

揺動して装置本体へ装着されるプロセスカートリッジと装置本体間の通信手段のアクセスを円滑且つ機械的にストレスなく行う。 - 特許庁

To provide a method of forming an insulating film with a planarized surface on a metal layer, without having to apply a chemical-mechanical planarization process.例文帳に追加

金属層上への表面の平坦かされた絶縁膜を化学的機械平坦化プロセスを適用しないでも済む形成方法を提供する。 - 特許庁

To improve throughput by giving multi-function characteristic to a slurry used on a polishing table in the chemical-mechanical polishing process for polishing the wafer surface.例文帳に追加

ウェハの表面を研磨する化学機械研磨において、研磨テーブル上で使用するスラリーに多機能性を持たせ、スループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a heat treatment process for recovering the mechanical properties of an aircraft engine member containing a cast inconel 718 part welded to a forged member.例文帳に追加

鍛造部分に溶接された鋳造インコネル７１８部分を含む航空機エンジン部品の機械的性質を回復させる熱処理方法。 - 特許庁

A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.例文帳に追加

トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁

Etching is not performed in the process of planarizing a polycrystalline Si wafer, but only mechanical grinding is performed for planarization (S104, S106).例文帳に追加

本発明では、多結晶Ｓｉウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる（Ｓ１０４、Ｓ１０６）。 - 特許庁

To provide an inexpensive and long-life thrust bearing by simplifying a manufacturing process and attaining further improvement in mechanical properties.例文帳に追加

製造工程を簡素化すると共に、機械的性質をさらに向上することによって、低コストで長寿命のスラスト軸受を提供する。 - 特許庁

To provide a low-cost and long-life thrust bearing by simplifying a manufacturing process and improving mechanical properties to further extent.例文帳に追加

製造工程を簡素化すると共に、機械的性質をさらに向上することによって、低コストで長寿命のスラスト軸受を提供する。 - 特許庁

To provide a thrust bearing component reduced in manufacturing cost by simplifying the manufacturing process thereof and further improved in mechanical properties.例文帳に追加

製造工程を簡素化して製造コストを低減すると共に、機械的性質をさらに向上したスラスト軸受構成部品を提供する。 - 特許庁

To provide a thrust bearing having a long life at low cost by simplifying a manufacturing process and further improving a mechanical property.例文帳に追加

製造工程を簡素化すると共に、機械的性質をさらに向上することによって、低コストで長寿命のスラスト軸受を提供する。 - 特許庁

To provide a thrust bearing having long service life at a low cost by simplifying a manufacturing process and also, further improving mechanical properties.例文帳に追加

製造工程を簡素化すると共に、機械的性質をさらに向上することによって、低コストで長寿命のスラスト軸受を提供する。 - 特許庁

To cost-effectively provide a thrust bearing having a long service life by simplifying its production process and further improving its mechanical properties.例文帳に追加

製造工程を簡素化すると共に、機械的性質をさらに向上することによって、低コストで長寿命のスラスト軸受を提供する。 - 特許庁

To provide a magnesium alloy which has excellent mechanical properties without using special production equipment and process, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

特殊な製造設備及びプロセスを使用することなく、機械的特性に優れたマグネシウム合金及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the capsule 33 has a high mechanical strength, the capsule 33 is not broken in the process for kneading the latent hardener 30 and epoxy resin.例文帳に追加

従って、カプセル３３の機械的強度が高いので、潜在性硬化剤３０をエポキシ樹脂と混練する工程でカプセル３３が破壊されない。 - 特許庁

Generally, dusts are formed through a mechanical process, while mists are formed through condensation of supersaturated vapors or physical shearing of liquids.例文帳に追加

一般に粉塵は、機械的な工程で形成される。一般にミストは、過飽和蒸気の凝縮または液体の物理的な剪断で形成される。 - 経済産業省

To provide a production process of a plant fiber composite material better achievable of both light weight and higher mechanical characteristics.例文帳に追加

軽量性と高い機械的特性とをより高度に両立できる植物性繊維複合材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method includes a cleaning process for removing deposited and/or adsorbed substances on the surface of the solid material; a process for lowering the surface hardness of the solid material by supporting a hardness lowering substance by the cleaned surface; and a process for applying the mechanical machining operation to the surface carrying the hardness lowering substance after the hardness lowering process or during the hardness lowering process.例文帳に追加

