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object patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2025件
The texture of the texel value pattern, in response to a hit region or a sort of attack, is mapped at the time of occurrence of an event of a game where attack of other object hits to the object.例文帳に追加
オブジェクトに対して他のオブジェクトの攻撃がヒットするゲームイベントの発生時に、ヒット部位や攻撃の種類に応じたテクセル値パターンのテクスチャをマッピングする。 - 特許庁
To perform focus detection without depending on an object due to an object pattern or the like in a digital still camera which uses a color photographic sensor to perform phase difference type focus detection.例文帳に追加
カラー撮影センサを用いて位相差方式の焦点検出を行なうデジタルスチルカメラにおいて、被写体パターン等による被写体依存のない焦点検出を行なう。 - 特許庁
To understand the relative change of an object itself by accumulating activity state patterns of the object and calculating an activity state pattern for each predetermined period as needed.例文帳に追加
対象物の活動状況パターンを累積して所定期間ごとの活動状況パターンを随時算出することにより,対象物自身の相対的な変化を把握する。 - 特許庁
The SACP (selected area channeling pattern) method includes a step of sending a charged particle beam to the surface of an object by using the particle optical system, and a step of detecting particle strength of a particle discharged from the object.例文帳に追加
SACP法は、粒子光学系を用いて物体表面に荷電粒子ビームを向けるステップと、物体から放出した粒子の強度を検出するステップとを含む。 - 特許庁
This invention is achieved by improving an IC tester which provides an object to be tested with a test pattern and compares output of the object to be tested with an expected value to perform tests.例文帳に追加
本発明は、被試験対象に試験パターンを与え、被試験対象の出力と期待値とを比較し、試験を行うICテスタに改良を加えたものである。 - 特許庁
To reduce assembly man-hours and to obtain proper contact pressure against an object, by adapting to a minute pattern of the object or a signal electrode having many pins.例文帳に追加
組み立て工数を削減すると共に被測定物の微細なパターンまたは多ピン化された信号電極に適応しかつ被測定物に対する適切な接触圧を得ること。 - 特許庁
When the object pixel is not included in the coordinate range, the document image forming part forms the document image, by performing processing for superposing a transparent pattern on the object pixel 23.例文帳に追加
座標範囲に含まれない場合、原稿画像生成部は対象画素23に透かしパターンを重ね合わせる為の処理を行って原稿画像を生成する。 - 特許庁
To provide an image processor capable of realizing a fine shape and pattern on an object drawing attention of a game player even in a display object existing at the distance from a view point.例文帳に追加
視点より遠くにある表示対象物であっても遊技者の注目が注がれるものに微細な形状、模様を実現できる画像処理装置を提洪する。 - 特許庁
When an object is placed on the light receiving surface R, a linear pattern is projected by hologram reconstructing light to image a projection image to measure a three-dimensional shape of the object.例文帳に追加
受光面Rに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 - 特許庁
The defective candidate existing in an object 2 to be tested is extracted by photographing the second pattern 3a-2 transmitting/reflecting the object 2 to be tested and analyzing the photographed image.例文帳に追加
被検査物(2)を透過/反射した第2のパタン(3a−2)を撮像し、撮像した画像を解析することにより、被検査物(2)に存在する欠陥候補を抽出する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method wherein a viscosity of a liquid object is reduced and a stability in the ejection action for the liquid object is improved, and to provide a liquid droplet ejector.例文帳に追加
液状体の粘度を低下させるとともに、その液状体の吐出動作の安定性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern recognizing method capable of recognizing not only a two-dimensional object but also a three-dimensional object with variations of three-dimensional rotation, size and illumination conditions.例文帳に追加
二次元物体だけでなく、三次元的な回転、大きさ及び照明条件が変化する三次元物体をも認識することができるパターン認識方法を提供する。 - 特許庁
When the object pixel is not included in the coordinate range, a document image forming part forms the document image, by performing processing for superposing the transparent pattern on the object pixel 23.例文帳に追加
上記座標範囲に含まれない場合、原稿画像生成部は対象画素23に透かしパターンを重ね合わせる為の処理を行って原稿画像を生成する。 - 特許庁
To provide an exposure device or the like which enables an object of exposure to be exposed to light in a short time at a low cost when the exposure object is exposed to light through a mask with a variable exposure pattern.例文帳に追加
