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object patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2025件
The pattern image is supplied to an arithmetic processor 16 which calculates the three-dimensional shape of the object to be measured by using an optical axis crossing angle α with the projector 10 and the CCD camera 12.例文帳に追加
パターン像は演算処理装置16に供給され、演算処理装置16はプロジェクタ10とCCDカメラ12の光軸交差角度αを用いて被測定物の3次元形状を算出する。 - 特許庁
In the method of exposure using the stencil mask stated above, the mask pattern is accurately imprinted on the object to be exposed in such a way as to cancel the mask distortion based on the measurement result of the mask-distortion measurement marks 4.例文帳に追加
上記のステンシルマスクを用いた露光方法では、マスク歪計測用マーク4の計測結果に基づいて、マスク歪を相殺するようにして被露光体に正確にマスクパターンを転写する。 - 特許庁
A change in the pattern of suction according to the size of the substrate can fix the substrate with suction down to the periphery thereof irrespective of the dimensions of the substrate as an object of suction.例文帳に追加
基板サイズに合わせて吸着パターンを変更することにより、吸着する対象である基板の寸法に関わらず、基板の外周まで吸着した状態で固定することができる。 - 特許庁
A certain amount of the inspection object supplied to an instruction section 25a as a part of the inspection pattern constitution section 25 is absorbed by a holding section 25g formed of many arranged projections by capillarity.例文帳に追加
検査パターン構成部25の一部である導入部25aに供給された検査対象は、そのうちの一定量が、突起を多数配置して成る保持部25gに、毛細管現象により吸収される。 - 特許庁
To suppress a measuring error caused by a change in the spot position of reflection light occurring when making luminous flux impinge on a fine pattern having line width that is nearly the same as a light source wavelength on an object to be examined.例文帳に追加
被検物上の光源波長と同程度の線幅を持つ微細パターンに光束を入射した場合に生じる、反射光のスポット位置変化に起因する測定誤差を抑制する。 - 特許庁
A drawing processing part 33 performs the drawing by determining which image element of a new drawing object or an image drawn before is to be drawn on the basis of the acquired drawing pattern 23.例文帳に追加
描画処理部33は、取得された描画パターン23に基づいて新たな図形オブジェクトの各画素またはそれ以前に描画されていた画像のいずれかを描画するか否かを判定して描画を行う。 - 特許庁
When a direction for taking a single shot of an object is issued, a similar image retrieving unit, first of all, retrieves an image memory for similar image data whose image pattern is similar to that of image data formed by a signal processing circuit.例文帳に追加
単写撮影指示がなされると、類似画像検索部は、まず、信号処理回路によって生成された画像データに画像パターンが類似する類似画像データを画像メモリから検索する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for drawing a pattern with a photocurable coating material by which the quality of the design to be drawn on the surface of an object can be improved and the productivity of the drawing can be improved.例文帳に追加
描画対象物の表面に描画される意匠図の品質および描画の生産性を向上させることができる光硬化性塗料描画装置およびその方法を提供する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED OBJECT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, INSULATING PROTECTIVE COATING FILM, PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、絶縁保護被膜、感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 - 特許庁
To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加
第1に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第2に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁
This calibration pattern unit for acquiring correction information for an imaging system by image pick-up by the imaging system is put on a plurality of planes or one or more of curved face(s) arranged three-dimensionally to provide a calibration pattern 5-2 or 5-3 formed with a prescribed pattern within a range having a shape substantially same to an object imaged by the imaging system.例文帳に追加
撮像系により撮像することによって当該撮像系の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上または一つ以上の曲面上において、上記撮像系の撮像する対象物と概ね同形状を有する範囲に所定のパターンが形成されたキャリブレーションパターン5−2又は5−3を有するよう構成する。 - 特許庁
In this semiconductor test device for executing the test by forwarding plural test patterns to a device to be measured via test pattern memories 702, 703, following the measurement sequence by the test program in order to execute the function test of the semiconductor device 704 which is measuring object, the measurement sequence is changed so that the number of times of test pattern transfer between pattern memories in the semiconductor test device becomes minimum.例文帳に追加
