「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical device and a microscope whose resolution is excellent and whose sectioning effect is excellent, by which time required until obtaining an output image is shortened and the inside of an object to intensively scatter light is observed without adding a fluorescent pigment and is observed by excellent resolution without being affected by vibration or the like and also the lamination structure of an IC pattern formed on a semiconductor wafer is observed.例文帳に追加

高解像でセクショニング効果が高く、出力画像を得るまでの時間を短縮化でき、光を強く散乱する物体の内部を、蛍光色素を付加することなく観察可能で、振動等に強く高解像で観察可能であり、更に、半導体ウエハー上に形成されたＩＣパターンの積層構造をも観察可能な光学装置及び顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

Alternatively or additionally, the user may trace (or free-draw) the profile of a known image and subsequently map a shape-definer of mathematical functions, such as a polynomial equation, a spline or a vector onto the estimated profile, in order to obtain a profile and one or more variables of that profile that can be used to reconstruct the profile of an unknown object from its diffraction pattern.例文帳に追加

あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 - 特許庁

The cast molded object consists of a gel coat layer formed at least on the surface side of a product, a printing sheet impregnation layer formed by laying the printing sheet having a predetermined pattern printed thereon to impregnate the same with a resin before the resin of the gel coat layer is cured and an injection resin layer formed by casting an injection resin on the printing sheet impregnated layer.例文帳に追加

少なくとも製品表面側に形成されたゲルコート層と、該ゲルコート層の樹脂が硬化する前に所定の模様が印刷された印刷シートを敷設して樹脂含浸させることにより形成された印刷シート含浸層と、該印刷シート含浸層上に注入樹脂を注型することにより形成された注入樹脂層とからなることを特徴とする。 - 特許庁

A cooling element 6 can cool an imaging element 4 for imaging an object, a count means 9 counts the number of luminance values within a preset range among luminance values per pixel in an image of one image pattern imaged by the imaging element 4 and a cooling amount by the cooling element 6 is controlled on the basis of the count of the count means 9.例文帳に追加

被写体を撮像する撮像素子４を冷却素子６により冷却可能にしたものであって、撮像素子４により撮像される１画面の画像中の１画素ごとの輝度値のうち、あらかじめ設定された範囲の輝度値の数をカウント手段９でカウントし、このカウント手段９のカウント値に基づいて冷却素子６による冷却量を制御する。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method that can correct in a simple way and in a short period of time deformation of a drawing pattern of an object of drawing that may occur in a light beam system, or to provide a display panel board manufacturing apparatus or a display panel board manufacturing method that can achieve a high throughput by using the exposure device or the exposure method.例文帳に追加

本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。 - 特許庁

Then the calculation accuracy of the OPC object pattern is determined based on the adjusted area data and OPC additional calculation is carried out to generate mask data.例文帳に追加

ＯＰＣ精度が必要な領域と必要ではない領域の境界部分で精度が必要な領域を精度の高い領域に適した領域分拡張し、精度が必要ではない領域は精度の高い領域に適した領域分縮小する領域調整を行って、調整された領域データに基づいてＯＰＣ対象パターンの計算精度を決めてＯＰＣ付加計算を行ってマスクデータを生成する。 - 特許庁

This system includes: a checking server for collecting response information corresponding to a preset instruction word from a service server being an external attack object, and for checking and analyzing the vulnerable point of the service server on the basis of the response information; a management terminal unit for displaying the check and analytic result; and a database for storing and managing pattern information to cope with the brittle point corresponding to each service server.例文帳に追加

外部の攻撃対象となるサービスサーバーから，予め設定された命令語に対する応答情報を収集し，これを基にサービスサーバーの脆弱点を点検及び分析する点検サーバー，前記点検及び分析結果をディスプレイする管理端末機及び，サービスサーバーごとにそれに相応する脆弱点に対するパターン情報を保存管理するデータベースを含むシステム。 - 特許庁

An irregular control is exercised so that a rotational acceleration of at least any one of three reels is lowered than the other rotational accelerations, and a pattern corresponding to a lottery result is selected from among a plurality of reel starting patterns different in the reel or a reel combination, which is taken as an object to be irregularly controlled, so as to make announcement of winning establishment information on a prizewinning mode.例文帳に追加

３つのリールのうち、少なくとも何れか１つの回転加速度を、他の回転加速度よりも低くするような変則制御を実施させ、変則制御の対象となるリール又はリール組合せの異なる複数のリール始動パターンの中から、抽選結果に対応するパターンを選択させることで、入賞態様についての当選成立情報を報知させるようにした。 - 特許庁

This character processor has a display control means which displays a drawing display area where a dot pattern is drawn discriminatingly from an outside display area provided outside it and also displays as a cursor guide the part of longitudinal segments positioned in the outside display area of longitudinal segments passing a cursor representing an operation object dot in the drawing display area.例文帳に追加

本発明の文字情報処理装置は、ドットパターンを描画させる描画表示エリアを、その外側に設けられた外側表示エリアと区別して表示させると共に、描画表示エリア内の操作対象ドットを表すカーソルを通る縦横線分のうち外側表示エリアに位置する当該縦横線分の部分をカーソルガイドとして表示させる表示制御手段を有する。 - 特許庁