露光パターンを可変可能なマスクにより被露光対象物を露光する場合において、短時間化と低コスト化を図る露光装置等を提供する。 - 特許庁
To provide an image pattern detection technique capable of robustly detecting an object with high reliability from an image time series such that a scene is successively photographed, then separating the object from its background.例文帳に追加
継続的に情景を撮影した画像時系列から信頼性高くロバストに物体を検出して背景から分離できる画像パタン検出技術を提供すること。 - 特許庁
The device 1 three-dimensionally optically measures the object 2 using the topo-metric measuring method of recording and evaluating an image of a projected pattern projected on the object 2.例文帳に追加
物体2に投射された投射パターンの画像が記録及び評価されるトポメトリック測定方法を用いて、物体2の3次元光学測定を行う装置1が開示される。 - 特許庁
To provide a transferring mold which transfers a minute pattern to an object to be shaped by pussing it to the object and producing it with ease.例文帳に追加
被成形対象に押し当てることによって前記被成形対象に微細なパターンを転写する転写用の型であって、製造が容易である転写用の型を提供する。 - 特許庁
The irradiation control part 228 selects the light distribution pattern capable of suppressing glare in relation to the attention object when the attention object is extracted in the image frame data.例文帳に追加
照射制御部228は、画像フレームデータ内に注目物体を抽出した場合、当該注目物体に対してグレア抑制が可能な配光パターンを選択する。 - 特許庁
The photomask 1 contains quantum dots and has a protrusion on the surface opposite to an object 10 to be processed, the protrusion in a form according to the pattern to be transferred onto the object.例文帳に追加
フォトマスク1には量子ドットが含まれ、被処理体10と対向する面に、被処理体に転写すべきパターンに応じた形状で凸部が配置されている。 - 特許庁
A three-dimensional shape measuring apparatus 10 is the apparatus for measuring a three-dimensional shape of a measurement object by analyzing an optical pattern, projected onto the measurement object.例文帳に追加
三次元形状測定装置10は、計測対象に投影された光パタンを解析することによって、計測対象の三次元形状を計測する装置である。 - 特許庁
The peripheral part switches the change object pattern with the switching system, and if the data type shows the data for expectation value change, changes the expectation value which corresponds to the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.例文帳に追加
周辺部は変更対象パターンを切り替え方式で切り替え、前記データ種別が期待値変更用データを示す場合、変更対象パターンが示す検査値と一致する期待値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁
As the light 52 in a prescribed pattern is irradiated parallel to the object 48 of observation from each light transmitting part 32 via each microlens 34 in the endoscope 10, the light 52 is irradiated on the object 48 of observation in the prescribed pattern.例文帳に追加
内視鏡10では、各微小レンズ34を介して各光透過部32から観察対象48へ所定のパターンの光52が平行に照射されるため、光52が所定のパターンで観察対象48上に照射される。 - 特許庁
To provide an onboard object detecting device capable of preventing any erroneous detection at a part where a repeated pattern that the same pattern frequently appears such as a zebra crossing exists in an object detecting device using stereoscopic image processing.例文帳に追加
ステレオ画像処理による物体検知装置において、横断歩道のように同じ模様が多数現われる繰返しパターンが存在する部分における誤検出を解消できる車載用物体検知装置を提供する。 - 特許庁
The first pattern is projected to an object to be measured T by a projecting device 11, and the second pattern is projected to the object to be measured T by an auxiliary projecting device 12 comprised of a light source 121 of a laser or the like and a half mirror 122.例文帳に追加
第1パターンは投影装置11により計測対象Tに投影され、また第2パターンはレーザーなどの光源121およびハーフミラー122により成る補助投影装置12により計測対象Tに投影される。 - 特許庁
To provide a sewing machine capable of finding the location of an embroidery pattern on a sewing object by use of the image photographing the sewing object even when a size of the embroidery pattern exceeds the photographic range of a photographing means.例文帳に追加
刺繍模様の大きさが撮影手段の撮影範囲を超える場合であっても、刺繍模様の縫製対象物上の配置を、縫製対象物を撮影した画像を利用して確認することができるミシンを提供すること。 - 特許庁
The workstation 3 superimposes the Penrose tile pattern of the reference picture and the Penrose tile pattern of the sample LSU 21 (the object picture) through a microscope to calculate the displacement quantity between the reference picture and the object picture.例文帳に追加
画像処理用ワークステーション3は参照画像のペンローズタイルパタンと顕微鏡2を介して得られた試料LSI21(対象画像)のペンローズタイルパタンとを重ね合わせて参照画像と対象画像との位置ずれ量を算出する。 - 特許庁