測定対象となる半導体デバイス704 の機能テストを行うためにテストプログラムによる測定シーケンスにしたがって複数のテストパターンをテストパターンメモリ702,703 を介して被測定デバイスに転送し、テストを実行する半導体テスト装置において、半導体テスト装置内のパターンメモリ間におけるテストパターンの転送回数が最小になるように測定シーケンスを変更する。 - 特許庁
When the presence of an obstacle is determined, the reception power of received waves is acquired at a predetermined control period and taken as reception power time-series data and compared with a threshold range pattern preset on the basis of the phase interference of wave motion dependent on the height of the object from a road to determine whether the object is an object on the road or not at a secondary determination module 54.例文帳に追加
対象物が有ると判断されると受信波の受信パワーを予め定めた制御周期で取得して受信パワー時系列データとし、これを対象物の路上からの高さに依存する波動の位相干渉に基づいて予め設定された閾値範囲パターンと比較して、対象物が路上障害物が否かの判断を2次判断モジュール54において行う。 - 特許庁
Focusing is performed by using the spatial optical modulator constituted to include a plurality of mirrors set so that the inclination of their reflection surfaces can be independently controlled, radiating light in which a mirror pattern carried on the spatial optical modulator is reflected to an object, detecting reflected light on the object and moving the object in accordance with the blur condition of a detected light image.例文帳に追加
反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーを含んで構成される空間光変調器を使用し、前記空間光変調器に担持されるミラーパターンを反映した光を対象物に照射し、前記対象物での反射光を検出し、その検出された光像のぼけ具合に応じて前記対象物を移動させることによりフォーカス合わせを行う。 - 特許庁
When the specific performance pattern is selected, the performance control board causes the decorative movable object to move from the initial position to the operating position and causes a return operation to be performed to return the decorative movable object to the initial position at prescribed timing after the decorative movable object is moved to the operating position, and the return operation is sometimes performed over the next symbol variation.例文帳に追加
演出制御基板は、特定の演出パターンを選択したとき、装飾可動物を初期位置から作動位置へと移動させると共に、装飾可動物が前記作動位置へ移動した後には所定のタイミングで装飾可動物を初期位置へと戻す復帰動作を行わせるものであり、その復帰動作は、次回の図柄変動に跨って行われることがある。 - 特許庁
An improved device for determining 3D coordinates of an object 1 has a projector 10 for projecting a pattern to the object 1, a camera 11 connected with the projector 10 for imaging the object 11, and a reference camera 16 connected with the projector 10 and the camera 11 for imaging one or more reference marks 6 and 24 in a field 25 of the reference mark 6.例文帳に追加
対象物1の3次元座標を決定するための改良された装置は、対象物1にパターンを投影するプロジェクタ10と、上記プロジェクタ10に結合され、対象物1を撮影するカメラ11と、上記プロジェクタ10、およびカメラ11に結合され、リファレンスマーク6のフィールド25の1つ以上のリファレンスマーク6,24を撮影するリファレンスカメラ16とを備える。 - 特許庁
The reflection type projection optical system which projects a pattern arranged on an object surface to an image surface through a reflection mirror is telecentric on both of the object surface side and the image surface side, and the object surface and the image surface are arranged to be inclined to a plane perpendicular to an optical axis of the reflection type projection optical system so as to satisfy the Scheimpflug condition.例文帳に追加
本発明は、物体面に配置されたパターンを反射鏡を介して像面に投影する反射型投影光学系であって、前記物体面側と前記像面側との両方でテレセントリックであり、かつ、前記物体面と前記像面とを、シャインプルーフの条件を満たすように、前記反射型投影光学系の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾けて配置した。 - 特許庁
A chart pattern image 2 is emitted from a reference point to a plurality of points on an object face Oj to be focused on a plurality of measuring points determined on the object face, a reflected image from each point is photoelectrically detected at a conjugate point of the reference point, and a flatness of the object face Oj is measured on the basis of the detected value.例文帳に追加
対象面Oj上の複数の点に対して基準点からチャートパターン像2を出射して前記対象面に設定した複数の測定点において結像させると共に、各点からの反射像をそれぞれ前記基準点の共役点において個々に光−電気的に検出し、その検出値に基づいて前記対象面Ojの平面度を測定すること。 - 特許庁