表面に存在する付着物質及び／又は吸着物質を除去するクリーニング工程、クリーニングされた表面に硬度低減物質を担持させ、固体の表面硬度を低減する工程、及び前記硬度低減工程の後、または硬度低減工程中に、前記硬度低減物質を担持させた表面に機械的加工を施す工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the integrated circuit device includes a first process to form a first insulating film 40 above a platinum group metal film 6, a second process to form a hole 44b reaching the platinum group metal film 6 in the first insulating film 40, and a third process which applies chemical mechanical polishing to the first insulating film 40 after the second process.例文帳に追加

白金族金属膜６の上方に第１の絶縁膜４０を形成する第１の工程と、第１の絶縁膜４０に、白金族金属膜６に達する孔４４ｂを形成する第２の工程と、第２の工程の後に、第１の絶縁膜４０に化学的機械的研磨を施す第３の工程を有する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the lattice for the lead acid storage battery in which the sheet is fabricated by rolling the lead or the lead alloy slab with a rolling roll press machine and the sheet is made a lattice by a mechanical process, a bending work is applied to the rolled object before a rolling process or/and during the process or/and after the process.例文帳に追加

鉛もしくは鉛合金スラブを圧延ロールプレス機で圧延してシートを作製し、前記シートを機械加工により格子とする鉛蓄電池用格子の製造方法において、圧延工程前あるいは／および工程中あるいは／および工程後に被圧延物に曲げ加工を施すことを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a fiber-reinforced resin composition to be molded to a molded product hardly causing thermal and mechanical degradation during a process and excellent in rigidity and impact resistance.例文帳に追加

工程での熱劣化や機械的劣化が起こりにくく、剛性及び耐衝撃性に優れた成形物となる繊維補強樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high mechanical strength and cleanability and excellent in mass productivity, and provide a process cartridge using the same and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

高い機械的強度とクリーニング性を有し、量産性に優れた電子写真感光体、これを用いるプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing process, the surface of the polishing pad is conditioned with at least by first and second conditioning disks whose surface conditions are different from each other.例文帳に追加

化学機械研磨工程の際、研磨パッドの表面を表面状態の異なる少なくとも第1および第２のコンディショニングディスクによりコンディショニングする。 - 特許庁

To provide a glassy carbon material having reduced mechanical characteristics, particularly stiffness, and capable of forming an intricate shape by a molding process.例文帳に追加

機械的性質、特に、剛性を低減し、かつ、成形加工により複雑な形状を製造することが可能な、ガラス状炭素材料を提供する。 - 特許庁

To provide a connecting method for steel material which reduces the time required for cooling process, and which is able to obtain joints having excellent mechanical property.例文帳に追加

冷却工程に要する時間を短縮でき、しかも、機械的特性に優れた接合継手が得られる鉄鋼材料の接合方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an MEMS (Micro Electro Mechanical System) device and a manufacturing method of an MEMS device, easily air-tight sealing an MEMS structure in a simple process.例文帳に追加

簡易な工程で容易にＭＥＭＳ構造体を気密封止することを可能とするＭＥＭＳデバイスおよびＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate the removal of a magnetic head in a manufacturing process, and to provide a magnetic head device having excellent mechanical bond strength as a final product.例文帳に追加

製造プロセスにおいては、磁気ヘッドの取り外しが容易であり、最終製品としては、機械的接合強度に優れた磁気ヘッド装置を提供する。 - 特許庁

There is assembled a push rod (1) mechanically pushed by a projecting pin plate of an injection molding mold or another mechanical means in each injection process.例文帳に追加

各射出工程において射出成形用金型の突出ピン板又は他の機械的手段によって機械的に押されるプッシュロッド（１）を組込む。 - 特許庁

To provide a biodegradable molding with excellent mechanical strengths, heat resistance, durability and capable of sterilization in a short period of time, and a process for preparing the same.例文帳に追加

機械的強度、耐熱性及び耐久性に優れ、短時間で滅菌可能な生分解性成形物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