Then, a phosphor that is selected from the plurality of light sources 1 and 2 is allowed to emit light, and the light is applied to a target object 4 via the pattern board 3, thus projecting a different pattern to the target object 4.例文帳に追加
そして、上記複数の光源1、2から選択された発光体を発光させ、上記パターン板3を介して対象物体4に光を照射することにより、該対象物体4に対して異なるパターンを投影する。 - 特許庁
An inspecting optical system 7 contains a grid projection optical system 2 for projecting a grid pattern 3 on a cylindrical object 4, and a line sensor camera 5 for photographing the pattern 3 deformed by the shape of the object 4.例文帳に追加
検査光学系7内には、格子パターン3を円筒状被検物4に投影する格子投影光学系2と、この円筒状被検物4の形状により変形した格子パターン3を撮像するラインセンサカメラ5が設けられている。 - 特許庁
To provide an information processing system and an information processing program, capable of detecting the movement history of a reading part for reading an object on the object without forming a position detecting pattern or image on a surface of the object.例文帳に追加
対象物の表面に位置検出用のパターン、又は画像を形成することなく、対象物を読み取る読取部の対象物上での移動履歴を検出できる情報処理システム、情報処理プログラム。 - 特許庁
To provide a punching device capable of accurately punching a tape- form object according to a specified punching pattern by dissolving the slack of the tape-form object between a delivery mechanism and a winding mechanism to hold the punched area of the tape-form object in a straight line.例文帳に追加
繰出し機構と巻取り機構間のたるみを解消して、テープ状物の穿孔エリアを直線状に保持し、所定の穿孔パターンで正確に穿孔することができる穿孔装置を提供する。 - 特許庁
To provide a punching device capable of accurately punching a tape- form object according to a specified punching pattern by dissolving the slack and meandering of the tape-form object between a delivery mechanism and a winding mechanism to hold the punched area of the tape-form object in a straight line.例文帳に追加
繰出し機構と巻取り機構間のたるみ、蛇行を解消して、テープ状物の穿孔エリアを直線状に保持し、所定の穿孔パターンで正確に穿孔することができる穿孔装置を提供する。 - 特許庁
This measuring instrument acquires image data as to a first graphic pattern and a second graphic pattern concerned in a single measuring object, and extracts respectively the feature portion of the first graphic pattern and the feature portion of the second graphic pattern from the image data.例文帳に追加
この計測装置では、単一の計測対象にかかる第一図形パターンおよび第二図形パターンについて画像データがそれぞれ取得され、これらの画像データから第一図形パターンの特徴部分および第二パターンの特徴部分がそれぞれ抽出される。 - 特許庁
This three-dimensional shape measuring system is a pattern-projecting device, using emission from a stroboscope of a camera as a light source, transmitting light through a pattern mask, and projecting a three-dimensional position detection pattern to an object, and the pattern-projecting device is mountable on the camera and dismountable therefrom.例文帳に追加
本発明の三次元形状計測システムは、カメラのストロボの発光を光源とし、パターンマスクを透過させて、被写体に三次元位置検出用パターンを被写体に投影するパターン投影装置であって、該パターン投影装置はカメラに対して着脱可能とした。 - 特許庁
The measuring device is characterized by comprising: an image acquisition means for acquiring image data on an object having a prescribed pattern; a measuring means for measuring the size of a plurality of parts of the pattern in the image data; and a pattern statistic amount computing means for computing the amount of pattern statistics according to the object for measurement on the basis of a plurality of measured measurement values.例文帳に追加
所定パターンを有する対象物の画像データを取得する画像取得手段と、前記画像データにおける前記パターンの複数箇所の寸法を計測する計測手段と、前記計測された複数の計測値に基づいて、計測目的に応じたパターン統計量を算出するパターン統計量算出手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
A made characteristic vector is checked with a standard pattern stored in a pattern dictionary, the standard pattern, having a distance near an input pattern in a characteristic quantity space is selected, only a character corresponding to the designated recognizing object character set among the selected standard pattern is selected, and is used as a recognizing result.例文帳に追加
作成された特徴ベクトルを、パターン辞書に格納されている標準パターンと照合して、特徴量空間において入力パターンと近い距離を持つ標準パターンを選択し、当該選択された標準パターンのうち上記指定された認識対象文字集合に該当する文字のみを選択して認識結果とする。 - 特許庁
Further, image presentation is performed in which at least one pattern of the plurality of patterns is temporarily stopped, and the one pattern is configured such that the objects included in the object group are sequentially slid one by one from the player side in the same direction as the pattern variation, and its display pattern is changed to be different from its original pattern.例文帳に追加