In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加
空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁
A section data filtering apparatus has: an input buffer 101; a command list table 107 which records identification information identifying section data; a section buffer 103 for storing object data extracted from the input buffer 101 based on the identification information; a comparator 105 for comparing the object data with pattern data stored in a pattern memory 104; a control circuit 102; and a command list control circuit 108.例文帳に追加
セクションデータフィルタリング装置は、入力バッファ101と、セクションデータを識別する識別情報を記録するコマンドリストテーブル107と、識別情報に基づき、入力バッファ101から抽出された対象データを格納するセクションバッファ103と、該対象データと、パターンメモリ104に格納されているパターンデータと、を比較する比較器105と、制御回路102と、コマンドリスト制御回路108を有する。 - 特許庁
The method of manufacturing the structure having the uneven pattern includes a coating step of coating to a processing object a liquid (a) containing first particles and a matrix material composed of a material different from the first particles; a removal step of removing the first particles; and an etching step of forming the uneven pattern by etching a processing object with the matrix material as an etching mask.例文帳に追加
本発明の凹凸パターンを有する構造体の製造方法は、第一の粒子と、前記第一の粒子と異なる材料からなるマトリクス材とを含む液体(a)を被加工体上に塗布する塗布工程と、前記第一の粒子を除去する除去工程と、前記マトリクス材をエッチングマスクとして前記被加工体をエッチングして凹凸パターンを形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
In the case of encoding multi-value image data 10 greater than binary data per pixel, an encoding pattern definition section 4 judges whether a data value being an encoding object exists before and, when the data value does exist before, defines an encoding pattern 11 denoting a tendency of data indicating how many objective data values exist before.例文帳に追加
1ピクセルに対し2値より大きい多値画像データ10を符号化するときに、符号化パターン定義部4であらかじめ符号化の対象となるデータ値が以前に存在したか否と、以前に存在した場合、そのデータ値がいくつ前に存在したかを示すデータの傾向を示す符号化パターン11を定義する。 - 特許庁
A pattern element showing an operation summary to be executed in a pseudo program performing multi-task communication with a test object program is disposed on a scenario chart editing screen by use of a scenario chart editing means 101, and details of an operation shown by the pattern element is input to form a scenario chart.例文帳に追加
シナリオチャート編集手段101を用いて、シナリオチャート編集画面上に、試験対象プログラムとマルチタスク通信を行う擬似プログラムにおいて実行されるべき動作概要を表す図形要素を配置するとともに、前記図形要素が表す動作の詳細を入力し、シナリオチャートを作成する。 - 特許庁
In accordance with the information of a moving state between first image data and second image data which are acquired by an acquisition means (encoder or the like) acquiring the information of a moving state of an object indirectly or by estimation, the size of the template pattern in a moving direction is variably set to perform pattern matching processing.例文帳に追加
物体の移動状態の情報を間接的又は推定によって取得する取得手段(エンコーダ等)で取得された第1画像データと第2画像データとの間での移動状態の情報に応じて、移動方向におけるテンプレートパターンのサイズを可変に設定して、パターンマッチング処理を行なう。 - 特許庁
The output value of a light receiving element obtained by irradiation with light when a reflection object is not in the detection area of the optical sensor, is deducted from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected, to remove a crosstalk voltage component from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected.例文帳に追加
階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、光学センサの検知領域に反射物がないときに、光を照射して得られた受光素子の出力値を差し引き、階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、クロストーク電圧成分を除去する。 - 特許庁
A notice content pattern is configured such that the rank of a notice image to be executed does not become lower in the succeeding variation cycle than in the previous variation cycle before and after an object variation cycle and the rank of the notice image to be executed in each variation cycle can be specified regardless of the number of the variation cycles configuring the step notice performance by one pattern.例文帳に追加
予告内容パターンは、対象とする変動サイクルの前後で後の変動サイクルで前の変動サイクルよりも実行させる予告画像のランクが低くならない、且つ1つのパターンで段階予告演出を構成する変動サイクル数にかかわらず各変動サイクルで実行させる予告画像のランクを特定可能にした。 - 特許庁