The adapter main body 10 is provided with an insulating substrate 12, terminal electrodes 14 formed on one face of the insulating substrate 12 at the prescribed pattern, and connector electrodes 16 formed on the other face of the insulating substrate 12 at least at positions corresponding to check sections of an object circuit board, electrically connected to the terminal electrodes 14 and having ferromagnetism and conductivity.例文帳に追加

アダプタ本体１０は、絶縁性基板１２と、絶縁性基板１２の一方の面上に所定パターンで形成された端子電極１４と、絶縁性基板１２の他方の面上において少なくとも検査対象回路基板の被検査部に対応する位置に形成され、端子電極１４と電気的に接続され、かつ、強磁性および導電性を有するコネクタ電極１６と、を有する。 - 特許庁

A drawing area including an object image for drawing represented by an initial drawing data in a raster format, which is converted from a pattern data in a vector format, is virtually divided into a plurality of mesh areas; and in each of the plurality of mesh areas, a division drawing data correlating the arrangement position in the drawing area and the drawing contents at the arrangement position is created.例文帳に追加

ベクター形式のパターンデータから変換されたラスター形式の初期描画データが表現する描画対象画像を含む描画領域を、複数のメッシュ領域に仮想的に分割し、複数のメッシュ領域の各々について、描画領域における配置位置と当該配置位置における描画内容とを関連づけた分割描画データを生成しておく。 - 特許庁

A radiation 2 not passing through an object 3 is detected via a moving grid 4 by changing emitting times in a plurality of ways, a mask image signal denoting a pattern of uneven density by the grid 4 for each emission time is obtained, and this mask image signal is stored in a storage means in cross-reference with the emission time, when the mask image signal is obtained.例文帳に追加

被写体３を透過させない放射線２を、照射時間を複数通りに変えてムービンググリッド４を介して検出し、この検出した放射線量に基づいて、照射時間の各々毎のグリッド４による濃度ムラのパターンを示すマスク画像信号を得、このマスク画像信号を、それを得た際の前記照射時間と対応を取って記憶手段に記憶する。 - 特許庁

To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁

This spike reduction circuit for inspecting the organic EL panel inputs a signal from the each pixel of the organic EL panel driven by an inspection driving pattern, limits an upper limit value and/or a lower limit value of the signal to reduce a spike portion included in the signal, and restrains only the spike component without affecting the signal component of the measuring object, by outputting the signal component as it is.例文帳に追加

有機ＥＬパネル検査用スパイク低減回路は、検査用駆動パターンによって駆動される有機ＥＬパネルの各ピクセルからの信号を入力し、当該信号の上限値及び／又は下限値を制限して信号に含まれるスパイク分を低減し、信号成分はそのまま出力することで、測定対象である信号成分に影響を与えることなくスパイク成分のみを抑制する。 - 特許庁

This action detector for detecting the action of an object to be monitored, has a sensor for detecting acceleration or vibration; a comparing means for comparing the detection data of the sensor with a prescribed threshold or pattern; an event code data storing means for storing predetermined event code data; and an event code data transmitting means for transmitting event code data on the basis of the compared result of the comparing means.例文帳に追加

本発明の動作検知装置は、被監視対象の動作を検知するための装置であって、加速度あるいは振動を検出するセンサと、センサの検出データを、所定の閾値あるいはパターンと比較する比較手段と、予め設定されたイベントコードデータをストアするイベントコードデータストア手段と、比較手段の比較結果に基づいてイベントコードデータを送信するイベントコードデータ送信手段とを有する。 - 特許庁

The exposure mask is used to irradiate an object to be processed with light from a light irradiating device to form a pattern, and the mask comprises a photocatalyst layer 101 formed of a photocatalyst that develops a catalytic function by light from the light irradiating device and a light shielding layer 102 in contact with the photocatalyst layer and having an opening to selectively block the light from the light irradiating device.例文帳に追加

光照射装置から光を照射し、被処理物にパターンを形成する際に用いる露光用マスクであって、 前記光照射装置からの光によって触媒機能を発現する光触媒によって形成された光触媒層１０１と、 前記光触媒層に接し、前記光照射装置からの光を選択的に遮光する開口が形成された遮光層１０２と、を備えている構成とする。 - 特許庁

There is provided a method for inspecting variation in grain size of fine particles in an inspection object containing homogeneous fine particles, the method comprising the steps of: using a liquid in which the fine particles are dispersed in a solvent for electrophoresis using a separation medium which serves as a sieve; and inspecting variation in grain size of the fine particles from an electrophoretic pattern after the electrophoresis.例文帳に追加

本発明の方法は、均質な微小粒子を含んでいる検査対象における当該微小粒子が有している粒度のばらつきを検査する方法であって、上記微小粒子が溶媒に分散している液体を、ふるいとして機能する分離媒体を用いた電気泳動に供する工程と、上記電気泳動後の泳動パターンから上記微小粒子の粒度のばらつきを検査する工程とを包含している。 - 特許庁

The exposure apparatus projects and exposes a pattern formed on a reticle using EUV light on an object to be processed through a projection optical system, illuminates the mark with second light whose wavelength differs from that of the EUV light, and comprises a detection means to detect the information about the position of the mark by receiving the second light from the mark through the projection optical system.例文帳に追加

ＥＵＶ光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、 前記露光装置は、前記ＥＵＶ光とは異なる波長の第２の光でマークを照明し、該マークからの前記第２の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