そして、これらの図柄のうち少なくとも一つの図柄を仮停止させて、その図柄について当該オブジェクト群に含まれるオブジェクトを遊技者側から一つずつ順に図柄変動と同方向に滑り落としていく画像演出を行い、もとの図柄と異なる表示態様に変更する。 - 特許庁
In the case of changing an accessory pattern Zs, by changing the accessory pattern Zs corresponding to one of permutation patterns Zj displayed at a big object pattern display device 42, the accessory pattern Zs to be changed is easily recognized by a player at the time of changing the accessory pattern Zs.例文帳に追加
付属図柄Zsの変更を行う場合に、大物図柄表示装置42に表示されているいずれかの順列図柄Zjに対応した付属図柄Zsを変更することにより、付属図柄Zsを変更する際に変更される付属図柄Zsを遊技者に認識し易くすることができる。 - 特許庁
The measurement pattern is used for formation of contact and via holes over a diffusing layer and an underlay wiring layer from a photoresist, and the pattern includes a first pattern 16 as an object of length measurement by a length measurement SEM and a second pattern 17 laid apart from the first pattern 16 and used for aligning and focusing the length measurement SEM.例文帳に追加
拡散層および下層配線上にそれぞれコンタクトおよびビアをフォトレジストで形成する際の測長パターンであって、測長SEMの測長対象となる第1パターン16と、該第1パターン16と離間して設けられ、測長SEMの位置および焦点合わせに用いられる第2パターン17と、を含む。 - 特許庁
An object resist pattern and a thin-film transistor, utilizing the pattern can be made, by forming a recess 7 in the vicinity of a transformed resist pattern 48 in advance, and checking the spread of the transformed resist pattern with the barrier of the recess 7, and thereby guiding, suppressing, and controlling the transformation of the transformed resist pattern 48.例文帳に追加
変形レジストパターン48の近傍に予め凹部7を形成しておき、その凹部7の障壁部により変形レジストパターン48の広がりを堰き止めることにより、その変形レジストパターン48の変形を誘導、抑制、制御することで、目的とするレジストパターン及びそのパターンを利用した薄膜トランジスタを形成出来る。 - 特許庁
The projection optical system for projecting a pattern formed on a first object onto a second object has a field diaphragm provided on the nearest optical element to the second object in the projection optical system, for shielding the outside of a region of the second object, where the pattern is projected during projection.例文帳に追加
第一の物体に形成されたパターンを第二の物体に投影する投影光学系において、当該投影光学系の前記第二の物体に最も近い光学素子に設けられ、前記投影時に前記第二の物体の前記パターンが投影される領域の外部を遮蔽するための視野絞りを有することを特徴とする投影光学系を提供する。 - 特許庁
An operation control part 120 controls the on/off state of an optical switch part 104 with a pattern scanning a measuring object 102.例文帳に追加
演算制御部120は、測定対象102を走査するパターンで光スイッチ部104のオン、オフを制御する。 - 特許庁
The method relates to the exposure and transfer of a transfer pattern to an object to be transferred by an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加
本方法は、電子線描画装置により露光して、転写元パターンを被転写体に転写する方法である。 - 特許庁
This image processor changes the display pattern of a virtual object on the basis of the positional relations of real objects.例文帳に追加
本発明の画像処理装置は、実オブジェクトの位置関係に基づいて、仮想オブジェクトの表示パターンを変化させる。 - 特許庁
To excellently release an object to be molded to which a predetermined pattern is transferred without separately providing a release layer to a mold.例文帳に追加
モールドに、別途、離型層を設けることなく所定のパターンを転写した被成形物を良好に離型する。 - 特許庁
To form a drawing pattern with high accuracy by appropriately correcting a drawing position according to deformation of a drawing object such as a substrate.例文帳に追加
基板等の被描画体の変形に応じて描画位置を適切に補正し、精度よく描画パターンを形成する。 - 特許庁
First of all, the information of a retrieval object is stored in a dictionary memory 40 together with a pattern index made into binary code.例文帳に追加
まず、検索対象の情報を、2進符号化したパターン・インデックスと共に辞書メモリ140に格納しておく。 - 特許庁
To remove a dithering pattern which appears for an observer who observes a moving object in an image.例文帳に追加
画像中の動く対象を観察している観察者に対して現れるディザパターンを除去することを目的とする。 - 特許庁
A predictive coding section 2 performs predictive coding of an object area using the predicted value calculated based on the prediction pattern.例文帳に追加
予測符号化部2は、予測パターンに基づいて算出された予測値を用いて、対象領域の予測符号化を行う。 - 特許庁
To measure the deformation process of the local area, a soft fabric with a grating pattern thereon is affixed to the object.例文帳に追加
局所領域の変形過程の計測のためには、格子模様が描かれた柔軟な生地を対象に貼り付ける。 - 特許庁
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