To provide a highly ductile sheet material able to simply and finely be adhered to an object with many curved parts with a small radius of curvature even though it has a fine and elaborated picture pattern by means of fully increasing a ductility of a base not accompanied with a failure of an appearance of the picture pattern comprising mesh points.例文帳に追加
網点よりなる図柄の外観不良を伴わずにベースの延性を十分に増大させるようにして、微細できめの細かい図柄を有するにも拘わらず、曲率半径の小さなアール部が多い対象物に対しても簡単かつ綺麗に貼り付けることができる多延性シート材を提供する。 - 特許庁
A test pattern is written on a carrying belt 2 by an LD that is a correction object (S1), the written test pattern is read by a sensor not shown, which is disposed oppositely to the carrying belt 2 (S2), and a relative slippage of dots is detected to acquire lighting phase information between LDs (light sources) is acquired (S3).例文帳に追加
搬送ベルト2上に補正対象となるLDによってテストパターンを書き込み(S1)、書き込まれたテストパターンは図示搬送ベルト2に対向した配置された図示しないセンサによって読み取られ(S2)、ドットの相対的なズレが検出され、LD(光源)間の点灯位相情報が取得される(S3)。 - 特許庁
In a reference pattern extraction method, a reference pattern having a unique signal feature is extracted in a region to be measured having an area that is smaller than that of a prescribed region optionally set into the prescribed region on an object having a plurality of prescribed regions where essentially identical machining is made.例文帳に追加
実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。 - 特許庁
A stripe pattern 1 having light and shade patterns set such that a reflected image by a surface of a transparent tabular body and a reflected image by a rear face of the transparent tabular body are separated in an image signal acquired by imaging is determined as a stripe pattern suiting the transparent tabular body 3 (an object to be inspected).例文帳に追加
まず、透明板状体3(被検査物体)に適するストライプパターンとして、透明板状体の表面による反射像と透明板状体の裏面による反射像とが、撮像によって得られた画像信号では分離するように設定された明暗のパターンを有するストライプパターン1を決定する。 - 特許庁
Thereafter, operation order comparing processing is carried out (S55); and when the drawn operation order coincides with the operation order operated by the player (S56), a pattern "VVV" is stationarily displayed in an identification pattern display area 10b, to open the impeller members 14a and 14b of a normal electric role object 14.例文帳に追加
その後、操作順序比較処理を行ない(S55)、抽選による操作順序と遊技者により操作された操作順序とが一致していると(S56)、識別図柄表示領域10bに図柄“VVV”が停止表示され、普通電動役物14の羽根部材14a,14bが開状態になる。 - 特許庁
A dead zone area preparing means 15 prepares a neighborhood area in a periphery of an area corresponding to the sample pattern 12 of an original image 11, and prepares a dead zone area excepting a processing object in at least one side out of outer and inner sides of a boundary part between the sample pattern 12 and the neighborhood area.例文帳に追加
不感帯領域作成手段15は、原画像11のサンプル図形12に対応する領域の周囲に近傍領域を作成するとともに、サンプル図形12と近傍領域との境界部よりも外側および内側のうち少なくともいずれか一方に、処理対象から除外される不感帯領域を作成する。 - 特許庁
Whether it is possible to satisfy a specified dynamic restricting condition or not in generating target gait pattern after a specified point of time is determined when a track of the action force between the robot and the object changes to a track different from a target track at the specified point of time in the future in generating the new target gait pattern.例文帳に追加
新たな目標歩容を生成するとき、将来の所定時点でロボット・対象物間の作用力の軌道が目標軌道と異なる軌道に変化したとして、該所定時点以後の目標歩容を生成した場合に所定の動力学的制約条件を満たすことができるか否かを判断する。 - 特許庁
A loop part of a shielded-loop antenna is constituted by a conductive pattern and an interlayer connection part in such a manner that a loop surface of the loop part of the shielded-loop antenna is parallel to the thickness direction and the conductive pattern with a gap is parallel to a surface of the multilayer substrate that faces an object to be measured and is perpendicular to the thickness direction.例文帳に追加
そして、シールデッドループアンテナのループ部分がなすループ面が厚み方向に平行となり、測定対象に対向させる多層基板の厚み方向に垂直な表面に対してギャップを有する導体パターンが平行となるように、ループ部分が導体パターン及び層間接続部により構成されている。 - 特許庁
It is so constituted that the combination pattern of the specific symbols out of the combination patterns of the symbols which can be selected in the first mode is omitted from the object of selection in the second mode and the symbols are not stopped and displayed in the combination of the symbols corresponding to the above combination pattern in the variation display device.例文帳に追加
第1のモードにおいて選択され得る図柄の組合わせパターンのうち特定の図柄の組合わせパターンについては、第2のモードにおいて選択対象から外し、可変表示装置において図柄を当該組合わせパターンに対応する図柄の組合わせで停止表示させないよう構成した。 - 特許庁
This non-contact data carrier device 1 is provided with a plate-shaped non-contact data carrier 4 equipped with a hard substrate 2 having an antenna pattern and an IC chip 3 electrically connected to the antenna pattern and a mounting part 5 extended to the non-contact data carrier 4 so as to be mounted on the mounting object.例文帳に追加
非接触データキャリア装置1は、アンテナパターンを有する硬質基板2とこのアンテナパターンに電気的に接続されたICチップ3とを備えた板状の非接触データキャリア4と、前記非接触データキャリア4に延設され、かつ、取り付け対象物に取り付けるための取り付け部5とを備えている。 - 特許庁
In this ultrasonic welding machine composed of an ultrasonic vibrator, a horn 3 and a receiving jig 6 for supporting the object to be welded, an uneven pattern 5 corresponding to a character, a figure and a pattern is provided to the contact surface 4 coming into contact with the objects 1a and 1b to be welded of either one of the horn 3 and the receiving jig 6.例文帳に追加
超音波振動子と、ホーン3と、溶着対象物を支持する受け治具6からなる超音波溶着機において、文字、数字、図柄に対応した凹凸模様5がホーン3及び受け治具6の少なくとも一方の溶着対象物1a、1bに接する接触面4に設けられている。 - 特許庁
Then, a detection unit 108 detects a detection object based on a total feature amount concerning each composition pattern of the first cross area pattern group that is calculated by a feature amount calculation unit 107, and a strong discriminator which is stored by a discriminator storage unit 112 and is composed of a plurality of weak discriminator.例文帳に追加
そして、検出部108が、特徴量算出部107によって算出される、第1の交差領域パターングループの各構成パターンに関する総合特徴量と、識別器記憶部112に記憶されている、複数の弱識別器から構成される強識別器とに基づいて、検出対象を検出する。 - 特許庁
At the time of transferring a plotting instruction from a GUI instruction relay library 104 to a GUI instruction processing module 106, an instruction pattern analyzing and registering part 110 refers to an instruction pattern managing part 111, and when the instruction group is already registered, an object 109 for communication transfers only the identifier.例文帳に追加
GUI命令中継ライブラリ104からGUI命令処理モジュール106への描画命令転送の際、命令パターン解析・登録部110が命令パターン管理部111を参照し、当該命令群が登録済みの場合には通信用オブジェクト109がその識別子のみを転送する。 - 特許庁
Further, in an image forming apparatus, light emission part information on a light emission object serving as a combination of light emission parts E which light up at the detection time is changed so that the positions through which the position detection pattern and the toner pattern with their respective positions changed pass become positions to which spots by detection light from a main light-emitting part newly specified are irradiated.例文帳に追加
また、画像形成装置では、該位置変更した位置検出パターンやトナーパターンの通過する位置が、新たに特定された主発光部からの検出光によるスポットが照射される位置となるように、該検出時に点灯する発光部Eの組み合わせである発光対象の発光部情報を変更する。 - 特許庁
The coating method comprises the steps of: applying a primer coating to a surface of the object to be coated having a base metal defect; then applying a protrusion/recess pattern coating onto the coated surface using a pigmented coating (A); and further applying a multi-color pattern coating in spots onto the coated surface using two or more colors of pigmented coatings (B).例文帳に追加
素地欠陥を有する被塗物の表面に、プライマー塗装を行い、次いでその塗面上に着色塗料(A)を用いた凹凸模様塗装を行い、さらにその上に2色以上の着色塗料(B)を用いた斑点状の多色模様塗装を行なうことを特徴とする塗装方法。 - 特許庁
In this traffic information management system, the traveling required time of an automobile x on a route L_i is predicted based on a "similar pattern" similar to the current pattern (of the traveling required time of an automobile(traveling object) on the route L_i) in a current time zone by a traveling required time predicting unit 14.例文帳に追加
本発明の交通情報管理システムによれば、移動所要時間予測ユニット14により現時間帯における(経路L_i における自動車(移動体)xの移動所要時間の)現パターンに類似する「類似パターン」に基づき、経路L_i における自動車xの移動所要時間が予測される。 - 特許庁
The light is irradiated in the direction of the monitoring zone in accordance with a structured optical pattern, and received from the monitoring zone, the received light is converted into a reception signal, and the reception signal is evaluated on the existence of an object in the monitoring zone or the movement of the object.例文帳に追加
照射光が、構造化された光パターンに従って監視区域の方向に照射され、かつ、監視区域から受容され、その受容光は受信信号に変換され、および、その受信信号は、監視区域における対象物の存在に関して、または、対象物の移動に関して評価されることを特徴とする。 - 特許庁
The electronic watermark detector 10 is provided with a correlation detection section 12, that detects an electronic watermark component detection value WM which is the correlation value between an electronic watermark pattern W to be detected and detection object image data Y by each one a plurality of areas set to the detection object image data Y.例文帳に追加
電子透かし検出装置10は、検出すべき電子透かしパターンWと検出対象画像データYとの相関値である電子透かし成分検出値WMを、検出対象画像データYに対して設定した一又は複数の領域毎に検出する相関検出部12を備える。 - 特許庁
To provide a molding method which reduces the molded object weight difference between the end part and central part of a mold in multi-impression molding of a sheet to suppress the weight/strength fluctuations between molded objects, and is capable of obtaining the molded object reduced in the strain of a printing pattern caused by molding, and a mold therefor.例文帳に追加
複数個取りのシート成形で、金型端部と中央部の成形体重量差を少なくし、成形体間の重量・強度変動を抑えると共に、印刷樹脂フィルムを積層したシートの成形においては、成形による印刷図柄の歪みが少ない成形体をうる成形方法及び金型を提供する。 - 特許庁
The masking processing part 101 reads a character string included in the electronic document, and decides whether or not it is pertinent to a masking object character string showing the personal information according to a prefix, suffix or array pattern defined in the masking object decision dictionary 104, and performs such masking processing as turned letters according to the decision result.例文帳に追加
マスキング処理部101は、電子文書に含まれる文字列を読み込み、マスキング対象判定辞書104に定義された接頭辞,接尾辞又は配列パターンに応じて個人情報等を示すマスキング対象文字列に該当するか否かを判定し、当該判定結果に応じて伏字等のマスキング処理を行う。 - 特許庁
A triplet pattern with the most functionality with an object block is extracted based on the difference calculation of a pixel value from the object block and the reference block from 68 triplet patterns constituted of three representative points 221a, 221b, and 221c in a searching range 232 provided in a reference frame image.例文帳に追加
参照フレーム画像内に設けられた探索範囲232内の3つの代表点221a、221b、221cから構成された68個のトリプレットパターンの中から、対象ブロックと参照ブロックとの画素値の差分演算に基づいて、対象ブロックと最も相関性の高いトリプレットパターンを抽出する。 - 特許庁
The plurality of imaging units 5a, 5b and 5c are fixed to one trestle 4 movable in the approaching/separating direction (Z) with respect to the surface of an inspecting object 2, optical lens-based units 8b and 8c of the imaging units 5b and 5c are driven in the approaching/separating direction (Z) to perform focusing, and a pattern 3 formed on the inspecting object 2 is inspected.例文帳に追加
複数個の撮像ユニット5a,5b,5cを、被検査物2の表面に対して接近離間方向(Z)に移動可能な1つの架台4に固定し、撮像ユニット5b,5cの光学レンズ系ユニット8b,8cを接近離間方向(Z)に駆動してピント合わせして、被検査物2の上に形成されたパターン3を検査する。 - 特許庁
A board for displaying goods 1 is provided with a board body 10 which has a considered surface area required for displaying goods, the first sheet-like object 21 and the second sheet-like object 22, and the whole area of the top surface 14 of the board body 10 is formed with vertical grooves 12 and horizontal grooves 13 in a grid pattern at considered intervals.例文帳に追加
商品の陳列に必要な所定の表面積を有する平板状のボード本体10と、第1板状物21と、第2板状物22を備え、ボード本体10の天面14の全域に亘り、縦溝12と横溝13が所定の間隔で碁盤目状に多数形成されている商品陳列用ボード1。 - 特許庁
To provide a slow-cooling and slow-depressurizing device and method for a vacuum cooling apparatus, which enables both of slow-cooling control and slow-depressurizing control with a single device, permits easy setting of a cooling pattern in accordance with an object to be cooled, and ensures efficient operation in a short time without damaging the object to be cooled.例文帳に追加
一つの装置で徐冷制御も徐圧制御も可能であり、また被冷却物の種類に応じた冷却パターンが容易に設定でき、さらに被冷却物に損傷を与えることなく、短時間で効率良く、しかも確実性がある真空冷却装置の徐冷徐圧装置及び徐冷徐圧方法を得る。 - 特許庁
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